説明

試料台

【課題】 試料に電子線を照射する際に試料台の一部が電子線に対して影になる事を防ぐ試料台を提供すること。
【解決手段】 試料台本体120の先端120aに測定する試料を取り付けて、前記試料を固定する。試料台支持部110は、試料台本体120を挟み込んで、ハンダを溶融させたり、あるいは、かしめたりして試料台本体120を固定させる。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
この発明は、透過型電子顕微鏡分析及び電子線元素分析に於いて、観察用の薄膜試料を分析装置内に固定する為の試料台に関する。
【背景技術】
【0002】
従来の試料台においては、カートリッジ本体が試料ホルダに自在に脱着できるようになっている。試料ホルダには、カートリッジ本体を挿入するための挿入孔が備えられている。挿入孔に挿入されるカートリッジ本体をしっかりと保持するため、挿入孔には押さえバネが備えられている。カートリッジ本体にはガイド穴が備えられており、カートリッジ本体が挿入孔の底まで挿入されると、バネによってカートリッジ本体側に押圧されているボールがガイド穴に挿入され、カートリッジ本体は試料ホルダに安定に固定される。カートリッジ本体の先端部はカートリッジ本体の厚さより薄く形成されており、この部分にメッシュ状部が形成されている。このカートリッジ本体より薄く形成されているメッシュ状部は、このメッシュ状部により試料を掬い上げやすいようにカートリッジ本体から突出して形成されている(特許文献1参照)。
【0003】
また、一般的には、透過型電子顕微鏡分析に於いて分析用試料を固定する試料台は、通称メッシュと呼ばれて広く販売されている。透過型電子顕微鏡分析は通常の走査型電子顕微鏡と比べると高倍率で試料の観察が行える為に、半導体の構造解析や故障解析に広く用いられている。近年、半導体はその集積度が飛躍的に向上した為に、素子の大きさが集積度に反比例して小型化している。この為に、透過型電子顕微鏡分析で用いられる試料も小型化している。しかし、市販されている試料台は、一般的な試料に対応する形状のものが多く、これらの特殊な用途に対応していないのが現実である。
【0004】
ここで、透過型電子顕微鏡による試料の作成から画像観察までを、電子線励起のX線元素分析法に付いて説明する。先ず、観察したい部分1320を含む部分を直方体に切り出す。図13は、試料1310を切り出した状態を示している。次に、観察したい部分1330を試料1310の左右から切り込みを入れながら薄くしていき、一定の厚みになるまで薄くする。この薄くなった面を観察面1410とする。図14は、試料1310に切り込み1330を入れた状態を示している。
【0005】
近年、切り込みを入れる作業は、集束イオンビーム装置やイオンミリング装置で行われるのが一般的でる。これらの透過型電子顕微鏡の特性から、電子が透過する部分の試料厚みが薄いほど鮮明な画像が取れる。従って、直方体に切り出した試料1310の長手方向や切り込み残部の厚みが極力薄い方が好ましい。次に、切り込みを入れた試料1310を試料台1510に固定する。固定には導電性接着剤1410が用いられる。近年では、金属膜デポジション機能を持つ集束イオンビーム装置や電子ビーム装置で、金属膜を試料の側面に付けて固定する方法が一般的になって来ている。図15は、試料1310を試料台1510に固定した状態を示す。
【0006】
次に、透過型電子顕微鏡を用いて試料面を観察する方法を説明する。図16は、透過型電子顕微鏡による観察方法を示す。電子銃1610は電子線1620を発する。電子線1620は2つの電磁レンズ1630を通過すると、平行な電子線となる。この平行な電子線は、アパーチャ1640を通過して、透過型電子顕微鏡内部に固定された試料1670の試料面に当てられる。試料1670に当てられた電子線は、電磁レンズ1650により、拡散される。拡散された電子線は、電磁レンズ1650の下に敷いた感光紙1660に電子を当てて感光させ、試料面の像を得る。電子銃1610から発せられた電子線が、電磁レンズ1650の下に敷いた感光紙1660に電子を当たって、感光紙1660を感光させることで、試料面の像を得る。画像の濃淡は、透過する電子の量によって決まる。電子の透過率は、試料の材質に依って変化する。観察面1410の厚みが厚いと全体的に透過する電子の量が減る為に、コントラストがつきにくくなる。従って、試料面、つまり電子の透過部の厚みは、一般的には1ミクロン以下に押さえられている。
【0007】
次に試料面の元素分析に付いて説明する。図17は、電子線励起X線による元素分析を示す図である。電子銃1710から発せられた電子線1720は、2つの電磁レンズ1730を通過して試料1760に当たる。透過型電子顕微鏡では、電子線が試料1760に当たると、元素が励起される。これにより、特徴X線1750が放出される。この特徴X線の波長と量をX線検出器1740で測定することで、試料1760の元素とその量を特定する出来る。なお、特徴X線の検出には、一般的にガイガー計数管やシンチレータが用いられる。
【特許文献1】特開平8−17381号公報(0010〜0015段落及び図1参照)
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0008】
しかし、従来の試料台に於いて、試料1810のサイズが試料台1820の試料固定面と比較して非常に小さい場合、試料台1820の一部が通過する電子1830を妨げてしまい、試料面に電子1830が当たらない場合があり得る。そうなると、試料面の画像を取ることが出来なくなる。また、試料台1820は通常、電気的グランドに接続されている。試料台1820の試料固定面が大きいと、負に帯電した電子が吸収されてしったり、電子のトラジェクトリー(航路)が変わったりしてしまうおそれがある。このように、試料面の観察及び元素分析に於いて不具合が生じる。図18は試料が試料台の影になり、試料に電子線が届かない様子を示す。
【0009】
また、元素分析において、試料台1920に当たった電子1940がX線1950を励起し、このX線1950が検出器1930に飛び込んでノイズ成分となる。したがって、試料1910の正確な元素分析を妨げるおそれがある。図19は、電子線が試料台に当たって、X線が励起される状況を示す。試料台1920は通常、モリブデン等の試料が含まない元素が用いられているが、微量ながら不純物が含まれている場合が多い。この不純物が発するX線が試料固定面が大きくなり、その量が無視出来なくなると試料面から出たX線か、試料台から出たX線か判別出来なくなる。
【0010】
元素が励起されて発するX線は励起状態が異なる事で複数となり、不純物X線のピークが試料面から出たX線のピークに掛かってその存在を見難くし、判読を難しくする結果となる。従って、観察用試料に合った大きさの試料固定面を持つ試料台が必要となる。
【0011】
なお、試料台は試料台本体と試料台支持部の二つに分けた場合、試料台本体の材質は半導体試料を観察・分析する事から、半導体で用いられる事が少ない元素を含む材料且つ元素として剛性の高く、薄膜に加工し易い材料が好ましい。また、試料台が電気的グランドになる事から電気導通性は必須条件となる。近年、透過型電子顕微鏡による半導体の故障部観察は高分解能を要求される為に切り出された試料がより小さくなり、観察面の厚みも薄くなる傾向にある。切り出された試料の幅は5ミクロン程度が一般的となり、試料台の厚みもこれに近いものが理想となる。
【課題を解決するための手段】
【0012】
本発明の試料台は、先端に測定する試料を取り付けて前記試料を固定する試料台本体と、前記試料台本体を挟み込んで前記試料台本体を固定する試料台支持部と、を有する。
前記試料台本体は、前記試料の大きさに合わせて前記先端を切断し、前記切断された部分に前記試料を固定する。
【0013】
また、前記試料台支持部は、半円形の形状又は半円形の前記形状の直線部分に内側に向かって切り込み部分を設けた形状であって、前記半円形の形状の前記直線部分又は前記切込み部分を前記試料台本体側に向けて前記試料台本体を固定する。あるいは、前記試料台支持部は、リング形状の一部を削除した形状であって、削除された前記一部を前記試料台本体側に向けて前記試料台本体を固定する。
【0014】
前記試料台本体と前記試料台指示部は、前記試料台本体と前記試料台指示部の間にハンダを溶融させて固定する。あるいは、前記試料台指示部は、前記試料台指示部をかしめて前記試料台本体と前記試料台指示部を固定する。
そして、前記試料台本体は、前記試料台本体の厚みが前記試料の厚みと同等かそれ以下である。
【発明の効果】
【0015】
本発明は、試料台の大きさを試料の大きさに合わせる事ができる。これにより、試料台を構成する元素の元素分析結果に対する影響を防ぎ、観察の為の電子線を試料に照射する際に、試料台の一部が電子線に対して影になる事を防ぐ効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【0016】
【実施例1】
【0017】
本発明を実施するための形態を図面に基づいて説明する。
【0018】
まず、本発明の試料台の構造に付いて説明する。図1は試料台本体を表す斜視図である。試料台本体110は、半月型の形状(図1(a))かこの半月型の直線部分をV字型に切込みを入れた切り込み型の形状(図1(b))を使用する。半月型の形状は加工が容易な点で、試料台支持部110のコストを下げることが出来る。一方、切り込み型の形状は、試料の大きさの制限を受けにくいという利点がある。どちらを使用するかは、測定する試料の大きさ、形状や試料台のコスト等により選択する。試料台本体110の材質は、半導体で用いられる事が少ない元素を含む。これは、半導体試料を観察や分析する事から、電子線が試料台に当たったのか、試料に当たったのかが区別できないからである。また、元素として剛性が高く、薄膜に加工し易い材料が好ましい。例えばモリブデンやタングステンなどである。試料台110は電気的グランドになる事から、電気導通性は必須条件となる。近年、透過型電子顕微鏡による半導体の故障部観察は高分解能を要求される為に切り出された試料がより小さくなり、観察面の厚みも薄くなる傾向にある。切り出された試料の幅は5ミクロン程度が一般的となり、試料台110の厚みとこの厚みと同じか、それ以下であることが望ましい。測定時において、試料が試料台の影響をより受けづらくすることができるからである。
【0019】
次に、この試料台本体を使用した試料台について説明する。図2は、試料代の形状を示す。試料台支持部110の直径は3mmである。試料台本体120は、直径3mmの円盤から削り出す。このようにすると、同じ治具設定で試料台本体120と試料台支持部110とが研磨加工することが出来る為、コスト的に有利である。従って、試料台支持部に於いても直径3mmの円盤を用いて研磨加工し、所定の厚みに揃えた後に試料台支持部を切り出す方法を用いた。試料台本体の材質はモリブデン、タングステンなどを用いる。また、ステンレススチールでも構わない。また、試料台支持部110と試料台本体120の厚みは、共に5ミクロンとした。
【0020】
次に、試料台の製造方法について説明する。図10は、試料台の製造方法におけるフローチャートを示す。試料台本体120を加工するために、先ず、材料の板を用意する(行程201)。本実施例では、0.1ミリメートル厚みを有し、一辺が50ミリメートルのモリブデン角板を用いた。この材料を研磨する(行程202)。研磨方法は歪みを補正した鋳鉄の研磨盤に接着剤を薄く塗布する。接着剤は、スプレー式のアクリル系接着剤を使用した。研磨機は片面研磨機を使用する。なお、両面研磨機を使用しても構わない。粗研磨は、グリーンシリコンカーバイドの3000番の水溶液を用いる。第1面を加工した後に張り替え作業を行い、第2面も同様の研磨剤で研磨した。仕上げ研磨はシリコン乳剤を用い、粗研磨と同様に第1面の研磨後に張り替えて第2面の研磨を行う。最終の仕上げ厚みは、平均厚みで5ミクロンとした。試料台本体120の作成に於いて、原料を板状で研磨してから型取りをするのは、研磨する際に試料台本体120のエッジ部分が薄くなり、厚みバラツキが大きくなるのを防ぐ目的がある。
【0021】
次に研磨した板材の型取りを行う。原料の厚みは5ミクロンと既に薄い為に、原料の角材を先ずは所定の大きさに切断する(行程203)。切断にはダイシングソーを用いた。原料板310は、3.5ミリメートルの幅にダイシングブレード320を用いて切断する。この状態を図3に示す。切断幅が3.5ミリメートルで、切り代が0.5ミリメートルであると、50ミリメートル角の原料から一辺12枚、計144枚の板を切り出す事が出来る。次に切断した原料板440を集め、外周成形治具410にセットし、外周研削をする(行程204)。図4は、試料台本体の外周成形の状態を示す。原料板440は、外周成形治具410にセットされる。原料板440の外周は、砥石430を軸420を中心に回転させて研削する。砥石430はダイヤをメタルボンドで固めた物が相応しい。
【0022】
そして、原料板440を4等分する(行程205)。4等分の加工はダイヤカッターを使用する。図5は、原料板を4等分にする加工の状態を示す。ダイヤカッターを使用する理由は、ダイシングソーでは切り代が大き過ぎる事と試料を乗せる部分は最終的には研磨して作成する為、この段階で平坦ではなくて良い事がその理由である。
【0023】
次に、試料台支持部110の作成に付いて説明する。先ずは試料台支持部110に用いられる原料を用意する(行程211)。本実施例では原料にステンレススチール(SUS)を用いた。ステンレススチールの板は、0.05〜0.10ミリメートルの厚みの物を用意する。本実施例では、既に一辺が3.5ミリメートルにダイシングされた正方形の板を用意した。ステンレススチールの板を集めて、外周成形を行う(行程212)。外周成形の方法と治具は、図4で示したものと同じものを使用する。次に、ダイヤモンドカッター520を用いて試料台支持部110を2等分する(行程213)。図6は、2等分する方法である。2等分した試料台支持部110にダイヤホイール710を用いて切り込みを入れる(行程214)。本実施例では、電着型のダイヤホイールを用いた。その理由は、メタルボンド型に比べて初期の切れ味が勝っている為、切断面がシャープに切れ、つまりバリの発生が押さえられる為である。試料台支持部110を洗浄する(行程215)。
【0024】
次に、試料台本体120と試料台支持部110を組み立てる作業に付いて説明する。組み立てる方法は、熱カシメ法とハンダ付け法が一般的である。ここでは、リフローを用いたハンダ付け法の説明をする。先ず、試料台支持部110の片面にリフロー用のハンダクリームをスクリーン印刷で塗布する(行程221)。ハンダの種類は、通称64ハンダと呼ばれる鉛63%錫37%のハンダを使用した。ハンダの厚みは2〜3ミクロンとした。次に、試料台支持部110のハンダを塗布した面を内側にして、2枚の試料台支持部110で試料台本体120を挟み込む形で固定する(行程222)。図8は、固定した状態を示す。この状態でリフロー炉に流す(行程223)。ハンダは溶解し、2枚の試料台支持部110と試料台本体120は、ハンダによって固定される。
【0025】
最後に、試料台本体120の試料を乗せる部分120aを研磨加工する(行程224)。図9は、試料台100の尖端120aを研磨加工する方法を示した図である。押さえ治具910は両側から試料台100の先端部分120aを挟む形で保持し、反対側から砥石ホイール920が回転軸930を中心に回転しながら押さえ治具910に接近し、押さえ治具910の一部を切削する形で加工する。試料台100の尖端120aが押さえ治具910で固定されている上に、押さえ治具910自体が試料台尖端120aと共に削られるので、切削時の加工圧力で試料台尖端120aが変形する危険性が少ない。切削ホイール920は、0.5ミクロン平均粒径のダイヤを電着したものを使用した。本実施例では、ダイヤバフ研磨も試みてみた。ダイヤバフ研磨材は5ミクロン平均粒径のダイヤモンドを、ひまし油と防腐油に溶いたものを使用した。結果は、尖端120aが研磨された状態で良好であった。最後に、試料台120の尖端120aを研磨する方法の利点は、試料台100の一方方向の長さを試料に合わせる事が出来る点である。
【実施例2】
【0026】
次に、別の実施例について説明する。
図11は実施例2の試料台を示す模式図である。本実施例では、理想型に近く加工が容易なものを提案する。先ず、試料台1100は、試料台本体1120と試料台支持部1110に分けて、個々に作成する。その後に、試料台本体1120と試料台支持部1110を組み立てて、試料台1100を作る方法を取る。このような方法とする主な理由として、試料台本体1120は不純物の少ない特殊な金属を用いる為に高価である。しかし、試料台支持部1110は試料台本体1120を保持する目的と電子から受ける電荷を逃がす役目があるだけで、特に高価な材料を使う必要が無い。本実施例では試料台本体1120にモリブデンを用いたが、その他にタングステンなどでも可能で有る。試料台支持部1110の材質は電気導通性があり、材質的剛性が高いものが要求される為、本実施例では通常のステンレススチールを材質として用いた。
【0027】
試料台本体1120は、研磨加工で厚みを観察試料に合わせた後に分割した扇型形状の物を用いる。本実施例では3mmのモリブデン円盤を研磨し、厚みを5ミクロンに揃えた。分割は頂角が90度となる様、4等分割とした。試料固本体は頂角の部分1120aを平坦に加工して作成される。本実施例では4等分割した円弧の両端を結ぶ直線に対して水平になる様に頂角部分を研磨し、その長さを15ミクロンとした。
【0028】
図12は、試料台支持部1200を示す。試料台支持部1200は半円に近い円弧の形状を持ち、試料台本体1120を導電性の接合剤、例えばハンダや低温度溶融性金属や機械的接合、例えばカシメや圧着等で固定する。しかし、接合剤に付いて言えば試料の観察が極めて高真空の中で行われる為、アウトガスが極めて少ない事が望まれる。本実施例ではカシメ法を用いて試料台本体と試料台支持部を接合した。
【図面の簡単な説明】
【0029】
【図1】廉価版の試料台支持部を示す。図1(a)は月型の形状、図1(b)は切り込み型の形状を示す。
【図2】組上がり後の試料台の形状を示す。
【図3】ダイシングソーによる切断を示す。
【図4】試料台本体の外周成形を示す。
【図5】原料板の4等分切断を示す。
【図6】原料板の2等分切断を示す。
【図7】ダイヤホイールでの切り込みを示す。
【図8】試料台の合わせを示す。
【図9】試料台尖端の加工を示す。
【図10】試料台作成のフローチャートを示す。
【図11】理想的な試料台の形状を示す。図11(a)は理想的な試料台の外観形状、図11(b)は理想的な試料台の試料接着部拡大図を示す。
【図12】理想的な試料台支持部の形状を示す
【図13】切り出した透過型電子顕微鏡用試料を示す。
【図14】観察面加工した透過型電子顕微鏡用試料を示す。
【図15】試料台に試料を乗せた状態を示す。
【図16】透過型電子顕微鏡による観察を示す。
【図17】電子線励起X線による元素分析を示す。
【図18】試料台が電子線を遮る場合を示す。
【図19】試料台から出たX線で元素分析が影響する場合を示す。
【符号の説明】
【0030】
100 試料台
110 試料台指示部
120 試料台本体
310、510 原料板
320 切断ブレード
410 外周成形治具
430 砥石
520 ダイヤモンドカッター
710 ダイヤホイール
910 押さえ治具
920 切削ホイール

【特許請求の範囲】
【請求項1】
先端に測定する試料を取り付けて前記試料を固定する試料台本体と、
前記試料台本体を挟み込んで前記試料台本体を固定する試料台支持部と、
を有する試料台。
【請求項2】
前記試料台本体は、前記試料の大きさに合わせて前記先端を切断し、前記切断された部分に前記試料を固定する請求項1記載の試料台。
【請求項3】
前記試料台支持部は、半円形の形状又は半円形の前記形状の直線部分に内側に向かって切り込み部分を設けた形状であって、前記半円形の形状の前記直線部分又は前記切込み部分を前記試料台本体側に向けて前記試料台本体を固定した請求項1又は2記載の試料台。
【請求項4】
前記試料台支持部は、リング形状の一部を削除した形状であって、削除された前記一部を前記試料台本体側に向けて前記試料台本体を固定した請求項1又は2記載の試料台。
【請求項5】
前記試料台本体と前記試料台指示部は、前記試料台本体と前記試料台指示部の間にハンダを溶融させて固定する請求項1乃至4のいずれかに記載の試料台。
【請求項6】
前記試料台指示部は、前記試料台指示部をかしめて前記試料台本体と前記試料台指示部を固定する請求項1乃至4のいずれかに記載の試料台。
【請求項7】
前記試料台本体は、前記試料台本体の厚みが前記試料の厚みと同等かそれ以下である請求項1乃至6のいずれかに記載の試料台。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【図6】
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【図7】
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【図8】
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【図9】
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【図10】
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【図11】
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【図12】
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【図13】
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【図14】
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【図15】
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【図16】
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【図17】
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【図18】
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【図19】
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【公開番号】特開2006−73336(P2006−73336A)
【公開日】平成18年3月16日(2006.3.16)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2004−254800(P2004−254800)
【出願日】平成16年9月1日(2004.9.1)
【出願人】(000002325)セイコーインスツル株式会社 (3,629)
【Fターム(参考)】