赤外線反射層及び積層体
【課題】不要な熱線（赤外線）のみを選択的に反射させ、有用な光を透過させる赤外線反射層を提供することにあり、更には、光電変換素子等の素子やデバイス自体の温度上昇を防ぎ、発電効率を維持できる光電変換デバイス（特に太陽電池）を提供すること。
【解決手段】赤外線反射層として、下記一般式（１）で表される重合性光学活性イミド化合物（Ａ）、液晶化合物（Ｂ）及びラジカル重合開始剤（Ｃ）を含んでなり、上記重合性光学活性イミド化合物（Ａ）と上記液晶化合物（Ｂ）の含有量の合計を１００質量部としたときの、該重合性光学活性イミド化合物（Ａ）の含有量が０．１〜１０質量部である重合性組成物を重合させた重合物を用いる。
尚、上記一般式（１）の具体的な内容については、本願明細書に記載の通りである。
【解決手段】赤外線反射層として、下記一般式（１）で表される重合性光学活性イミド化合物（Ａ）、液晶化合物（Ｂ）及びラジカル重合開始剤（Ｃ）を含んでなり、上記重合性光学活性イミド化合物（Ａ）と上記液晶化合物（Ｂ）の含有量の合計を１００質量部としたときの、該重合性光学活性イミド化合物（Ａ）の含有量が０．１〜１０質量部である重合性組成物を重合させた重合物を用いる。
尚、上記一般式（１）の具体的な内容については、本願明細書に記載の通りである。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特定の構造を有する重合性光学活性イミド化合物を用いることで、光線（特に太陽光線）が照射された場合、熱線（赤外線）のみを反射させる特性を有する赤外線反射層及びその積層体に関し、更には、該赤外線反射層及びその積層体を用いた光電変換デバイスに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶テレビ、ビデオカメラのモニター等の液晶表示装置は、低消費電力化、低電圧駆動化が求められている。これらの要請に対し、液晶性物質の配向性、屈折率、誘電率、磁化率等の物理的性質の異方性を利用した位相差板、偏光板、光偏向プリズム、反射板等の光学異方体を応用することで、光源の利用率を高める方法や液晶表示素子の視野角特性を向上させる方法が検討されている。
【０００３】
これらの光学異方体は、重合性部位を有する液晶化合物又は重合性部位を有する液晶化合物を含む重合性組成物を配向させた状態で、紫外線等のエネルギー線を照射して重合させる方法によって得られる。つまり、得られる光学異方体は、分子配向性を保った状態で固定化されたものであり、高次構造的に制御された光学活性部位の効果によって、光学的異方性を示す重合体である。特許文献１及び２には、重合性基を有する光学活性化合物が開示されている。
【０００４】
また、近年、持続的に利用でき、資源が枯渇せず、環境汚染が小さい太陽光発電（太陽電池）が盛んに検討されている。太陽光発電において、発電に用いられる波長は主に１２００ｎｍより短波長の領域であり、１２００ｎｍより長波長の領域は不要であるだけでなく、熱線として太陽電池の温度を上昇させてしまう。太陽電池の発電効率は、温度上昇と共に低下することが知られており（特許文献３）、不要な熱線（赤外線）のみを反射させ、有用な光を透過させる赤外線反射層が望まれている。特許文献４には、赤外線反射層をバックシートに用い、近赤外領域の太陽光を反射させ、発電効率を高めることが開示され、特許文献５及び６には、液晶性組成物を用いた赤外線反射フィルタが開示されている。
しかしながら、未だ充分な性能を示す赤外線反射層が得られていないのが実状である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００８−１８９６０４号公報
【特許文献２】特開２０１０−７０４８２号公報
【特許文献３】特開昭５８−０４９８６０号公報
【特許文献４】特開２００９−１７８８５１号公報
【特許文献５】国際公開ＷＯ１９９９／０３６８０９パンフレット
【特許文献６】特開２００５−０３１１７０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従って、本発明の目的は、不要な熱線（赤外線）のみを選択的に反射させ、有用な光を透過させる赤外線反射層を提供することにあり、更には、光電変換素子等の素子やデバイス自体の温度上昇を防ぎ、発電効率を維持できる光電変換デバイス（特に太陽電池）を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、鋭意検討した結果、特定の構造を有する重合性光学活性イミド化合物、液晶化合物及びラジカル重合開始剤を特定の配合比で混合した重合性組成物を重合させるることで、赤外線のみを選択的に反射させ、有用な光を透過させる赤外線反射層が得られることを知見し、また、該赤外線反射層を光電変換デバイスに用いることで、光電変換素子等の素子やデバイス自体の温度上昇を防ぎ、発電効率を維持できること知見し、本発明を完成させた。
即ち、本発明は、下記一般式（１）で表される重合性光学活性イミド化合物（Ａ）、液晶化合物（Ｂ）及びラジカル重合開始剤（Ｃ）を含んでなり、
上記重合性光学活性イミド化合物（Ａ）と上記液晶化合物（Ｂ）の含有量の合計を１００質量部としたときの、該重合性光学活性イミド化合物（Ａ）の含有量が０．１〜１０質量部（好ましくは１〜５質量部）である重合性組成物を重合させた重合物からなり、赤外線を反射することを特徴とする赤外線反射層（好ましくは、８００ｎｍ〜２０００ｎｍの赤外線を反射し、特に好ましくは１２００ｎｍ〜１８００ｎｍの赤外線を反射する赤外線反射層）を提供することにより、上記目的を達成したものである。
【化１】
（式（１）中、環Ａ1、Ａ2、Ａ3及びＡ4は、それぞれ独立に、ベンゼン環又はナフタレン環を表し、該ベンゼン環及びナフタレン環中の炭素原子は、窒素原子で置換されていてもよく、
Ｍ1及びＭ2は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、
Ｒ1は、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基又は炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基を表し、Ｒ1中の水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、Ｒ1中のメチレン基は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で中断されていてもよく、
Ｘ1は、直接結合、−Ｌ1−、−Ｌ1Ｏ−、−Ｌ1Ｏ−ＣＯ−、−Ｌ1ＣＯ−Ｏ−又は−Ｌ1Ｏ−ＣＯ−Ｏ−を表し、Ｌ1及びＬ2は、それぞれ独立に、分岐を有していてもよい炭素原子数１〜８のアルキレン基を表し、該アルキレン基は酸素原子で１〜３回中断されていてもよく、
Ｘ2及びＸ5は、それぞれ独立に、直接結合、エステル結合、エーテル結合、分岐を有していてもよく、不飽和結合を有していてもよい炭素原子数１〜８のアルキレン基、又は、これらの組み合わせからなる連結基を表し、該アルキレン基は酸素原子で１〜３回中断されていてもよく、
Ｘ3は、直接結合、−ＣＯ−、−Ｌ2−、−ＯＬ2−、−Ｏ−ＣＯＬ2−、−ＣＯ−ＯＬ2−又は−Ｏ−ＣＯ−ＯＬ2−を表し、
Ｘ4は、直接結合、−ＣＯ−、−Ｌ1−、−Ｌ1Ｏ−、−Ｌ1Ｏ−ＣＯ−、−Ｌ1ＣＯ−Ｏ−又は−Ｌ1Ｏ−ＣＯ−Ｏ−を表し、
Ｘ6は、直接結合、−Ｌ2−、−ＯＬ2−、−Ｏ−ＣＯＬ2−、−ＣＯ−ＯＬ2−又は−Ｏ−ＣＯ−ＯＬ2−を表し、ｎ及びｍは、それぞれ独立に、０又は１を表す。）
【０００８】
また、本発明は、上記液晶化合物（Ｂ）が重合性官能基を有する液晶化合物であることを特徴とする上記赤外線反射層を提供するものである。
【０００９】
また、本発明は、上記重合性官能基を有する液晶化合物が下記一般式（４）で表される化合物であることを特徴とする上記赤外線反射層を提供するものである。
【化２】
（式中、環Ａ11、Ａ12及びＡ13は、それぞれ独立に、シクロヘキサン環、ベンゼン環、ナフタレン環を表し、
Ｌ11、Ｌ12及びＬ13は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−Ｘ15−Ｏ−ＣＯ−ＣＭ13＝ＣＨ2、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、炭素原子数１〜１０のアルキルカルボニル基、炭素原子数１〜１０のアルコキシカルボニル基又は炭素原子数１〜１０のアルキルカルボニルオキシ基を表し、
Ｍ11、Ｍ12及びＭ13は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、
Ｘ11、Ｘ12、Ｘ13、Ｘ14及びＸ15は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ11−、−ＮＲ11−ＣＯ−、−Ｏ（ＣＨ2）r−、−（ＣＨ2）sＯ−、−ＳＣＨ2−、−ＣＨ2Ｓ−、−ＣＦ2Ｏ−、−ＯＣＦ2−、−ＣＦ2Ｓ−、−ＳＣＦ2−、−ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＦ2ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＦ2−、−ＣＦ2ＣＦ2−、−ＣＨ＝ＣＲ11−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＦ−、−ＣＹ1＝ＣＹ1−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表し、Ｒ11は、水素原子又は炭素原子数１〜１２のアルキル基を表し、Ｙ1は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、メチル基又はエチル基を表し、ｒ及びｓは、それぞれ独立に１〜６の整数を表し、ｏ、ｐ及びｑは、それぞれ０〜４の整数を表す。）
【００１０】
また、本発明は、上記赤外線反射層を少なくとも一つ含んでなる積層体（好ましくは、（ｉ）上記重合性光学活性イミド化合物（Ａ）が下記一般式（２）で表わされる化合物である赤外線反射層と、(ii)上記重合性光学活性イミド化合物（Ａ）が下記一般式（３）で表される化合物である赤外線反射層とを少なくとも一組み含んでなる積層体）を提供するものである。
【化３】
（式中、環Ａ1〜Ａ4、Ｍ1、Ｍ2、Ｒ1、Ｘ1〜Ｘ6、ｎ及びｍは上記一般式（１）と同じである）
【化４】
（式中、環Ａ1〜Ａ4、Ｍ1、Ｍ2、Ｒ1、Ｘ1〜Ｘ6、ｎ及びｍは上記一般式（１）と同じである）
【００１１】
また、本発明は、上記赤外線反射層及び積層体を用いた光電変換デバイスを提供するものである。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、不要な熱線（赤外線）のみを反射させ、有用な光を透過させる赤外線反射層を提供できる。また、本発明によれば、光電変換素子等の素子やデバイス自体の温度上昇を防ぎ、発電効率を維持できる光電変換デバイスを提供できる。該光電変換デバイスは、太陽電池に好適に使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】図１（ａ）は、本発明の積層体の好ましい一実施形態を示す断面図であり、図１（ｂ）は、本発明の積層体の好ましい別の一実施形態を示す断面図であり、図１（ｃ）は、本発明の積層体の好ましい更に別の一実施形態を示す断面図である。
【図２】図２は、実施例５及び７における積層体の製造工程を示す断面図である。
【図３】図３（ａ）は、本発明の赤外線反射層を有する積層体を使用してなる光電変換デバイスの好ましい一実施形態を示す断面図であり、図３（ｂ）は、本発明の赤外線反射層を有する積層体を使用してなる光電変換デバイスの好ましい別の一実施形態を示す断面図である。
【図４】図４は、実施例１で作製した積層体Ｎｏ．１の反射・透過スペクトルを示す図である。
【図５】図５は、実施例２で作製した積層体Ｎｏ．２の反射・透過スペクトルを示す図である。
【図６】図６は、実施例４で作製した積層体Ｎｏ．４の反射・透過スペクトルを示す図である。
【図７】図７は、実施例５で作製した積層体Ｎｏ．５の反射・透過スペクトルを示す図である。
【図８】図８は、実施例６で作製した積層体Ｎｏ．６の反射・透過スペクトルを示す図である。
【図９】図９は、実施例７で作製した積層体Ｎｏ．７の反射・透過スペクトルを示す図である。
【図１０】図１０は、実施例１０で作製した積層体Ｎｏ．１０の反射・透過スペクトルを示す図である。
【図１１】図１１は、実施例１１で作製した積層体Ｎｏ．１１の反射・透過スペクトルを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明の赤外線反射層、積層体、及び該赤外線反射層又は積層体を使用してなる光電変換デバイスについて、その好ましい実施形態に基づき詳細に説明する。
【００１５】
先ず、本発明の赤外線反射層について説明する。本発明の赤外線反射層は、重合性組成物から重合させた重合物からなる。該重合物を構成する重合性組成物は、上記一般式（１）で表される重合性光学活性イミド化合物（Ａ）、液晶化合物（Ｂ）及びラジカル重合開始剤（Ｃ）を含んでなる。以下、各成分について順に説明する。
【００１６】
＜上記一般式（１）で表される重合性光学活性イミド化合物（Ａ）＞
上記一般式（１）中、Ｒ1で表される炭素原子数１〜１０のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、ｔ−アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、イソヘプチル、ｔ−ヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、ｔ−オクチル、２−エチルヘキシル等が挙げられ、炭素原子数６〜２０のアリール基としては、フェニル、ナフチル、２−メチルフェニル、３−メチルフェニル、４−メチルフェニル、４−ビニルフェニル、３−イソプロピルフェニル等が挙げられ、炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基としては、ベンジル、フェネチル、２−フェニルプロパン−２−イル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、スチリル、シンナミル等が挙げられ、上記Ｒ1の水素原子は、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子で置換されていてもよく、上記Ｒ1のメチレン基は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で中断されていてもよい。
【００１７】
上記一般式（１）中、Ｌ1及びＬ2で表される分岐を有していてもよい炭素原子数１〜８のアルキレン基としては、メチレン、エチレン、プロピレン、トリメチレン、テトラメチレン、１，３−ブタンジイル、２−メチル−１，３−プロパンジイル、２−メチル−１，３−ブタンジイル、２，４−ペンタンジイル、１，４−ペンタンジイル、３−メチル−１，４−ブタンジイル、２−メチル−１，４−ペンタンジイル、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、ヘプタメチレン、オクタメチレン等の直鎖の又は分岐を有するアルキレン基が挙げられ、これらの基は酸素原子で１〜３回中断されてもよい。
上記一般式（１）中、Ｘ2及びＸ5で表される分岐を有していてもよく、不飽和結合を有していてもよい炭素原子数１〜８のアルキレン基としては、上記Ｌ1及びＬ2の説明で例示した基のほか、これらの基のアルキレン（アルキル）部分が不飽和結合で中断された基等が挙げられ、これらの基は酸素原子で１〜３回中断されてもよい。
【００１８】
上記一般式（１）で表される重合性光学活性イミド化合物（Ａ）は、光学活性を有する化合物である。光学活性とは、旋光性を有することであり、直線偏光が通過する際に回転を起こさせる化合物のことをいう。即ち、本発明に用いられる重合性光学活性イミド化合物（Ａ）は、上記一般式（１）で表される化合物のうち、旋光度を測定した際に、右旋性又は左旋性を示す化合物であり、具体的には、上記一般式（２）で表わされる化合物又はそのエナンチオマー体である上記一般式（３）で表わされる化合物の何れか一方、又はこれらの混合物であって光学活性を有するものである。
【００１９】
上記一般式（２）で表される化合物の具体的な構造としては、下記に示す化合物Ｎｏ．１〜Ｎｏ．３４等が挙げられる。また、上記一般式（３）で表される化合物の具体的な構造としては、下記に示す化合物それぞれのエナンチオマー体が挙げられる。但し、本発明はこれらの化合物により制限を受けるものではない。
【００２０】
【化５】
【００２１】
【化６】
【００２２】
【化７】
【００２３】
【化８】
【００２４】
【化９】
【００２５】
【化１０】
【００２６】
【化１１】
【００２７】
上記一般式（１）で表わされる重合性光学活性イミド化合物（Ａ）の中でも、上記一般式（１）中、Ｘ3及びＸ4が共に−ＣＯ−である重合性光学活性イミド化合物は、製造面で有利であり、化学的及び熱的に安定性が高いため好ましく、上記一般式（１）中、環Ａ2及びＡ3が共にナフタレン環である重合性光学活性イミド化合物、又は環Ａ1、Ａ2、Ａ3及びＡ4が全てベンゼン環である重合性光学活性イミド化合物は、母液晶との相溶性に優れるため更に好ましい。
【００２８】
また、上記一般式（１）中、Ｍ1及びＭ2が、共に水素原子である重合性光学活性イミド化合物は、重合反応性や溶剤溶解性が高いため好ましく、上記一般式（１）中、環Ａ1と環Ａ4及び環Ａ2と環Ａ3がそれぞれ同一の環であり、Ｍ1とＭ2、Ｘ1とＸ6、Ｘ2とＸ5及びＸ3とＸ6がそれぞれ同一の基であり、ｎとｍが同一の数である重合性光学活性イミド化合物は、製造面とコストの面で有利であるため好ましい。
【００２９】
また、上記一般式（１）中、Ｘ1及びＸ6が分岐を有していてもよい炭素原子数１〜８のアルキレン基である重合性光学活性イミド化合物は、容易に製造可能であるため更に好ましい。
【００３０】
また、上記一般式（１）中、Ｒ1が、炭素原子数１〜１０のアルキル基である重合性光学活性イミド化合物は、高いＨＴＰ（らせん誘起力）を有するため好ましく、中でもＲ1が、メチル基である重合性光学活性イミド化合物は、特に高いＨＴＰを有するため更に好ましい。
【００３１】
上記一般式（１）で表される重合性光学活性イミド化合物（Ａ）は、その製造方法については特に限定されず、公知の反応を応用して製造することができる。例えば、特開２０１０−７０４８２号公報に記載の方法で製造することができる。
【００３２】
本発明に用いられる重合性組成物において、上記一般式（１）で表される重合性光学活性イミド化合物（Ａ）の含有量は、上記重合性光学活性イミド化合物（Ａ）と後述する液晶化合物（Ｂ）の含有量の合計を１００質量部としたとき、０．１〜１０質量部であり、好ましくは、１〜５質量部である。本発明では、上記重合性組成物中の重合性光学活性イミド化合物（Ａ）と液晶化合物（Ｂ）の比率を上記の範囲内で変化させることにより、反射する赤外線の波長を調節することができ、所望の波長領域に対して反射特性を有する赤外線反射層を得ることができる。
尚、上記重合性光学活性イミド化合物（Ａ）の含有量が０．１重量部未満であると、所望のピッチ長（反射特性）が得られず、１０質量部超であると、可視光に反射特性を示してしまうため好ましくない。
【００３３】
＜液晶化合物（Ｂ）＞
本発明で用いられる液晶化合物（Ｂ）には、従来既知の液晶化合物及び液晶類似化合物並びにそれらの混合物が含まれる。
上記液晶化合物（Ｂ）としては、通常一般に使用される液晶化合物を使用することができ、該液晶化合物（Ｂ）の具体例としては、特に制限するものではないが、例えば、下記〔化１２〕及び〔化１３〕に示す化合物Ｎｏ．３５〜Ｎｏ．６３等が挙げられる。尚、〔化１２〕及び〔化１３〕中のＷ1は、水素原子、分岐を有してもよい炭素原子数１〜８のアルキル基、分岐を有してもよい炭素原子数１〜８のアルコキシ基、分岐を有してもよい炭素原子数１〜８のアルケニル基、分岐を有してもよい炭素原子数１〜８のアルケニルオキシ基、分岐を有してもよい炭素原子数１〜８のアルキニル基、分岐を有してもよい炭素原子数１〜８のアルキニルオキシ基、分岐を有してもよい炭素原子数１〜８のアルコキシアルキル基、分岐を有してもよい炭素原子数１〜８のアルカノイルオキシ基又は分岐を有してもよい炭素原子数１〜８のアルコキシカルボニル基を表し、これらは、ハロゲン原子、シアノ基等で置換されていてもよく、Ｗ2は、シアノ基、ハロゲン原子、又はＷ1で表される基を示し、Ｗ3、Ｗ4及びＷ5は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はシアノ基を表す。
【００３４】
【化１２】
【００３５】
【化１３】
【００３６】
また、本発明に用いられる重合性組成物においては、上記液晶化合物（Ｂ）として、重合性官能基を有する液晶化合物が好ましく使用される。該重合性官能基としては、（メタ）アクリロイルオキシ基、フルオロアクリル基、クロロアクリル基、トリフルオロメチルアクリル基、オキシラン環（エポキシ）、オキセタン環、スチレン化合物（スチリル基）、ビニル基、ビニルエーテル基、ビニルケトン基、マレイミド基、フェニルマレイミド基等が好ましく、特に、製造が容易であるため、（メタ）アクリロイルオキシ基が好ましい。該重合性官能基を有する液晶化合物としては、通常一般に使用されるものを用いることができ、その具体例としては、特に制限するものではないが、特開２００５−１５４７３号公報の段落［０１７２］〜［０３１４］に記載の化合物、及び下記〔化１４〕〜〔化２５〕に示す化合物Ｎｏ．６４〜Ｎｏ．１８１Ａ等が挙げられる。
【００３７】
【化１４】
【００３８】
【化１５】
【００３９】
【化１６】
【００４０】
【化１７】
【００４１】
【化１８】
【００４２】
【化１９】
【００４３】
【化２０】
【００４４】
【化２１】
【００４５】
【化２２】
【００４６】
【化２３】
【００４７】
【化２４】
【００４８】
【化２５】
【００４９】
【化２５−１】
【００５０】
これらの液晶化合物（Ｂ）の中でも、上記一般式（４）で表される化合物は、重合性及び液晶性に優れるため好ましい。また、（メタ）アクリレート基が２つ以上の液晶化合物は、硬化性、耐熱性及び耐溶剤性に優れるため好ましく、（メタ）アクリレート基が２つ以下の液晶化合物は、溶剤への溶解性に優れるため好ましい。また、液晶化合物中にハイドロキノンジエステル骨格を有するものは、液晶性、溶解性及び生産性に優れるため好ましく、環がベンゼン環のみで形成される液晶化合物は、重合後の硬化物が無色透明であるため好ましく、環がベンゼン環とナフタレン環の組み合わせで形成される液晶化合物は、液晶性に優れるため好ましい。
【００５１】
上記一般式（４）中、Ｌ11、Ｌ12及びＬ13で表わされる炭素原子数１〜１０のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、ｔ−アミル、ヘキシル、ヘプチル、イソヘプチル、ｔ−ヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、ｔ−オクチル、２−エチルヘキシル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル等が挙げられ、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基としては、メチルオキシ、エチルオキシ、プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ブチルオキシ、ｓ−ブチルオキシ、ｔ−ブチルオキシ、イソブチルオキシ、アミルオキシ、イソアミルオキシ、ｔ−アミルオキシ、ヘキシルオキシ、シクロヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、イソヘプチルオキシ、ｔ−ヘプチルオキシ、ｎ−オクチルオキシ、イソオクチルオキシ、ｔ−オクチルオキシ、２−エチルヘキシルオキシ等が挙げられ、炭素原子数１〜１０のアルキルカルボニル基としては、アセチル、１−カルボニルエチル、１−カルボニルプロピル、１−カルボニルイソプロピル、シクロペンタンカルボニル等が挙げられ、炭素原子数１〜１０のアルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル基等が挙げられ、炭素原子数１〜１０のアルキルカルボニルオキシ基としては、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ等が挙げられる。
また、上記一般式（４）中、Ｘ11で表わされる炭素原子数１〜１２のアルキル基としては、Ｌ11、Ｌ12及びＬ13で表わされる炭素原子数１〜１０のアルキル基の説明で例示した基と同様の基が挙げられる。
【００５２】
＜ラジカル重合開始剤（Ｃ）＞
上記ラジカル重合開始剤（Ｃ）としては、従来既知の化合物を用いることが可能であり、例えば、ベンゾインブチルエーテル等のベンゾインエーテル類；ベンジルジメチルケタール等のベンジルケタール類；１−ヒドロキシ−１−ベンゾイルシクロヘキサン、２−ヒドロキシ−２−ベンゾイルプロパン、２−ヒドロキシ−２−（４'−イソプロピル）ベンゾイルプロパン等のα−ヒドロキシアセトフェノン類；４−ブチルベンゾイルトリクロロメタン、４−フェノキシベンゾイルジクロロメタン等のクロロアセトフェノン類；１−ベンジル−１−ジメチルアミノ−１−（４'−モルホリノベンゾイル）プロパン、２−モルホリル−２−（４'−メチルメルカプト）ベンゾイルプロパン、９−ｎ−ブチル−３，６−ビス（２'−モルホリノイソブチロイル）カルバゾール、２−メチル−１−[４−（メチルチオ）フェニル]−２−モルホリノプロパン−１−オン等のα−アミノアセトフェノン類；ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキシド等のアシルホスフィンオキシド類；ベンジル、ベンゾイル蟻酸メチル等のα−ジカルボニル類；ｐ−メトキシフェニル−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ナフチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ブトキシスチリル）−ｓ−トリアジン等のトリアジン類；特開２０００−８００６８号公報、特開２００１−２３３８４２号公報、特開２００５−９７１４１号公報、特表２００６−５１６２４６号公報、特許第３８６０１７０号公報、特許第３７９８００８号公報、ＷＯ２００６／０１８９７３号公報に記載の化合物等のα−アシルオキシムエステル類；過酸化ベンゾイル、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、エチルアントラキノン、１，７−ビス（９'−アクリジニル）ヘプタン、チオキサントン、１−クロル−４−プロポキシチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベンゾフェノン、フェニルビフェニルケトン、４−ベンゾイル−４'−メチルジフェニルスルフィド、２−（ｐ−ブトキシスチリル）−５−トリクロロメチル−１，３，４−オキサジアゾール、９−フェニルアクリジン、９，１０−ジメチルベンズフェナジン、ベンゾフェノン／ミヒラーズケトン、ヘキサアリールビイミダゾール／メルカプトベンズイミダゾール、チオキサントン／アミン等が挙げられ、市販品としては、Ｎ−１４１４、Ｎ−１７１７、Ｎ−１９１９、ＰＺ−４０８、ＮＣＩ−８３１、ＮＣＩ−９３０（（株）ＡＤＥＫＡ社製）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７、ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４、ＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯ、ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ０１、ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ（株）社製）等が挙げられる。これらの中でも、エネルギー線に対するラジカル発生の感度が良好であり、安定性の高い重合膜が製造可能であることから、下記一般式（ａ）又は（ｃ）で表される化合物が好ましい。
【００５３】
【化２６】
（式中、Ｒ71、Ｒ72及びＲ73は、それぞれ独立に、Ｒ、ＯＲ、ＣＯＲ、ＳＲ、ＣＯＮＲＲ’又はＣＮを表し、Ｒ及びＲ’は、それぞれ独立に、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基又は複素環基を表し、これらはハロゲン原子及び／又は複素環基で置換されていてもよく、これらのうちアルキル基及びアリールアルキル基のアルキレン部分は、不飽和結合、エーテル結合、チオエーテル結合、又はエステル結合により中断されていてもよく、また、Ｒ及びＲ’は一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ74は、ハロゲン原子又はアルキル基を表し、Ｒ75は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基又は下記一般式（ｂ）で表される置換基を表し、ｇは０〜４の整数であり、ｇが２以上の時、複数のＲ74は異なる基でもよい。）
【化２７】
（式中、環Ｍはシクロアルカン環、芳香環又は複素環を表し、Ｘ73はハロゲン原子又はアルキル基を表し、Ｙ71は酸素原子、硫黄原子又はセレン原子を表し、Ｚ71は炭素原子数１〜５のアルキレン基を表し、ｈは０〜４の整数であり、ｈが２以上の時、複数のＸ73は異なる基でもよい。）
【００５４】
【化２８】
（式中、Ｒ21及びＲ22は、それぞれ独立に、Ｒ31、ＯＲ31、ＣＯＲ31、ＳＲ31、ＣＯＮＲ32Ｒ33又はＣＮを表し、
Ｒ31、Ｒ32及びＲ33は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、炭素原子数７〜３０のアリールアルキル基又は炭素原子数２〜２０の複素環基を表し、
Ｒ31、Ｒ32及びＲ33で表わされる置換基の水素原子は、更にＯＲ41、ＣＯＲ41、ＳＲ41、ＮＲ42Ｒ43、ＣＯＮＲ42Ｒ43、−ＮＲ42−ＯＲ43、−ＮＣＯＲ42−ＯＣＯＲ43、−Ｃ（＝Ｎ−ＯＲ41）−Ｒ42、−Ｃ（＝Ｎ−ＯＣＯＲ41）−Ｒ42、ＣＮ、ハロゲン原子、又はＣＯＯＲ41で置換されていてもよく、
Ｒ41、Ｒ42及びＲ43は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、炭素原子数７〜３０のアリールアルキル基又は炭素原子数２〜２０の複素環基を表し、
Ｒ41、Ｒ42及びＲ43で表される置換基の水素原子は、更にＣＮ、ハロゲン原子、水酸基又はカルボキシル基で置換されていてもよく、
Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ41、Ｒ42及びＲ43で表される置換基のアルキレン部分は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＮＲ44−、−ＮＲ44ＣＯＯ−、−ＯＣＯＮＲ44−、−ＳＣＯ−、−ＣＯＳ−、−ＯＣＳ−又は−ＣＳＯ−により１〜５回中断されていてもよく、
Ｒ44は、水素原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、炭素原子数７〜３０のアリールアルキル基又は炭素原子数２〜２０の複素環基を表し、
Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ41、Ｒ42及びＲ43で表される置換基のアルキル部分は、分岐側鎖があってもよく、環状アルキルであってもよく、また、Ｒ32とＲ33及びＲ42とＲ43はそれぞれ一緒になって環を形成していてもよく、
Ｒ23及びＲ24は、それぞれ独立に、水素原子を除くＲ31、ＯＲ31、ＳＲ31、ＣＯＲ31、ＣＯＮＲ32Ｒ33、ＮＲ32ＣＯＲ31、ＯＣＯＲ31、ＣＯＯＲ31、ＳＣＯＲ31、ＯＣＳＲ31、ＣＯＳＲ31、ＣＳＯＲ31、ＮＯ2、ＣＮ、ハロゲン原子又は下記一般式（ｄ）で表わされる基を表し、
ａ及びｂは、それぞれ独立に、０〜４の整数を表し、
Ｘは、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、ＣＲ51Ｒ52、ＣＯ、ＮＲ53又はＰＲ54を表し、
Ｒ51、Ｒ52、Ｒ53及びＲ54は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基又は炭素原子数７〜３０のアリールアルキル基を表し、Ｒ51、Ｒ52、Ｒ53及びＲ54で表される置換基のアルキル部分は、分岐側鎖があってもよく、環状アルキルであってもよく、Ｒ51、Ｒ52、Ｒ53及びＲ54は、それぞれ独立に、隣接するどちらかのベンゼン環と一緒になって環を形成していてもよい。）
【化２８−１】
（式中、Ｚ21は、結合手であって、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ42−、−ＮＲ42ＣＯ−、−ＳＯ2−、−ＣＳ−、−ＯＣＯ−又は−ＣＯＯ−を表し、
Ｚ22は、結合手であって、１〜３のＲ25で置換された炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、炭素原子数７〜３０のアリールアルキル基又は炭素原子数２〜２０の複素環基を表し、
Ｚ22で表される結合手のアルキレン部分は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＮＲ42−、−ＮＲ42ＣＯＯ−、−ＯＣＯＮＲ42−、−ＳＣＯ−、−ＣＯＳ−、−ＯＣＳ−又は−ＣＳＯ−により１〜５回中断されていてもよく、Ｚ22で表される結合手のアルキレン部分は分岐側鎖があってもよく、環状アルキレンであってもよく。
Ｒ25は、ＯＲ61、ＳＲ61、ＣＯＮＲ62Ｒ63、ＮＲ62ＣＯＲ63、ＯＣＯＲ61、ＣＯＯＲ61、ＳＣＯＲ61、ＯＣＳＲ61、ＣＯＳＲ61、ＣＳＯＲ61、ＣＮ又はハロゲン原子を表し、
Ｒ61、Ｒ62及びＲ63は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基又は炭素原子数７〜３０のアリールアルキル基を表し、Ｒ61、Ｒ62及びＲ63で表される置換基のアルキル部分は分岐側鎖があってもよく、環状アルキルであってもよく、Ｒ62とＲ63は、一緒になって環を形成していてもよく、
ｃは１〜３の整数を表す。）
【００５５】
本発明に用いられる重合性組成物において、上記ラジカル重合開始剤（Ｃ）の含有量は、上記重合性光学活性イミド化合物（Ａ）と上記液晶化合物（Ｂ）との合計量１００質量部に対して、１０質量部以下であることが好ましく、５質量部以下が更に好ましく、０．１〜３質量部の範囲内が最も好ましい。上記ラジカル開始剤（Ｃ）の含有量が、１０質量部超であると、層中に析出物が発生することがあり不安定なため好ましくない。
【００５６】
また、上記ラジカル重合開始剤（Ｃ）は、増感剤と併用することが好ましい。かかる増感剤としては、チオキサントン、フェノチアジン、クロロチオキサントン、キサントン、アントラセン、ジフェニルアントラセン、ルプレン等が挙げられる。上記ラジカル重合開始剤（Ｃ）及び上記増感剤を併用する場合、両者は合計量として上記の好ましい含有量の範囲内であることが好ましい。
【００５７】
本発明に用いられる重合性組成物は、必要に応じて用いられる他の単量体（エチレン性不飽和結合を有する化合物）と共に、溶剤に溶解して溶液にすることができる。通常、本発明の赤外線反射層を均一で平坦な層として得るには、本発明に用いられる重合性組成物を溶剤に溶解して塗布することが好ましい。
【００５８】
上記他の単量体としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、第二ブチル（メタ）アクリレート、第三ブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、アリルオキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、１−フェニルエチル（メタ）アクリレート、２−フェニルエチル（メタ）アクリレート、フルフリル（メタ）アクリレート、ジフェニルメチル（メタ）アクリレート、ナフチル（メタ）アクリレート、ペンタクロルフェニル（メタ）アクリレート、２−クロルエチル（メタ）アクリレート、メチル−α−クロル（メタ）アクリレート、フェニル−α−ブロモ（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１,４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１,６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エステル、ジアセトンアクリルアミド、スチレン、ビニルトルエン、ジビニルベンゼン等が挙げられる。
【００５９】
本発明に係る重合性組成物を用いて作製される重合体の耐熱性及び光学特性を確保するために、他の単量体の含有量は、上記重合性光学活性イミド化合物（Ａ）と上記液晶化合物（Ｂ）との合計量１００質量部に対して、５０質量部以下が好ましく、３０質量部以下が更に好ましい。
【００６０】
上記溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、ｎ−ブチルベンゼン、ジエチルベンゼン、テトラリン、メトキシベンゼン、１，２−ジメトキシベンゼン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルホルムアミド、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、ｔ−ブチルアルコール、ジアセトンアルコール、グリセリン、モノアセチレン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、ヘキシレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ等が挙げられる。これらの溶剤は単一化合物であってもよいし、又は混合物であってもよい。これらの溶剤の中でも、沸点が６０〜２５０℃のものが好ましく、６０〜１８０℃のものが特に好ましい。沸点が６０〜２５０℃のものとしては、トルエン、キシレン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを好ましく挙げることができる。溶剤の沸点が６０℃より低いと塗布工程で溶剤が揮発して層の厚さにムラが生じやすく、溶剤の沸点が２５０℃より高いと脱溶剤工程で減圧しても溶剤が残留したり、高温での処理による熱重合を誘起したりして配向性が低下する場合がある。溶剤の使用量は特に制限されるものではないが、溶解性及び塗布性を良好にする観点からは、本発明に用いられる重合性組成物中に固形分（溶剤以外の全成分）が３〜９０質量％となるように溶剤を使用することが好ましい。
【００６１】
また、本発明に用いられる重合性組成物には、選択反射波長及び液晶化合物との相溶性等を調節することを目的として、他の光学活性化合物を添加することができる。かかる光学活性化合物としては、例えば下記〔化２９〕に示される化合物Ｎｏ．１８２〜Ｎｏ．１９４等を挙げることができる。上記他の光学活性化合物を添加する場合、その添加量は、上記重合性光学活性イミド化合物（Ａ）と上記液晶化合物（Ｂ）との合計量１００質量部に対し、０．１〜１００質量部の範囲内が好ましく、１〜５０質量部の範囲内が更に好ましい。
【００６２】
【化２９】
【００６３】
また、本発明に用いられる重合性組成物には、空気界面側に分布する排除体積効果を有する界面活性剤をさらに添加することができる。該界面活性剤としては、重合性組成物を支持基板等に塗布することを容易にしたり、液晶相の配向を制御したりする等の効果を与えるものが好ましい。かかる界面活性剤としては、４級アンモニウム塩、アルキルアミンオキサイド、ポリアミン誘導体、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン縮合物、ポリエチレングリコール及びそのエステル、ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸アンモニウム、ラウリル硫酸アミン類、アルキル置換芳香族スルホン酸塩、アルキルリン酸塩、ペルフルオロアルキルスルホン酸塩、ペルフルオロアルキルカルボン酸塩、ペルフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、ペルフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩等が挙げられる。上記界面活性剤の好ましい添加量は、界面活性剤の種類、組成物の成分比等に依存するが、上記重合性光学活性イミド化合物（Ａ）と上記液晶化合物（Ｂ）との合計量１００質量部に対して、０．０１〜５質量部の範囲内が好ましく、０．０５〜１質量部の範囲内が更に好ましい。
【００６４】
また、本発明に用いられる重合性組成物には、更に、重合性組成物の特性を調製するための添加剤を添加してもよい。かかる添加剤としては、例えば、保存安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、微粒子化物、並びに機能性化合物等が挙げられる。
【００６５】
上記保存安定剤は、重合性組成物の保存安定性を向上させる効果を付与することができる。使用できる保存安定剤としては、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノアルキルエーテル類、第三ブチルカテコール類、ピロガロール類、チオフェノール類、ニトロ化合物類、２−ナフチルアミン類、２−ヒドロキシナフタレン類等が挙げられる。上記保存安定剤を添加する場合、その添加量は、上記重合性光学活性イミド化合物（Ａ）と上記液晶化合物（Ｂ）との合計量１００質量部に対して、１質量部以下が好ましく、０．５質量部以下が更に好ましい。
【００６６】
上記酸化防止剤としては、特に制限なく公知の化合物を使用することができ、ヒドロキノン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール、トリフェニルホスファイト、トリアルキルホスファイト等を用いることができる。
【００６７】
上記紫外線吸収剤としては、特に制限なく公知の化合物を使用することができ、例えば、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、シアノアクリレート系化合物又はニッケル錯塩系化合物によって紫外線吸収能をもたせたものを用いることが出来る。
【００６８】
上記微粒子化物は、光学（屈折率）異方性（Δｎ）を調整したり、重合体の強度を上げたりするために使用することができる。上記微粒子化物の材質としては、無機物、有機物、金属等が挙げられる。凝集防止のため、上記微粒子化物としては、０．００１〜０．１μｍの粒子径のものが好ましく、０．００１〜０．０５μｍの粒子径のものが更に好ましい。また、粒子径の分布はシャープであるものが好ましい。上記微粒子化物は、上記重合性光学活性イミド化合物（Ａ）と上記液晶化合物（Ｂ）との合計量１００質量部に対して、０．１〜３０質量部の範囲内で使用することが好ましい。
【００６９】
上記無機物としては、セラミックス、フッ素金雲母、フッ素四ケイ素雲母、テニオライト、フッ素バーミキュライト、フッ素ヘクトライト、ヘクトライト、サポナイト、スチブンサイト、モンモリロナイト、バイデライト、カオリナイト、フライポンタイト、ＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＣｅＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｆｅ2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＭｇＦ2、ＳｉＯ2、ＳｒＣＯ3、Ｂａ（ＯＨ）2、Ｃａ（ＯＨ）2、Ｇａ（ＯＨ）3、Ａｌ（ＯＨ）3、Ｍｇ（ＯＨ）2、Ｚｒ（ＯＨ）4等が挙げられる。また、炭酸カルシウムの針状結晶等の微粒子は光学異方性を有し、このような微粒子によって重合体の光学異方性を調節できる。上記有機物としては、カーボンナノチューブ、フラーレン、デンドリマー、ポリビニルアルコール、ポリメタクリレート、ポリイミド等が挙げられる。
【００７０】
上記機能性化合物として用いられるポリマーは、重合体の電気特性や配向性を制御することができる。上記ポリマーとしては、上記溶剤に可溶性の高分子化合物を好ましく使用することができる。かかる高分子化合物としては、ポリアミド、ポリウレタン、ポリウレア、ポリエポキサイド、ポリエステル、ポリエステルポリオール等が挙げられる。
【００７１】
本発明に用いられる重合性組成物において、上記の重合性光学活性イミド化合物（Ａ）、液晶化合物（Ｂ）及びラジカル重合開始剤（Ｃ）以外の任意の各種添加剤成分（但し、溶剤を除く）は、特に制限無く、作製される重合体の特性を損なわない範囲で適宜使用することができるが、好ましくは、上記重合性光学活性イミド化合物（Ａ）と上記液晶化合物（Ｂ）との合計量１００質量部に対して、全添加剤成分の合計で３０質量部以下となるようにする。
【００７２】
本発明の赤外線反射層は、以上説明した重合性組成物を、重合させた重合物からなる。かかる重合物は、上記の重合性光学活性イミド化合物（Ａ）、液晶化合物（Ｂ）及びラジカル重合開始剤（Ｃ）並びに必要に応じて上述の各種添加剤成分を含み、さらに必要に応じて溶剤を加えてそれらを溶解させた重合性組成物を、支持基板上に塗布し、乾燥して塗膜を形成した後、エネルギー線を照射して、該重合性組成物中の重合性光学活性イミド化合物（Ａ）等の重合性化合物を光重合させて、重合性光学活性イミド化合物（Ａ）等の液晶化合物を配向、固定化することにより製造することができる。支持基板上に形成した該赤外線反射層は、そのまま使用しても良いが、必要に応じて、支持基板から剥離したり、他の支持基板に転写して使用しても良い。
【００７３】
上記支持基板としては、特に限定されないが、好ましい例としては、ガラス板、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）板、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）板、ポリカーボネート板、ポリイミド板、ポリアミド板、ポリメタクリル酸メチル板、ポリスチレン板、ポリ塩化ビニル板、ポリテトラフルオロエチレン板、セルロース板、シリコン板、反射板、シクロオレフィンポリマー及び方解石板が挙げられる。このような支持基板上に、後述のようにポリイミド系配向膜又はポリビニルアルコール系配向膜を施したものが特に好ましく使用することができる。
【００７４】
上記支持基板に上記重合性組成物の溶液を塗布する方法としては、公知の方法を用いることができ、該方法としては、カーテンコーティング法、押し出しコーティング法、ロールコーティング法、スピンコーティング法、ディップコーティング法、バーコーティング法、スプレーコーティング法、スライドコーティング法、印刷コーティング法及び流延成膜法等が挙げられる。塗布された重合性組成物は、自然乾燥、加熱乾燥等により溶剤を除去し塗膜とすることができる。尚、塗膜の膜厚は、用途等に応じて適宜選択されるが、好ましくは０．００１〜３０μｍ、更に好ましくは０．００１〜１０μｍ、特に好ましくは０．００５〜８μｍの範囲から選択される。
【００７５】
上記重合性組成物の重合物からなる赤外線反射層を作製する際に、該重合性組成物中の液晶化合物を配向させる方法としては、例えば、支持基板上に事前に配向処理を施す方法が挙げられる。上記支持基板上に配向処理を施す好ましい方法としては、各種ポリイミド系配向膜又はポリビニルアルコール系配向膜からなる液晶配向層を支持基板上に設け、ラビング等の処理を行う方法が挙げられる。また、上記液晶化合物を配向させる方法としては、支持基板上の重合性組成物中の液晶化合物に対し磁場や電場等を印加する方法等も挙げられる。
【００７６】
上記重合性組成物に含まれる重合性光学活性イミド化合物（Ａ）等の重合性化合物を光重合させるために使用する上記エネルギー線の好ましい種類は、紫外線、可視光線、赤外線等である。電子線、Ｘ線等の電磁波を用いてもよい。通常は、紫外線又は可視光線が好ましい。好ましい波長の範囲は１５０〜５００ｎｍである。更に好ましい範囲は２５０〜４５０ｎｍであり、最も好ましい範囲は３００〜４００ｎｍである。光源としては、低圧水銀ランプ（殺菌ランプ、蛍光ケミカルランプ、ブラックライト）、高圧放電ランプ（高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ）、又はショートアーク放電ランプ（超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、水銀キセノンランプ）等が挙げられるが、超高圧水銀ランプを使用することが好ましい。光源からの光はそのまま重合性組成物に照射してもよく、層によって選択した特定の波長（又は特定の波長領域）を重合性組成物に照射してもよい。好ましい照射エネルギー密度は、２〜５０００ｍＪ／ｃｍ2であり、更に好ましい範囲は１０〜３０００ｍＪ／ｃｍ2であり、更に好ましい範囲は１００〜２０００ｍＪ／ｃｍ2である。好ましい照度は０．１〜５０００ｍＷ/ｃｍ2であり、更に好ましい照度は１〜２０００ｍＷ/ｃｍ2である。光を照射するときの温度は、重合性組成物が液晶相を有するように設定できるが、好ましい照射温度は１００℃以下である。１００℃以上の温度では熱による重合が起こりうるので、良好な配向が得られないときがある。
【００７７】
本発明の赤外線反射層の厚みは、用途等に応じて適宜選択されるが、好ましくは１〜５０μｍ、更に好ましくは３〜３０μｍ、特に好ましくは５〜１５μｍの範囲から選択される。
【００７８】
以上説明した本発明の赤外線反射層は、単独で、又は赤外線反射層を少なくとも一つ含む積層体として、後述の光電変換デバイスに用いられる他、自動車や建材向けの合わせガラス等に用いられ、温度を向上させずに明るさを確保したい用途に広く使用できる。
【００７９】
次に、本発明の積層体について説明する。尚、特に説明しない点については、本発明の赤外線反射層における説明が適宜適用される。
本発明の積層体は、本発明の赤外線反射層を用いている点に特徴があり、その構成に制限はなく、必要に応じて、上述の重合性組成物を用いない赤外線反射層、接着層、配向膜、保護層、潤滑層、光学機能層、反射防止層等の各種機能層を有することができる。また、本発明の積層体における赤外線反射層の大きさ及び形状は、特に制限されず、用途に応じて適宜決定される。
【００８０】
上記の重合性組成物を用いない赤外線反射層としては、上記一般式（１）で表される重合性光学活性イミド化合物（Ａ）の代わりに、上記の他の光学活性化合物等を用いた赤外線反射層、無機の微粒子や中空子を用いた赤外線反射層等が挙げられ、用いられる無機の微粒子や中空子としては、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ等の貴金属；酸化ケイ素；フッ素添加酸化スズ；ＩＴＯ等が挙げられる。
【００８１】
上記接着層は、本発明の赤外線反射層を複数積層させるときに、特に用いられる。かかる接着層に用いられる材料としては特に限定されないが、可視光等の有用な光の透過を妨げないものが好ましく、例えばエポキシ系接着剤、ウレタン系接着剤、アクリル系接着剤等の光学接着剤等が挙げられる。
【００８２】
本発明の積層体は、上記重合性組成物を用いて形成される、本発明の赤外線反射層を少なくとも一つ含んでいればよいものであるが、赤外線に対して高い選択反射性を得ることができることから、下記ｉ）及びii）の赤外線反射層を少なくとも一組み含むものが好ましい。
ｉ）上記重合性光学活性イミド化合物（Ａ）が上記一般式（２）で表される化合物である赤外線反射層。
ii）上記重合性光学活性イミド化合物（Ａ）が上記一般式（３）で表される化合物である赤外線反射層。
また、本発明の積層体としては、上記重合性光学活性イミド化合物（Ａ）の含有量を変えた赤外線反射層を複数設けることで、複数の領域の赤外線を反射する機能を得ることもできる。
【００８３】
次に、本発明の積層体のより具体的な構成に関し、その好ましい実施形態の一つである、２つの赤外線反射層を含む積層体について、図面を参照しながら説明する。尚、本発明の積層体は、赤外線反射層の厚み、数及び積層順に関して何ら限定されない。図１（ａ）に示すように、支持基板１の一方の表面上をラビング処理した後に、赤外線反射層２を形成し、更に赤外線反射層２の上に接着層４を形成する。また、これとは別の支持基板１の表面上に赤外線反射層３を形成する。次いで、赤外線反射層２と赤外線反射層３とを接着層４を介して貼り合わせた後に、接着層４を硬化させる。硬化にて接着させた後、一方の支持基板１を剥離することで積層体を得ることができる。あるいはまた、図１（ｂ）に示すように、支持基板１の一方の表面上をラビング処理した後に、赤外線反射層２を形成し、支持基板１のもう一方の表面上をラビング処理した後に、赤外線反射層３を形成することでも図１（ａ）と同様の機能を有する積層体を得ることができる。あるいはまた、図１（ｃ）に示すように、例えば、図１（ａ）で形成された積層体から更に支持基板１を取り除き、赤外線反射層２及び３と接着層４とからなる積層体であってもよい。
尚、赤外線反射層２及び３は、上述したように、上記一般式（１）で表される重合性光学活性イミド化合物（Ａ）、液晶化合物（Ｂ）及びラジカル重合開始剤（Ｃ）を含んでなる重合性組成物を上記溶剤に溶解して溶液とした後、支持基板１に塗布して、重合性組成物中の液晶分子を配向させた状態で脱溶剤し、次いでエネルギー線を照射することで得られる。また、各種機能層及び各赤外線反射層の積層方法には粘着剤の使用や光接着にて行うことができる。
【００８４】
次に、本発明の赤外線反射層又は積層体を使用してなる光電変換デバイスについて説明する。尚、特に説明しない点については、本発明の赤外線反射層及び積層体における説明が適宜適用される。
本発明の光電変換デバイスは、光電変換素子と、本発明の赤外線反射層又は積層体とを有していれば特に限定はされず、従来の光電変換デバイスに準じた構成とすることができる。図３（ａ）及び（ｂ）に、本発明の光電変換デバイスの一例としての太陽電池を示す。図３（ａ）の太陽電池においては、集光フィルム２３０上に赤外線反射層２６０を設けることで、発電に不要な熱線（赤外線）を反射し、光電変換素子２４０の温度上昇を抑制し、発電効率の低下を抑えることが可能である。あるいはまた、図３（ｂ）の太陽電池においては、透明基板２１０上に赤外線反射層２６０を設け、更にその上に表面シート層２００を設けることで太陽電池全体の温度上昇を抑制している。
【００８５】
本発明の光電変換デバイスとしては、特に限定されないが、例えば単結晶型、多結晶型、アモルファスシリコン型等のシリコン型太陽電池；ＧａＡｓ系、ＣＩＳ系、Ｃｕ2ＺｎＳｎＳ4系、ＣｄＴｅ−ＣｄＳ系等の化合物系太陽電池；色素増感型、有機薄膜型等の有機系太陽電池等の太陽電池が挙げられる。
【実施例】
【００８６】
以下、実施例、比較例をもって本発明を更に詳細に説明する。しかしながら、本発明は以下の実施例によって何ら制限を受けるものではない。
【００８７】
〔調製例〕重合性組成物溶液１〜１０の調製
シクロペンタノン６．０ｇ（界面活性剤としてＫＨ−４０（ＡＧＣセイミケミ社製）を３７５ｐｐｍ含有）に重合性光学活性イミド化合物（（Ａ）成分）及び液晶化合物（（Ｂ）成分）を下記〔表１〕に従い配合して温湯で完全に溶解した後、更にラジカル重合開始剤（（Ｃ）成分）としてＮ−１９１９（ＡＤＥＫＡ社製）９０ｍｇを加えて完全に溶解し、０．４５μｍ Ｄｉｓｍｉｃ Ｆｉｌｔｅｒを用いてろ過したものを、重合性組成物溶液１〜１０とした。
【００８８】
【表１】
【００８９】
【化３０】
【００９０】
【化３１】
【００９１】
〔比較調製例〕比較重合性組成物溶液１及び２の調製
上記調製例における（Ａ）成分を下記比較化合物Ｎｏ．１又は１’（それぞれ９３ｍｇ）に変更した以外は同様の手順で比較重合性組成物溶液１及び２を得た。
【００９２】
【化３２】
【００９３】
〔実施例１〕
ＰＥＴ基板（東洋紡社製 Ａ４１００：厚み１００μｍ）の一方の面（表面）上を５回ラビング処理した後に、調製例で得られた重合性組成物溶液１をワイヤーバー（Ｒ．Ｄ．Ｓｐｅｃｉａｌｔｉｅｓ製：ＲＤＳ１２）にて塗工し、１００℃で３分乾燥して塗膜を得た。得られた塗膜に、大気下で超高圧水銀ランプにて３００ｍＪ／ｃｍ2の光を照射し、塗膜を光硬化させて赤外線反射層を形成し、積層体Ｎｏ．１を得た。
【００９４】
〔実施例２〕
実施例１において、重合性組成物溶液１を重合性組成物溶液２に変更した以外は、実施例１と同様の手法で、積層体Ｎｏ．２を得た。
【００９５】
〔実施例３〕
ＴＡＣ基板１（富士フィルム社製 ＦＴ＿ＴＤＹ８０ＵＬ：厚み８０μｍ）の一方の面（表面）上を５回ラビング処理した後に、調製例で得られた重合性組成物溶液１をワイヤーバー（ＲＤＳ１２）にて塗工し、１００℃で３分乾燥して塗膜を得た。得られた塗膜に、大気下で超高圧水銀ランプにて３００ｍＪ／ｃｍ2の光を照射し、塗膜を光硬化させて赤外線反射層２を形成した。次いで、ＴＡＣ基板１のもう一方の面（裏面）上に、重合性組成物溶液２を用いて同様の操作で赤外線反射層３を形成し、〔図１（ｂ）〕に相当する積層体Ｎｏ．３を得た。
【００９６】
〔実施例４〕
ＰＥＴ基板１（東洋紡社製 Ａ４１００：厚み１００μｍ）の一方の面（表面）上を５回ラビング処理した後に、調製例で得られた重合性組成物溶液１をワイヤーバー（ＲＤＳ１２）にて塗工し、１００℃で３分乾燥して塗膜を得た。得られた塗膜に、大気下で超高圧水銀ランプにて３００ｍＪ／ｃｍ2の光を照射し、塗膜を光硬化させて赤外線反射層２を形成した。次いで、ＰＥＴ基板１のもう一方の面（裏面）上に、重合性組成物溶液２を用いて同様の操作で赤外線反射層３を形成し、〔図１（ｂ）〕に相当する積層体Ｎｏ．４を得た。
【００９７】
〔実施例５〕
〔図２〕に示すように、ＰＥＴ基板１（東洋紡社製 Ａ４１００：厚み１００μｍ）の一方の面（表面）上を５回ラビング処理した後に、調製例で得られた重合性組成物溶液３をワイヤーバー（ＲＤＳ１２）にて塗工し、１００℃で３分乾燥して塗膜（光硬化にて赤外線反射層２となる塗膜）を得た。別のＰＥＴ基板１'（東洋紡社製 Ａ４１００：厚み１００μｍ）上に、重合性組成物溶液４を用いて同様の操作で塗膜（光硬化にて赤外線反射層３となる塗膜）を形成した。赤外線反射層２となる上記塗膜上に、アクリル系接着剤をワイヤーバー（ＲＤＳ０３）で塗工して接着層４を形成し、赤外線反射層３となる上記塗膜を有するＰＥＴ基板１'を天地反転させて、赤外線反射層２となる上記塗膜と赤外線反射層３となる上記塗膜とを、接着層４を介して貼り合わせた後、大気下で超高圧水銀ランプにて３００ｍＪ／ｃｍ2の光を照射して、上記塗膜及び接着層４を光硬化させた後、ＰＥＴ基板１'を剥離し、〔図１（ａ）〕に相当する積層体Ｎｏ．５を得た。
【００９８】
〔実施例６〕
実施例５において、重合性組成物溶液３及び４を重合性組成物溶液５及び６に変更した以外は、実施例５と同様の手法で、〔図１（ａ）〕に相当する積層体Ｎｏ．６を得た。
【００９９】
〔実施例７〕
〔図２〕に示すように、実施例５の積層体を得た後、別のＰＥＴ基板１’’（東洋紡社製 Ａ４１００：厚み１００μｍ）上に、重合性組成物溶液５を用いて同様の操作で塗膜（光硬化にて赤外線反射層３’となる塗膜）を得た。上記実施例５の積層体の赤外線反射層３上に接着層４を形成して、該赤外線反射層３と赤外線反射層３’となる上記塗膜とを、接着層４を介して貼り合わせた後、大気下で超高圧水銀ランプにて３００ｍＪ／ｃｍ2の光を照射して、上記塗膜及び接着層４を光硬化させた後、ＰＥＴ基板１'’を剥離した。更に、別のＰＥＴ基板１’’’（東洋紡社製 Ａ４１００：厚み１００μｍ）上に、重合性組成物溶液６を用いて同様の操作で塗膜（光硬化にて赤外線反射層３'’となる塗膜）を形成した。上記赤外線反射層３’上に接着層４を形成し、該赤外線反射層３’と赤外線反射層３'’となる上記塗膜とを、接着層４を介して貼り合わせた後、大気下で超高圧水銀ランプにて３００ｍＪ／ｃｍ2の光を照射して、上記塗膜及び接着層４を光硬化させた後、ＰＥＴ基板１’’’を剥離して、積層体Ｎｏ．７を得た。
【０１００】
〔実施例８〕
実施例１において、重合性組成物溶液１を重合性組成物溶液７に変更した以外は、実施例１と同様の手法で、積層体Ｎｏ．８を得た。
【０１０１】
〔実施例９〕
実施例１において、重合性組成物溶液１を重合性組成物溶液８に変更した以外は、実施例１と同様の手法で、積層体Ｎｏ．９を得た。
【０１０２】
〔実施例１０〕
実施例１において、重合性組成物溶液１を重合性組成物溶液９に変更し、乾燥温度を１００℃から８０℃に変更した以外は、実施例１と同様の手法で、積層体Ｎｏ．１０を得た。
【０１０３】
〔実施例１１〕
実施例１において、重合性組成物溶液１を重合性組成物溶液１０に変更し、乾燥温度を１００℃から８０℃に変更した以外は、実施例１と同様の手法で、積層体Ｎｏ．１１を得た。
【０１０４】
尚、実施例１〜１１の積層体Ｎｏ．１〜１１における赤外線反射層の厚みは、何れも６．５μｍであり、実施例５〜７の積層体Ｎｏ．５〜７における接着層の厚みは、何れも３μｍであった。
【０１０５】
〔実施例１２〜１４〕
実施例１において、ワイヤーバーをＲＤＳ１２からそれぞれＲＤＳ５、ＲＤＳ８又はＲＤＳ２０に変更した以外は実施例１と同様の手法で、積層体Ｎｏ．１２〜１４を得た。
【０１０６】
〔比較例１〕
実施例５において、重合性組成物溶液３及び４を、比較重合性組成物溶液１及び２に変更した以外は、実施例５と同様の手法で、〔図１（ａ）〕の積層体に相当する比較積層体Ｎｏ．１を得た。
【０１０７】
〔評価例１〜９並びに比較評価例１及び２〕
積層体Ｎｏ．３〜１１及び比較積層体Ｎｏ．１を用いて、配向の均質性を下記の評価方法により評価した。結果を〔表２〕に示す。また、積層体Ｎｏ．３〜７及びＰＥＴ基板（比較評価例２）を用いて赤外線反射性を下記の評価方法により評価した（尚、比較積層体Ｎｏ．１は均質な膜が得られなかったため評価しなかった）。結果を〔表３〕に示す。また、実施例及で得られた積層体Ｎｏ．１、２、４〜７、１０及び１１の反射・透過スペクトルを測定した。尚、積層体の反射・透過スペクトルは、積層体中の基板（ＰＥＴ又はＴＡＣ）のスペクトル（基板表面における１０％程度の反射スペクトル）を含む。結果を、〔図４〕〜〔図１１〕に示す。
【０１０８】
＜配向の均質性の評価方法＞
得られた塗膜を偏光顕微鏡（Ｎｉｋｏｎ社製；ＯＰＴＩＰＨＯＴ２−ＰＯＬ）を用いて目視で評価した。配向欠陥が確認されなければ○、結晶化や配向ムラが確認された場合は×とした。
【表２】
【０１０９】
＜赤外線反射性の評価方法＞
先ず、一面だけ切り取られた発泡スチロール箱の切り取られた部分に、上記で得られた積層体を赤外線反射層が外側になるように貼り付け、一面だけ赤外線反射層を有する積層体となっている箱を作製した。該積層体面と対向する発泡スチロール面から熱電対を刺し、積層体に触れるようにした。赤外線電球（東芝ライテック社製 ＩＲ１００）を光源とし、赤外線反射層面と赤外線電球の距離が５ｃｍとなるように設置し、２０分照射した。２０分後の比較例２における温度と各評価例の温度差を表した。
【０１１０】
【表３】
【０１１１】
〔評価例１０〜１３〕
ワイヤーバーを変更して膜厚を変化させた積層体Ｎｏ．１及び１２〜１４の１４００ｎｍにおける反射率及び透過率を測定した。結果を〔表４〕に示す。
【０１１２】
【表４】
【０１１３】
実施例で得られた赤外線反射層を有する積層体の反射・透過スペクトルの結果より、本発明の赤外線反射層を有する積層体は、反射する波長が８００ｎｍ〜２０００ｎｍ（更には、１２００ｎｍ〜１８００ｎｍ）である。
以上の結果から、本発明に用いられる重合性組成物は硬化膜としたときにクラックや結晶化が起こりにくく、得られた赤外線反射層は熱線を反射させるため、透過光による温度上昇が抑制され、建材や自動車用の貼り合わせガラスに好適に用いることができる。
また、本発明の赤外線反射層又は積層体を用いた光電変換デバイスは光電変換素子又はデバイス自体の温度上昇を抑制し、温度上昇による発電効率の低下を防ぐため有用である。
【符号の説明】
【０１１４】
１、１'、１’’、１’’’基板
２ 赤外線反射層
３、３'、３’’ 赤外線反射層
４ 接着層
２００ 表面シート層
２１０ 透明基板
２２０ 充填剤層
２３０ 集光フィルム
２４０ 光電変換素子
２５０ バックシート層
２６０ 赤外線反射層
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特定の構造を有する重合性光学活性イミド化合物を用いることで、光線（特に太陽光線）が照射された場合、熱線（赤外線）のみを反射させる特性を有する赤外線反射層及びその積層体に関し、更には、該赤外線反射層及びその積層体を用いた光電変換デバイスに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶テレビ、ビデオカメラのモニター等の液晶表示装置は、低消費電力化、低電圧駆動化が求められている。これらの要請に対し、液晶性物質の配向性、屈折率、誘電率、磁化率等の物理的性質の異方性を利用した位相差板、偏光板、光偏向プリズム、反射板等の光学異方体を応用することで、光源の利用率を高める方法や液晶表示素子の視野角特性を向上させる方法が検討されている。
【０００３】
これらの光学異方体は、重合性部位を有する液晶化合物又は重合性部位を有する液晶化合物を含む重合性組成物を配向させた状態で、紫外線等のエネルギー線を照射して重合させる方法によって得られる。つまり、得られる光学異方体は、分子配向性を保った状態で固定化されたものであり、高次構造的に制御された光学活性部位の効果によって、光学的異方性を示す重合体である。特許文献１及び２には、重合性基を有する光学活性化合物が開示されている。
【０００４】
また、近年、持続的に利用でき、資源が枯渇せず、環境汚染が小さい太陽光発電（太陽電池）が盛んに検討されている。太陽光発電において、発電に用いられる波長は主に１２００ｎｍより短波長の領域であり、１２００ｎｍより長波長の領域は不要であるだけでなく、熱線として太陽電池の温度を上昇させてしまう。太陽電池の発電効率は、温度上昇と共に低下することが知られており（特許文献３）、不要な熱線（赤外線）のみを反射させ、有用な光を透過させる赤外線反射層が望まれている。特許文献４には、赤外線反射層をバックシートに用い、近赤外領域の太陽光を反射させ、発電効率を高めることが開示され、特許文献５及び６には、液晶性組成物を用いた赤外線反射フィルタが開示されている。
しかしながら、未だ充分な性能を示す赤外線反射層が得られていないのが実状である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００８−１８９６０４号公報
【特許文献２】特開２０１０−７０４８２号公報
【特許文献３】特開昭５８−０４９８６０号公報
【特許文献４】特開２００９−１７８８５１号公報
【特許文献５】国際公開ＷＯ１９９９／０３６８０９パンフレット
【特許文献６】特開２００５−０３１１７０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従って、本発明の目的は、不要な熱線（赤外線）のみを選択的に反射させ、有用な光を透過させる赤外線反射層を提供することにあり、更には、光電変換素子等の素子やデバイス自体の温度上昇を防ぎ、発電効率を維持できる光電変換デバイス（特に太陽電池）を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、鋭意検討した結果、特定の構造を有する重合性光学活性イミド化合物、液晶化合物及びラジカル重合開始剤を特定の配合比で混合した重合性組成物を重合させるることで、赤外線のみを選択的に反射させ、有用な光を透過させる赤外線反射層が得られることを知見し、また、該赤外線反射層を光電変換デバイスに用いることで、光電変換素子等の素子やデバイス自体の温度上昇を防ぎ、発電効率を維持できること知見し、本発明を完成させた。
即ち、本発明は、下記一般式（１）で表される重合性光学活性イミド化合物（Ａ）、液晶化合物（Ｂ）及びラジカル重合開始剤（Ｃ）を含んでなり、
上記重合性光学活性イミド化合物（Ａ）と上記液晶化合物（Ｂ）の含有量の合計を１００質量部としたときの、該重合性光学活性イミド化合物（Ａ）の含有量が０．１〜１０質量部（好ましくは１〜５質量部）である重合性組成物を重合させた重合物からなり、赤外線を反射することを特徴とする赤外線反射層（好ましくは、８００ｎｍ〜２０００ｎｍの赤外線を反射し、特に好ましくは１２００ｎｍ〜１８００ｎｍの赤外線を反射する赤外線反射層）を提供することにより、上記目的を達成したものである。
【化１】
（式（１）中、環Ａ1、Ａ2、Ａ3及びＡ4は、それぞれ独立に、ベンゼン環又はナフタレン環を表し、該ベンゼン環及びナフタレン環中の炭素原子は、窒素原子で置換されていてもよく、
Ｍ1及びＭ2は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、
Ｒ1は、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基又は炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基を表し、Ｒ1中の水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、Ｒ1中のメチレン基は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で中断されていてもよく、
Ｘ1は、直接結合、−Ｌ1−、−Ｌ1Ｏ−、−Ｌ1Ｏ−ＣＯ−、−Ｌ1ＣＯ−Ｏ−又は−Ｌ1Ｏ−ＣＯ−Ｏ−を表し、Ｌ1及びＬ2は、それぞれ独立に、分岐を有していてもよい炭素原子数１〜８のアルキレン基を表し、該アルキレン基は酸素原子で１〜３回中断されていてもよく、
Ｘ2及びＸ5は、それぞれ独立に、直接結合、エステル結合、エーテル結合、分岐を有していてもよく、不飽和結合を有していてもよい炭素原子数１〜８のアルキレン基、又は、これらの組み合わせからなる連結基を表し、該アルキレン基は酸素原子で１〜３回中断されていてもよく、
Ｘ3は、直接結合、−ＣＯ−、−Ｌ2−、−ＯＬ2−、−Ｏ−ＣＯＬ2−、−ＣＯ−ＯＬ2−又は−Ｏ−ＣＯ−ＯＬ2−を表し、
Ｘ4は、直接結合、−ＣＯ−、−Ｌ1−、−Ｌ1Ｏ−、−Ｌ1Ｏ−ＣＯ−、−Ｌ1ＣＯ−Ｏ−又は−Ｌ1Ｏ−ＣＯ−Ｏ−を表し、
Ｘ6は、直接結合、−Ｌ2−、−ＯＬ2−、−Ｏ−ＣＯＬ2−、−ＣＯ−ＯＬ2−又は−Ｏ−ＣＯ−ＯＬ2−を表し、ｎ及びｍは、それぞれ独立に、０又は１を表す。）
【０００８】
また、本発明は、上記液晶化合物（Ｂ）が重合性官能基を有する液晶化合物であることを特徴とする上記赤外線反射層を提供するものである。
【０００９】
また、本発明は、上記重合性官能基を有する液晶化合物が下記一般式（４）で表される化合物であることを特徴とする上記赤外線反射層を提供するものである。
【化２】
（式中、環Ａ11、Ａ12及びＡ13は、それぞれ独立に、シクロヘキサン環、ベンゼン環、ナフタレン環を表し、
Ｌ11、Ｌ12及びＬ13は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−Ｘ15−Ｏ−ＣＯ−ＣＭ13＝ＣＨ2、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、炭素原子数１〜１０のアルキルカルボニル基、炭素原子数１〜１０のアルコキシカルボニル基又は炭素原子数１〜１０のアルキルカルボニルオキシ基を表し、
Ｍ11、Ｍ12及びＭ13は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、
Ｘ11、Ｘ12、Ｘ13、Ｘ14及びＸ15は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ11−、−ＮＲ11−ＣＯ−、−Ｏ（ＣＨ2）r−、−（ＣＨ2）sＯ−、−ＳＣＨ2−、−ＣＨ2Ｓ−、−ＣＦ2Ｏ−、−ＯＣＦ2−、−ＣＦ2Ｓ−、−ＳＣＦ2−、−ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＦ2ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＦ2−、−ＣＦ2ＣＦ2−、−ＣＨ＝ＣＲ11−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＦ−、−ＣＹ1＝ＣＹ1−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表し、Ｒ11は、水素原子又は炭素原子数１〜１２のアルキル基を表し、Ｙ1は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、メチル基又はエチル基を表し、ｒ及びｓは、それぞれ独立に１〜６の整数を表し、ｏ、ｐ及びｑは、それぞれ０〜４の整数を表す。）
【００１０】
また、本発明は、上記赤外線反射層を少なくとも一つ含んでなる積層体（好ましくは、（ｉ）上記重合性光学活性イミド化合物（Ａ）が下記一般式（２）で表わされる化合物である赤外線反射層と、(ii)上記重合性光学活性イミド化合物（Ａ）が下記一般式（３）で表される化合物である赤外線反射層とを少なくとも一組み含んでなる積層体）を提供するものである。
【化３】
（式中、環Ａ1〜Ａ4、Ｍ1、Ｍ2、Ｒ1、Ｘ1〜Ｘ6、ｎ及びｍは上記一般式（１）と同じである）
【化４】
（式中、環Ａ1〜Ａ4、Ｍ1、Ｍ2、Ｒ1、Ｘ1〜Ｘ6、ｎ及びｍは上記一般式（１）と同じである）
【００１１】
また、本発明は、上記赤外線反射層及び積層体を用いた光電変換デバイスを提供するものである。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、不要な熱線（赤外線）のみを反射させ、有用な光を透過させる赤外線反射層を提供できる。また、本発明によれば、光電変換素子等の素子やデバイス自体の温度上昇を防ぎ、発電効率を維持できる光電変換デバイスを提供できる。該光電変換デバイスは、太陽電池に好適に使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】図１（ａ）は、本発明の積層体の好ましい一実施形態を示す断面図であり、図１（ｂ）は、本発明の積層体の好ましい別の一実施形態を示す断面図であり、図１（ｃ）は、本発明の積層体の好ましい更に別の一実施形態を示す断面図である。
【図２】図２は、実施例５及び７における積層体の製造工程を示す断面図である。
【図３】図３（ａ）は、本発明の赤外線反射層を有する積層体を使用してなる光電変換デバイスの好ましい一実施形態を示す断面図であり、図３（ｂ）は、本発明の赤外線反射層を有する積層体を使用してなる光電変換デバイスの好ましい別の一実施形態を示す断面図である。
【図４】図４は、実施例１で作製した積層体Ｎｏ．１の反射・透過スペクトルを示す図である。
【図５】図５は、実施例２で作製した積層体Ｎｏ．２の反射・透過スペクトルを示す図である。
【図６】図６は、実施例４で作製した積層体Ｎｏ．４の反射・透過スペクトルを示す図である。
【図７】図７は、実施例５で作製した積層体Ｎｏ．５の反射・透過スペクトルを示す図である。
【図８】図８は、実施例６で作製した積層体Ｎｏ．６の反射・透過スペクトルを示す図である。
【図９】図９は、実施例７で作製した積層体Ｎｏ．７の反射・透過スペクトルを示す図である。
【図１０】図１０は、実施例１０で作製した積層体Ｎｏ．１０の反射・透過スペクトルを示す図である。
【図１１】図１１は、実施例１１で作製した積層体Ｎｏ．１１の反射・透過スペクトルを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明の赤外線反射層、積層体、及び該赤外線反射層又は積層体を使用してなる光電変換デバイスについて、その好ましい実施形態に基づき詳細に説明する。
【００１５】
先ず、本発明の赤外線反射層について説明する。本発明の赤外線反射層は、重合性組成物から重合させた重合物からなる。該重合物を構成する重合性組成物は、上記一般式（１）で表される重合性光学活性イミド化合物（Ａ）、液晶化合物（Ｂ）及びラジカル重合開始剤（Ｃ）を含んでなる。以下、各成分について順に説明する。
【００１６】
＜上記一般式（１）で表される重合性光学活性イミド化合物（Ａ）＞
上記一般式（１）中、Ｒ1で表される炭素原子数１〜１０のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、ｔ−アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、イソヘプチル、ｔ−ヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、ｔ−オクチル、２−エチルヘキシル等が挙げられ、炭素原子数６〜２０のアリール基としては、フェニル、ナフチル、２−メチルフェニル、３−メチルフェニル、４−メチルフェニル、４−ビニルフェニル、３−イソプロピルフェニル等が挙げられ、炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基としては、ベンジル、フェネチル、２−フェニルプロパン−２−イル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、スチリル、シンナミル等が挙げられ、上記Ｒ1の水素原子は、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子で置換されていてもよく、上記Ｒ1のメチレン基は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で中断されていてもよい。
【００１７】
上記一般式（１）中、Ｌ1及びＬ2で表される分岐を有していてもよい炭素原子数１〜８のアルキレン基としては、メチレン、エチレン、プロピレン、トリメチレン、テトラメチレン、１，３−ブタンジイル、２−メチル−１，３−プロパンジイル、２−メチル−１，３−ブタンジイル、２，４−ペンタンジイル、１，４−ペンタンジイル、３−メチル−１，４−ブタンジイル、２−メチル−１，４−ペンタンジイル、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、ヘプタメチレン、オクタメチレン等の直鎖の又は分岐を有するアルキレン基が挙げられ、これらの基は酸素原子で１〜３回中断されてもよい。
上記一般式（１）中、Ｘ2及びＸ5で表される分岐を有していてもよく、不飽和結合を有していてもよい炭素原子数１〜８のアルキレン基としては、上記Ｌ1及びＬ2の説明で例示した基のほか、これらの基のアルキレン（アルキル）部分が不飽和結合で中断された基等が挙げられ、これらの基は酸素原子で１〜３回中断されてもよい。
【００１８】
上記一般式（１）で表される重合性光学活性イミド化合物（Ａ）は、光学活性を有する化合物である。光学活性とは、旋光性を有することであり、直線偏光が通過する際に回転を起こさせる化合物のことをいう。即ち、本発明に用いられる重合性光学活性イミド化合物（Ａ）は、上記一般式（１）で表される化合物のうち、旋光度を測定した際に、右旋性又は左旋性を示す化合物であり、具体的には、上記一般式（２）で表わされる化合物又はそのエナンチオマー体である上記一般式（３）で表わされる化合物の何れか一方、又はこれらの混合物であって光学活性を有するものである。
【００１９】
上記一般式（２）で表される化合物の具体的な構造としては、下記に示す化合物Ｎｏ．１〜Ｎｏ．３４等が挙げられる。また、上記一般式（３）で表される化合物の具体的な構造としては、下記に示す化合物それぞれのエナンチオマー体が挙げられる。但し、本発明はこれらの化合物により制限を受けるものではない。
【００２０】
【化５】
【００２１】
【化６】
【００２２】
【化７】
【００２３】
【化８】
【００２４】
【化９】
【００２５】
【化１０】
【００２６】
【化１１】
【００２７】
上記一般式（１）で表わされる重合性光学活性イミド化合物（Ａ）の中でも、上記一般式（１）中、Ｘ3及びＸ4が共に−ＣＯ−である重合性光学活性イミド化合物は、製造面で有利であり、化学的及び熱的に安定性が高いため好ましく、上記一般式（１）中、環Ａ2及びＡ3が共にナフタレン環である重合性光学活性イミド化合物、又は環Ａ1、Ａ2、Ａ3及びＡ4が全てベンゼン環である重合性光学活性イミド化合物は、母液晶との相溶性に優れるため更に好ましい。
【００２８】
また、上記一般式（１）中、Ｍ1及びＭ2が、共に水素原子である重合性光学活性イミド化合物は、重合反応性や溶剤溶解性が高いため好ましく、上記一般式（１）中、環Ａ1と環Ａ4及び環Ａ2と環Ａ3がそれぞれ同一の環であり、Ｍ1とＭ2、Ｘ1とＸ6、Ｘ2とＸ5及びＸ3とＸ6がそれぞれ同一の基であり、ｎとｍが同一の数である重合性光学活性イミド化合物は、製造面とコストの面で有利であるため好ましい。
【００２９】
また、上記一般式（１）中、Ｘ1及びＸ6が分岐を有していてもよい炭素原子数１〜８のアルキレン基である重合性光学活性イミド化合物は、容易に製造可能であるため更に好ましい。
【００３０】
また、上記一般式（１）中、Ｒ1が、炭素原子数１〜１０のアルキル基である重合性光学活性イミド化合物は、高いＨＴＰ（らせん誘起力）を有するため好ましく、中でもＲ1が、メチル基である重合性光学活性イミド化合物は、特に高いＨＴＰを有するため更に好ましい。
【００３１】
上記一般式（１）で表される重合性光学活性イミド化合物（Ａ）は、その製造方法については特に限定されず、公知の反応を応用して製造することができる。例えば、特開２０１０−７０４８２号公報に記載の方法で製造することができる。
【００３２】
本発明に用いられる重合性組成物において、上記一般式（１）で表される重合性光学活性イミド化合物（Ａ）の含有量は、上記重合性光学活性イミド化合物（Ａ）と後述する液晶化合物（Ｂ）の含有量の合計を１００質量部としたとき、０．１〜１０質量部であり、好ましくは、１〜５質量部である。本発明では、上記重合性組成物中の重合性光学活性イミド化合物（Ａ）と液晶化合物（Ｂ）の比率を上記の範囲内で変化させることにより、反射する赤外線の波長を調節することができ、所望の波長領域に対して反射特性を有する赤外線反射層を得ることができる。
尚、上記重合性光学活性イミド化合物（Ａ）の含有量が０．１重量部未満であると、所望のピッチ長（反射特性）が得られず、１０質量部超であると、可視光に反射特性を示してしまうため好ましくない。
【００３３】
＜液晶化合物（Ｂ）＞
本発明で用いられる液晶化合物（Ｂ）には、従来既知の液晶化合物及び液晶類似化合物並びにそれらの混合物が含まれる。
上記液晶化合物（Ｂ）としては、通常一般に使用される液晶化合物を使用することができ、該液晶化合物（Ｂ）の具体例としては、特に制限するものではないが、例えば、下記〔化１２〕及び〔化１３〕に示す化合物Ｎｏ．３５〜Ｎｏ．６３等が挙げられる。尚、〔化１２〕及び〔化１３〕中のＷ1は、水素原子、分岐を有してもよい炭素原子数１〜８のアルキル基、分岐を有してもよい炭素原子数１〜８のアルコキシ基、分岐を有してもよい炭素原子数１〜８のアルケニル基、分岐を有してもよい炭素原子数１〜８のアルケニルオキシ基、分岐を有してもよい炭素原子数１〜８のアルキニル基、分岐を有してもよい炭素原子数１〜８のアルキニルオキシ基、分岐を有してもよい炭素原子数１〜８のアルコキシアルキル基、分岐を有してもよい炭素原子数１〜８のアルカノイルオキシ基又は分岐を有してもよい炭素原子数１〜８のアルコキシカルボニル基を表し、これらは、ハロゲン原子、シアノ基等で置換されていてもよく、Ｗ2は、シアノ基、ハロゲン原子、又はＷ1で表される基を示し、Ｗ3、Ｗ4及びＷ5は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はシアノ基を表す。
【００３４】
【化１２】
【００３５】
【化１３】
【００３６】
また、本発明に用いられる重合性組成物においては、上記液晶化合物（Ｂ）として、重合性官能基を有する液晶化合物が好ましく使用される。該重合性官能基としては、（メタ）アクリロイルオキシ基、フルオロアクリル基、クロロアクリル基、トリフルオロメチルアクリル基、オキシラン環（エポキシ）、オキセタン環、スチレン化合物（スチリル基）、ビニル基、ビニルエーテル基、ビニルケトン基、マレイミド基、フェニルマレイミド基等が好ましく、特に、製造が容易であるため、（メタ）アクリロイルオキシ基が好ましい。該重合性官能基を有する液晶化合物としては、通常一般に使用されるものを用いることができ、その具体例としては、特に制限するものではないが、特開２００５−１５４７３号公報の段落［０１７２］〜［０３１４］に記載の化合物、及び下記〔化１４〕〜〔化２５〕に示す化合物Ｎｏ．６４〜Ｎｏ．１８１Ａ等が挙げられる。
【００３７】
【化１４】
【００３８】
【化１５】
【００３９】
【化１６】
【００４０】
【化１７】
【００４１】
【化１８】
【００４２】
【化１９】
【００４３】
【化２０】
【００４４】
【化２１】
【００４５】
【化２２】
【００４６】
【化２３】
【００４７】
【化２４】
【００４８】
【化２５】
【００４９】
【化２５−１】
【００５０】
これらの液晶化合物（Ｂ）の中でも、上記一般式（４）で表される化合物は、重合性及び液晶性に優れるため好ましい。また、（メタ）アクリレート基が２つ以上の液晶化合物は、硬化性、耐熱性及び耐溶剤性に優れるため好ましく、（メタ）アクリレート基が２つ以下の液晶化合物は、溶剤への溶解性に優れるため好ましい。また、液晶化合物中にハイドロキノンジエステル骨格を有するものは、液晶性、溶解性及び生産性に優れるため好ましく、環がベンゼン環のみで形成される液晶化合物は、重合後の硬化物が無色透明であるため好ましく、環がベンゼン環とナフタレン環の組み合わせで形成される液晶化合物は、液晶性に優れるため好ましい。
【００５１】
上記一般式（４）中、Ｌ11、Ｌ12及びＬ13で表わされる炭素原子数１〜１０のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、ｔ−アミル、ヘキシル、ヘプチル、イソヘプチル、ｔ−ヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、ｔ−オクチル、２−エチルヘキシル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル等が挙げられ、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基としては、メチルオキシ、エチルオキシ、プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ブチルオキシ、ｓ−ブチルオキシ、ｔ−ブチルオキシ、イソブチルオキシ、アミルオキシ、イソアミルオキシ、ｔ−アミルオキシ、ヘキシルオキシ、シクロヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、イソヘプチルオキシ、ｔ−ヘプチルオキシ、ｎ−オクチルオキシ、イソオクチルオキシ、ｔ−オクチルオキシ、２−エチルヘキシルオキシ等が挙げられ、炭素原子数１〜１０のアルキルカルボニル基としては、アセチル、１−カルボニルエチル、１−カルボニルプロピル、１−カルボニルイソプロピル、シクロペンタンカルボニル等が挙げられ、炭素原子数１〜１０のアルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル基等が挙げられ、炭素原子数１〜１０のアルキルカルボニルオキシ基としては、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ等が挙げられる。
また、上記一般式（４）中、Ｘ11で表わされる炭素原子数１〜１２のアルキル基としては、Ｌ11、Ｌ12及びＬ13で表わされる炭素原子数１〜１０のアルキル基の説明で例示した基と同様の基が挙げられる。
【００５２】
＜ラジカル重合開始剤（Ｃ）＞
上記ラジカル重合開始剤（Ｃ）としては、従来既知の化合物を用いることが可能であり、例えば、ベンゾインブチルエーテル等のベンゾインエーテル類；ベンジルジメチルケタール等のベンジルケタール類；１−ヒドロキシ−１−ベンゾイルシクロヘキサン、２−ヒドロキシ−２−ベンゾイルプロパン、２−ヒドロキシ−２−（４'−イソプロピル）ベンゾイルプロパン等のα−ヒドロキシアセトフェノン類；４−ブチルベンゾイルトリクロロメタン、４−フェノキシベンゾイルジクロロメタン等のクロロアセトフェノン類；１−ベンジル−１−ジメチルアミノ−１−（４'−モルホリノベンゾイル）プロパン、２−モルホリル−２−（４'−メチルメルカプト）ベンゾイルプロパン、９−ｎ−ブチル−３，６−ビス（２'−モルホリノイソブチロイル）カルバゾール、２−メチル−１−[４−（メチルチオ）フェニル]−２−モルホリノプロパン−１−オン等のα−アミノアセトフェノン類；ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキシド等のアシルホスフィンオキシド類；ベンジル、ベンゾイル蟻酸メチル等のα−ジカルボニル類；ｐ−メトキシフェニル−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ナフチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ブトキシスチリル）−ｓ−トリアジン等のトリアジン類；特開２０００−８００６８号公報、特開２００１−２３３８４２号公報、特開２００５−９７１４１号公報、特表２００６−５１６２４６号公報、特許第３８６０１７０号公報、特許第３７９８００８号公報、ＷＯ２００６／０１８９７３号公報に記載の化合物等のα−アシルオキシムエステル類；過酸化ベンゾイル、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、エチルアントラキノン、１，７−ビス（９'−アクリジニル）ヘプタン、チオキサントン、１−クロル−４−プロポキシチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベンゾフェノン、フェニルビフェニルケトン、４−ベンゾイル−４'−メチルジフェニルスルフィド、２−（ｐ−ブトキシスチリル）−５−トリクロロメチル−１，３，４−オキサジアゾール、９−フェニルアクリジン、９，１０−ジメチルベンズフェナジン、ベンゾフェノン／ミヒラーズケトン、ヘキサアリールビイミダゾール／メルカプトベンズイミダゾール、チオキサントン／アミン等が挙げられ、市販品としては、Ｎ−１４１４、Ｎ−１７１７、Ｎ−１９１９、ＰＺ−４０８、ＮＣＩ−８３１、ＮＣＩ−９３０（（株）ＡＤＥＫＡ社製）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７、ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４、ＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯ、ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ０１、ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ（株）社製）等が挙げられる。これらの中でも、エネルギー線に対するラジカル発生の感度が良好であり、安定性の高い重合膜が製造可能であることから、下記一般式（ａ）又は（ｃ）で表される化合物が好ましい。
【００５３】
【化２６】
（式中、Ｒ71、Ｒ72及びＲ73は、それぞれ独立に、Ｒ、ＯＲ、ＣＯＲ、ＳＲ、ＣＯＮＲＲ’又はＣＮを表し、Ｒ及びＲ’は、それぞれ独立に、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基又は複素環基を表し、これらはハロゲン原子及び／又は複素環基で置換されていてもよく、これらのうちアルキル基及びアリールアルキル基のアルキレン部分は、不飽和結合、エーテル結合、チオエーテル結合、又はエステル結合により中断されていてもよく、また、Ｒ及びＲ’は一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ74は、ハロゲン原子又はアルキル基を表し、Ｒ75は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基又は下記一般式（ｂ）で表される置換基を表し、ｇは０〜４の整数であり、ｇが２以上の時、複数のＲ74は異なる基でもよい。）
【化２７】
（式中、環Ｍはシクロアルカン環、芳香環又は複素環を表し、Ｘ73はハロゲン原子又はアルキル基を表し、Ｙ71は酸素原子、硫黄原子又はセレン原子を表し、Ｚ71は炭素原子数１〜５のアルキレン基を表し、ｈは０〜４の整数であり、ｈが２以上の時、複数のＸ73は異なる基でもよい。）
【００５４】
【化２８】
（式中、Ｒ21及びＲ22は、それぞれ独立に、Ｒ31、ＯＲ31、ＣＯＲ31、ＳＲ31、ＣＯＮＲ32Ｒ33又はＣＮを表し、
Ｒ31、Ｒ32及びＲ33は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、炭素原子数７〜３０のアリールアルキル基又は炭素原子数２〜２０の複素環基を表し、
Ｒ31、Ｒ32及びＲ33で表わされる置換基の水素原子は、更にＯＲ41、ＣＯＲ41、ＳＲ41、ＮＲ42Ｒ43、ＣＯＮＲ42Ｒ43、−ＮＲ42−ＯＲ43、−ＮＣＯＲ42−ＯＣＯＲ43、−Ｃ（＝Ｎ−ＯＲ41）−Ｒ42、−Ｃ（＝Ｎ−ＯＣＯＲ41）−Ｒ42、ＣＮ、ハロゲン原子、又はＣＯＯＲ41で置換されていてもよく、
Ｒ41、Ｒ42及びＲ43は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、炭素原子数７〜３０のアリールアルキル基又は炭素原子数２〜２０の複素環基を表し、
Ｒ41、Ｒ42及びＲ43で表される置換基の水素原子は、更にＣＮ、ハロゲン原子、水酸基又はカルボキシル基で置換されていてもよく、
Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ41、Ｒ42及びＲ43で表される置換基のアルキレン部分は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＮＲ44−、−ＮＲ44ＣＯＯ−、−ＯＣＯＮＲ44−、−ＳＣＯ−、−ＣＯＳ−、−ＯＣＳ−又は−ＣＳＯ−により１〜５回中断されていてもよく、
Ｒ44は、水素原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、炭素原子数７〜３０のアリールアルキル基又は炭素原子数２〜２０の複素環基を表し、
Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ41、Ｒ42及びＲ43で表される置換基のアルキル部分は、分岐側鎖があってもよく、環状アルキルであってもよく、また、Ｒ32とＲ33及びＲ42とＲ43はそれぞれ一緒になって環を形成していてもよく、
Ｒ23及びＲ24は、それぞれ独立に、水素原子を除くＲ31、ＯＲ31、ＳＲ31、ＣＯＲ31、ＣＯＮＲ32Ｒ33、ＮＲ32ＣＯＲ31、ＯＣＯＲ31、ＣＯＯＲ31、ＳＣＯＲ31、ＯＣＳＲ31、ＣＯＳＲ31、ＣＳＯＲ31、ＮＯ2、ＣＮ、ハロゲン原子又は下記一般式（ｄ）で表わされる基を表し、
ａ及びｂは、それぞれ独立に、０〜４の整数を表し、
Ｘは、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、ＣＲ51Ｒ52、ＣＯ、ＮＲ53又はＰＲ54を表し、
Ｒ51、Ｒ52、Ｒ53及びＲ54は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基又は炭素原子数７〜３０のアリールアルキル基を表し、Ｒ51、Ｒ52、Ｒ53及びＲ54で表される置換基のアルキル部分は、分岐側鎖があってもよく、環状アルキルであってもよく、Ｒ51、Ｒ52、Ｒ53及びＲ54は、それぞれ独立に、隣接するどちらかのベンゼン環と一緒になって環を形成していてもよい。）
【化２８−１】
（式中、Ｚ21は、結合手であって、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ42−、−ＮＲ42ＣＯ−、−ＳＯ2−、−ＣＳ−、−ＯＣＯ−又は−ＣＯＯ−を表し、
Ｚ22は、結合手であって、１〜３のＲ25で置換された炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、炭素原子数７〜３０のアリールアルキル基又は炭素原子数２〜２０の複素環基を表し、
Ｚ22で表される結合手のアルキレン部分は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＮＲ42−、−ＮＲ42ＣＯＯ−、−ＯＣＯＮＲ42−、−ＳＣＯ−、−ＣＯＳ−、−ＯＣＳ−又は−ＣＳＯ−により１〜５回中断されていてもよく、Ｚ22で表される結合手のアルキレン部分は分岐側鎖があってもよく、環状アルキレンであってもよく。
Ｒ25は、ＯＲ61、ＳＲ61、ＣＯＮＲ62Ｒ63、ＮＲ62ＣＯＲ63、ＯＣＯＲ61、ＣＯＯＲ61、ＳＣＯＲ61、ＯＣＳＲ61、ＣＯＳＲ61、ＣＳＯＲ61、ＣＮ又はハロゲン原子を表し、
Ｒ61、Ｒ62及びＲ63は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基又は炭素原子数７〜３０のアリールアルキル基を表し、Ｒ61、Ｒ62及びＲ63で表される置換基のアルキル部分は分岐側鎖があってもよく、環状アルキルであってもよく、Ｒ62とＲ63は、一緒になって環を形成していてもよく、
ｃは１〜３の整数を表す。）
【００５５】
本発明に用いられる重合性組成物において、上記ラジカル重合開始剤（Ｃ）の含有量は、上記重合性光学活性イミド化合物（Ａ）と上記液晶化合物（Ｂ）との合計量１００質量部に対して、１０質量部以下であることが好ましく、５質量部以下が更に好ましく、０．１〜３質量部の範囲内が最も好ましい。上記ラジカル開始剤（Ｃ）の含有量が、１０質量部超であると、層中に析出物が発生することがあり不安定なため好ましくない。
【００５６】
また、上記ラジカル重合開始剤（Ｃ）は、増感剤と併用することが好ましい。かかる増感剤としては、チオキサントン、フェノチアジン、クロロチオキサントン、キサントン、アントラセン、ジフェニルアントラセン、ルプレン等が挙げられる。上記ラジカル重合開始剤（Ｃ）及び上記増感剤を併用する場合、両者は合計量として上記の好ましい含有量の範囲内であることが好ましい。
【００５７】
本発明に用いられる重合性組成物は、必要に応じて用いられる他の単量体（エチレン性不飽和結合を有する化合物）と共に、溶剤に溶解して溶液にすることができる。通常、本発明の赤外線反射層を均一で平坦な層として得るには、本発明に用いられる重合性組成物を溶剤に溶解して塗布することが好ましい。
【００５８】
上記他の単量体としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、第二ブチル（メタ）アクリレート、第三ブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、アリルオキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、１−フェニルエチル（メタ）アクリレート、２−フェニルエチル（メタ）アクリレート、フルフリル（メタ）アクリレート、ジフェニルメチル（メタ）アクリレート、ナフチル（メタ）アクリレート、ペンタクロルフェニル（メタ）アクリレート、２−クロルエチル（メタ）アクリレート、メチル−α−クロル（メタ）アクリレート、フェニル−α−ブロモ（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１,４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１,６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エステル、ジアセトンアクリルアミド、スチレン、ビニルトルエン、ジビニルベンゼン等が挙げられる。
【００５９】
本発明に係る重合性組成物を用いて作製される重合体の耐熱性及び光学特性を確保するために、他の単量体の含有量は、上記重合性光学活性イミド化合物（Ａ）と上記液晶化合物（Ｂ）との合計量１００質量部に対して、５０質量部以下が好ましく、３０質量部以下が更に好ましい。
【００６０】
上記溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、ｎ−ブチルベンゼン、ジエチルベンゼン、テトラリン、メトキシベンゼン、１，２−ジメトキシベンゼン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルホルムアミド、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、ｔ−ブチルアルコール、ジアセトンアルコール、グリセリン、モノアセチレン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、ヘキシレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ等が挙げられる。これらの溶剤は単一化合物であってもよいし、又は混合物であってもよい。これらの溶剤の中でも、沸点が６０〜２５０℃のものが好ましく、６０〜１８０℃のものが特に好ましい。沸点が６０〜２５０℃のものとしては、トルエン、キシレン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを好ましく挙げることができる。溶剤の沸点が６０℃より低いと塗布工程で溶剤が揮発して層の厚さにムラが生じやすく、溶剤の沸点が２５０℃より高いと脱溶剤工程で減圧しても溶剤が残留したり、高温での処理による熱重合を誘起したりして配向性が低下する場合がある。溶剤の使用量は特に制限されるものではないが、溶解性及び塗布性を良好にする観点からは、本発明に用いられる重合性組成物中に固形分（溶剤以外の全成分）が３〜９０質量％となるように溶剤を使用することが好ましい。
【００６１】
また、本発明に用いられる重合性組成物には、選択反射波長及び液晶化合物との相溶性等を調節することを目的として、他の光学活性化合物を添加することができる。かかる光学活性化合物としては、例えば下記〔化２９〕に示される化合物Ｎｏ．１８２〜Ｎｏ．１９４等を挙げることができる。上記他の光学活性化合物を添加する場合、その添加量は、上記重合性光学活性イミド化合物（Ａ）と上記液晶化合物（Ｂ）との合計量１００質量部に対し、０．１〜１００質量部の範囲内が好ましく、１〜５０質量部の範囲内が更に好ましい。
【００６２】
【化２９】
【００６３】
また、本発明に用いられる重合性組成物には、空気界面側に分布する排除体積効果を有する界面活性剤をさらに添加することができる。該界面活性剤としては、重合性組成物を支持基板等に塗布することを容易にしたり、液晶相の配向を制御したりする等の効果を与えるものが好ましい。かかる界面活性剤としては、４級アンモニウム塩、アルキルアミンオキサイド、ポリアミン誘導体、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン縮合物、ポリエチレングリコール及びそのエステル、ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸アンモニウム、ラウリル硫酸アミン類、アルキル置換芳香族スルホン酸塩、アルキルリン酸塩、ペルフルオロアルキルスルホン酸塩、ペルフルオロアルキルカルボン酸塩、ペルフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、ペルフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩等が挙げられる。上記界面活性剤の好ましい添加量は、界面活性剤の種類、組成物の成分比等に依存するが、上記重合性光学活性イミド化合物（Ａ）と上記液晶化合物（Ｂ）との合計量１００質量部に対して、０．０１〜５質量部の範囲内が好ましく、０．０５〜１質量部の範囲内が更に好ましい。
【００６４】
また、本発明に用いられる重合性組成物には、更に、重合性組成物の特性を調製するための添加剤を添加してもよい。かかる添加剤としては、例えば、保存安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、微粒子化物、並びに機能性化合物等が挙げられる。
【００６５】
上記保存安定剤は、重合性組成物の保存安定性を向上させる効果を付与することができる。使用できる保存安定剤としては、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノアルキルエーテル類、第三ブチルカテコール類、ピロガロール類、チオフェノール類、ニトロ化合物類、２−ナフチルアミン類、２−ヒドロキシナフタレン類等が挙げられる。上記保存安定剤を添加する場合、その添加量は、上記重合性光学活性イミド化合物（Ａ）と上記液晶化合物（Ｂ）との合計量１００質量部に対して、１質量部以下が好ましく、０．５質量部以下が更に好ましい。
【００６６】
上記酸化防止剤としては、特に制限なく公知の化合物を使用することができ、ヒドロキノン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール、トリフェニルホスファイト、トリアルキルホスファイト等を用いることができる。
【００６７】
上記紫外線吸収剤としては、特に制限なく公知の化合物を使用することができ、例えば、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、シアノアクリレート系化合物又はニッケル錯塩系化合物によって紫外線吸収能をもたせたものを用いることが出来る。
【００６８】
上記微粒子化物は、光学（屈折率）異方性（Δｎ）を調整したり、重合体の強度を上げたりするために使用することができる。上記微粒子化物の材質としては、無機物、有機物、金属等が挙げられる。凝集防止のため、上記微粒子化物としては、０．００１〜０．１μｍの粒子径のものが好ましく、０．００１〜０．０５μｍの粒子径のものが更に好ましい。また、粒子径の分布はシャープであるものが好ましい。上記微粒子化物は、上記重合性光学活性イミド化合物（Ａ）と上記液晶化合物（Ｂ）との合計量１００質量部に対して、０．１〜３０質量部の範囲内で使用することが好ましい。
【００６９】
上記無機物としては、セラミックス、フッ素金雲母、フッ素四ケイ素雲母、テニオライト、フッ素バーミキュライト、フッ素ヘクトライト、ヘクトライト、サポナイト、スチブンサイト、モンモリロナイト、バイデライト、カオリナイト、フライポンタイト、ＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＣｅＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｆｅ2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＭｇＦ2、ＳｉＯ2、ＳｒＣＯ3、Ｂａ（ＯＨ）2、Ｃａ（ＯＨ）2、Ｇａ（ＯＨ）3、Ａｌ（ＯＨ）3、Ｍｇ（ＯＨ）2、Ｚｒ（ＯＨ）4等が挙げられる。また、炭酸カルシウムの針状結晶等の微粒子は光学異方性を有し、このような微粒子によって重合体の光学異方性を調節できる。上記有機物としては、カーボンナノチューブ、フラーレン、デンドリマー、ポリビニルアルコール、ポリメタクリレート、ポリイミド等が挙げられる。
【００７０】
上記機能性化合物として用いられるポリマーは、重合体の電気特性や配向性を制御することができる。上記ポリマーとしては、上記溶剤に可溶性の高分子化合物を好ましく使用することができる。かかる高分子化合物としては、ポリアミド、ポリウレタン、ポリウレア、ポリエポキサイド、ポリエステル、ポリエステルポリオール等が挙げられる。
【００７１】
本発明に用いられる重合性組成物において、上記の重合性光学活性イミド化合物（Ａ）、液晶化合物（Ｂ）及びラジカル重合開始剤（Ｃ）以外の任意の各種添加剤成分（但し、溶剤を除く）は、特に制限無く、作製される重合体の特性を損なわない範囲で適宜使用することができるが、好ましくは、上記重合性光学活性イミド化合物（Ａ）と上記液晶化合物（Ｂ）との合計量１００質量部に対して、全添加剤成分の合計で３０質量部以下となるようにする。
【００７２】
本発明の赤外線反射層は、以上説明した重合性組成物を、重合させた重合物からなる。かかる重合物は、上記の重合性光学活性イミド化合物（Ａ）、液晶化合物（Ｂ）及びラジカル重合開始剤（Ｃ）並びに必要に応じて上述の各種添加剤成分を含み、さらに必要に応じて溶剤を加えてそれらを溶解させた重合性組成物を、支持基板上に塗布し、乾燥して塗膜を形成した後、エネルギー線を照射して、該重合性組成物中の重合性光学活性イミド化合物（Ａ）等の重合性化合物を光重合させて、重合性光学活性イミド化合物（Ａ）等の液晶化合物を配向、固定化することにより製造することができる。支持基板上に形成した該赤外線反射層は、そのまま使用しても良いが、必要に応じて、支持基板から剥離したり、他の支持基板に転写して使用しても良い。
【００７３】
上記支持基板としては、特に限定されないが、好ましい例としては、ガラス板、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）板、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）板、ポリカーボネート板、ポリイミド板、ポリアミド板、ポリメタクリル酸メチル板、ポリスチレン板、ポリ塩化ビニル板、ポリテトラフルオロエチレン板、セルロース板、シリコン板、反射板、シクロオレフィンポリマー及び方解石板が挙げられる。このような支持基板上に、後述のようにポリイミド系配向膜又はポリビニルアルコール系配向膜を施したものが特に好ましく使用することができる。
【００７４】
上記支持基板に上記重合性組成物の溶液を塗布する方法としては、公知の方法を用いることができ、該方法としては、カーテンコーティング法、押し出しコーティング法、ロールコーティング法、スピンコーティング法、ディップコーティング法、バーコーティング法、スプレーコーティング法、スライドコーティング法、印刷コーティング法及び流延成膜法等が挙げられる。塗布された重合性組成物は、自然乾燥、加熱乾燥等により溶剤を除去し塗膜とすることができる。尚、塗膜の膜厚は、用途等に応じて適宜選択されるが、好ましくは０．００１〜３０μｍ、更に好ましくは０．００１〜１０μｍ、特に好ましくは０．００５〜８μｍの範囲から選択される。
【００７５】
上記重合性組成物の重合物からなる赤外線反射層を作製する際に、該重合性組成物中の液晶化合物を配向させる方法としては、例えば、支持基板上に事前に配向処理を施す方法が挙げられる。上記支持基板上に配向処理を施す好ましい方法としては、各種ポリイミド系配向膜又はポリビニルアルコール系配向膜からなる液晶配向層を支持基板上に設け、ラビング等の処理を行う方法が挙げられる。また、上記液晶化合物を配向させる方法としては、支持基板上の重合性組成物中の液晶化合物に対し磁場や電場等を印加する方法等も挙げられる。
【００７６】
上記重合性組成物に含まれる重合性光学活性イミド化合物（Ａ）等の重合性化合物を光重合させるために使用する上記エネルギー線の好ましい種類は、紫外線、可視光線、赤外線等である。電子線、Ｘ線等の電磁波を用いてもよい。通常は、紫外線又は可視光線が好ましい。好ましい波長の範囲は１５０〜５００ｎｍである。更に好ましい範囲は２５０〜４５０ｎｍであり、最も好ましい範囲は３００〜４００ｎｍである。光源としては、低圧水銀ランプ（殺菌ランプ、蛍光ケミカルランプ、ブラックライト）、高圧放電ランプ（高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ）、又はショートアーク放電ランプ（超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、水銀キセノンランプ）等が挙げられるが、超高圧水銀ランプを使用することが好ましい。光源からの光はそのまま重合性組成物に照射してもよく、層によって選択した特定の波長（又は特定の波長領域）を重合性組成物に照射してもよい。好ましい照射エネルギー密度は、２〜５０００ｍＪ／ｃｍ2であり、更に好ましい範囲は１０〜３０００ｍＪ／ｃｍ2であり、更に好ましい範囲は１００〜２０００ｍＪ／ｃｍ2である。好ましい照度は０．１〜５０００ｍＷ/ｃｍ2であり、更に好ましい照度は１〜２０００ｍＷ/ｃｍ2である。光を照射するときの温度は、重合性組成物が液晶相を有するように設定できるが、好ましい照射温度は１００℃以下である。１００℃以上の温度では熱による重合が起こりうるので、良好な配向が得られないときがある。
【００７７】
本発明の赤外線反射層の厚みは、用途等に応じて適宜選択されるが、好ましくは１〜５０μｍ、更に好ましくは３〜３０μｍ、特に好ましくは５〜１５μｍの範囲から選択される。
【００７８】
以上説明した本発明の赤外線反射層は、単独で、又は赤外線反射層を少なくとも一つ含む積層体として、後述の光電変換デバイスに用いられる他、自動車や建材向けの合わせガラス等に用いられ、温度を向上させずに明るさを確保したい用途に広く使用できる。
【００７９】
次に、本発明の積層体について説明する。尚、特に説明しない点については、本発明の赤外線反射層における説明が適宜適用される。
本発明の積層体は、本発明の赤外線反射層を用いている点に特徴があり、その構成に制限はなく、必要に応じて、上述の重合性組成物を用いない赤外線反射層、接着層、配向膜、保護層、潤滑層、光学機能層、反射防止層等の各種機能層を有することができる。また、本発明の積層体における赤外線反射層の大きさ及び形状は、特に制限されず、用途に応じて適宜決定される。
【００８０】
上記の重合性組成物を用いない赤外線反射層としては、上記一般式（１）で表される重合性光学活性イミド化合物（Ａ）の代わりに、上記の他の光学活性化合物等を用いた赤外線反射層、無機の微粒子や中空子を用いた赤外線反射層等が挙げられ、用いられる無機の微粒子や中空子としては、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ等の貴金属；酸化ケイ素；フッ素添加酸化スズ；ＩＴＯ等が挙げられる。
【００８１】
上記接着層は、本発明の赤外線反射層を複数積層させるときに、特に用いられる。かかる接着層に用いられる材料としては特に限定されないが、可視光等の有用な光の透過を妨げないものが好ましく、例えばエポキシ系接着剤、ウレタン系接着剤、アクリル系接着剤等の光学接着剤等が挙げられる。
【００８２】
本発明の積層体は、上記重合性組成物を用いて形成される、本発明の赤外線反射層を少なくとも一つ含んでいればよいものであるが、赤外線に対して高い選択反射性を得ることができることから、下記ｉ）及びii）の赤外線反射層を少なくとも一組み含むものが好ましい。
ｉ）上記重合性光学活性イミド化合物（Ａ）が上記一般式（２）で表される化合物である赤外線反射層。
ii）上記重合性光学活性イミド化合物（Ａ）が上記一般式（３）で表される化合物である赤外線反射層。
また、本発明の積層体としては、上記重合性光学活性イミド化合物（Ａ）の含有量を変えた赤外線反射層を複数設けることで、複数の領域の赤外線を反射する機能を得ることもできる。
【００８３】
次に、本発明の積層体のより具体的な構成に関し、その好ましい実施形態の一つである、２つの赤外線反射層を含む積層体について、図面を参照しながら説明する。尚、本発明の積層体は、赤外線反射層の厚み、数及び積層順に関して何ら限定されない。図１（ａ）に示すように、支持基板１の一方の表面上をラビング処理した後に、赤外線反射層２を形成し、更に赤外線反射層２の上に接着層４を形成する。また、これとは別の支持基板１の表面上に赤外線反射層３を形成する。次いで、赤外線反射層２と赤外線反射層３とを接着層４を介して貼り合わせた後に、接着層４を硬化させる。硬化にて接着させた後、一方の支持基板１を剥離することで積層体を得ることができる。あるいはまた、図１（ｂ）に示すように、支持基板１の一方の表面上をラビング処理した後に、赤外線反射層２を形成し、支持基板１のもう一方の表面上をラビング処理した後に、赤外線反射層３を形成することでも図１（ａ）と同様の機能を有する積層体を得ることができる。あるいはまた、図１（ｃ）に示すように、例えば、図１（ａ）で形成された積層体から更に支持基板１を取り除き、赤外線反射層２及び３と接着層４とからなる積層体であってもよい。
尚、赤外線反射層２及び３は、上述したように、上記一般式（１）で表される重合性光学活性イミド化合物（Ａ）、液晶化合物（Ｂ）及びラジカル重合開始剤（Ｃ）を含んでなる重合性組成物を上記溶剤に溶解して溶液とした後、支持基板１に塗布して、重合性組成物中の液晶分子を配向させた状態で脱溶剤し、次いでエネルギー線を照射することで得られる。また、各種機能層及び各赤外線反射層の積層方法には粘着剤の使用や光接着にて行うことができる。
【００８４】
次に、本発明の赤外線反射層又は積層体を使用してなる光電変換デバイスについて説明する。尚、特に説明しない点については、本発明の赤外線反射層及び積層体における説明が適宜適用される。
本発明の光電変換デバイスは、光電変換素子と、本発明の赤外線反射層又は積層体とを有していれば特に限定はされず、従来の光電変換デバイスに準じた構成とすることができる。図３（ａ）及び（ｂ）に、本発明の光電変換デバイスの一例としての太陽電池を示す。図３（ａ）の太陽電池においては、集光フィルム２３０上に赤外線反射層２６０を設けることで、発電に不要な熱線（赤外線）を反射し、光電変換素子２４０の温度上昇を抑制し、発電効率の低下を抑えることが可能である。あるいはまた、図３（ｂ）の太陽電池においては、透明基板２１０上に赤外線反射層２６０を設け、更にその上に表面シート層２００を設けることで太陽電池全体の温度上昇を抑制している。
【００８５】
本発明の光電変換デバイスとしては、特に限定されないが、例えば単結晶型、多結晶型、アモルファスシリコン型等のシリコン型太陽電池；ＧａＡｓ系、ＣＩＳ系、Ｃｕ2ＺｎＳｎＳ4系、ＣｄＴｅ−ＣｄＳ系等の化合物系太陽電池；色素増感型、有機薄膜型等の有機系太陽電池等の太陽電池が挙げられる。
【実施例】
【００８６】
以下、実施例、比較例をもって本発明を更に詳細に説明する。しかしながら、本発明は以下の実施例によって何ら制限を受けるものではない。
【００８７】
〔調製例〕重合性組成物溶液１〜１０の調製
シクロペンタノン６．０ｇ（界面活性剤としてＫＨ−４０（ＡＧＣセイミケミ社製）を３７５ｐｐｍ含有）に重合性光学活性イミド化合物（（Ａ）成分）及び液晶化合物（（Ｂ）成分）を下記〔表１〕に従い配合して温湯で完全に溶解した後、更にラジカル重合開始剤（（Ｃ）成分）としてＮ−１９１９（ＡＤＥＫＡ社製）９０ｍｇを加えて完全に溶解し、０．４５μｍ Ｄｉｓｍｉｃ Ｆｉｌｔｅｒを用いてろ過したものを、重合性組成物溶液１〜１０とした。
【００８８】
【表１】
【００８９】
【化３０】
【００９０】
【化３１】
【００９１】
〔比較調製例〕比較重合性組成物溶液１及び２の調製
上記調製例における（Ａ）成分を下記比較化合物Ｎｏ．１又は１’（それぞれ９３ｍｇ）に変更した以外は同様の手順で比較重合性組成物溶液１及び２を得た。
【００９２】
【化３２】
【００９３】
〔実施例１〕
ＰＥＴ基板（東洋紡社製 Ａ４１００：厚み１００μｍ）の一方の面（表面）上を５回ラビング処理した後に、調製例で得られた重合性組成物溶液１をワイヤーバー（Ｒ．Ｄ．Ｓｐｅｃｉａｌｔｉｅｓ製：ＲＤＳ１２）にて塗工し、１００℃で３分乾燥して塗膜を得た。得られた塗膜に、大気下で超高圧水銀ランプにて３００ｍＪ／ｃｍ2の光を照射し、塗膜を光硬化させて赤外線反射層を形成し、積層体Ｎｏ．１を得た。
【００９４】
〔実施例２〕
実施例１において、重合性組成物溶液１を重合性組成物溶液２に変更した以外は、実施例１と同様の手法で、積層体Ｎｏ．２を得た。
【００９５】
〔実施例３〕
ＴＡＣ基板１（富士フィルム社製 ＦＴ＿ＴＤＹ８０ＵＬ：厚み８０μｍ）の一方の面（表面）上を５回ラビング処理した後に、調製例で得られた重合性組成物溶液１をワイヤーバー（ＲＤＳ１２）にて塗工し、１００℃で３分乾燥して塗膜を得た。得られた塗膜に、大気下で超高圧水銀ランプにて３００ｍＪ／ｃｍ2の光を照射し、塗膜を光硬化させて赤外線反射層２を形成した。次いで、ＴＡＣ基板１のもう一方の面（裏面）上に、重合性組成物溶液２を用いて同様の操作で赤外線反射層３を形成し、〔図１（ｂ）〕に相当する積層体Ｎｏ．３を得た。
【００９６】
〔実施例４〕
ＰＥＴ基板１（東洋紡社製 Ａ４１００：厚み１００μｍ）の一方の面（表面）上を５回ラビング処理した後に、調製例で得られた重合性組成物溶液１をワイヤーバー（ＲＤＳ１２）にて塗工し、１００℃で３分乾燥して塗膜を得た。得られた塗膜に、大気下で超高圧水銀ランプにて３００ｍＪ／ｃｍ2の光を照射し、塗膜を光硬化させて赤外線反射層２を形成した。次いで、ＰＥＴ基板１のもう一方の面（裏面）上に、重合性組成物溶液２を用いて同様の操作で赤外線反射層３を形成し、〔図１（ｂ）〕に相当する積層体Ｎｏ．４を得た。
【００９７】
〔実施例５〕
〔図２〕に示すように、ＰＥＴ基板１（東洋紡社製 Ａ４１００：厚み１００μｍ）の一方の面（表面）上を５回ラビング処理した後に、調製例で得られた重合性組成物溶液３をワイヤーバー（ＲＤＳ１２）にて塗工し、１００℃で３分乾燥して塗膜（光硬化にて赤外線反射層２となる塗膜）を得た。別のＰＥＴ基板１'（東洋紡社製 Ａ４１００：厚み１００μｍ）上に、重合性組成物溶液４を用いて同様の操作で塗膜（光硬化にて赤外線反射層３となる塗膜）を形成した。赤外線反射層２となる上記塗膜上に、アクリル系接着剤をワイヤーバー（ＲＤＳ０３）で塗工して接着層４を形成し、赤外線反射層３となる上記塗膜を有するＰＥＴ基板１'を天地反転させて、赤外線反射層２となる上記塗膜と赤外線反射層３となる上記塗膜とを、接着層４を介して貼り合わせた後、大気下で超高圧水銀ランプにて３００ｍＪ／ｃｍ2の光を照射して、上記塗膜及び接着層４を光硬化させた後、ＰＥＴ基板１'を剥離し、〔図１（ａ）〕に相当する積層体Ｎｏ．５を得た。
【００９８】
〔実施例６〕
実施例５において、重合性組成物溶液３及び４を重合性組成物溶液５及び６に変更した以外は、実施例５と同様の手法で、〔図１（ａ）〕に相当する積層体Ｎｏ．６を得た。
【００９９】
〔実施例７〕
〔図２〕に示すように、実施例５の積層体を得た後、別のＰＥＴ基板１’’（東洋紡社製 Ａ４１００：厚み１００μｍ）上に、重合性組成物溶液５を用いて同様の操作で塗膜（光硬化にて赤外線反射層３’となる塗膜）を得た。上記実施例５の積層体の赤外線反射層３上に接着層４を形成して、該赤外線反射層３と赤外線反射層３’となる上記塗膜とを、接着層４を介して貼り合わせた後、大気下で超高圧水銀ランプにて３００ｍＪ／ｃｍ2の光を照射して、上記塗膜及び接着層４を光硬化させた後、ＰＥＴ基板１'’を剥離した。更に、別のＰＥＴ基板１’’’（東洋紡社製 Ａ４１００：厚み１００μｍ）上に、重合性組成物溶液６を用いて同様の操作で塗膜（光硬化にて赤外線反射層３'’となる塗膜）を形成した。上記赤外線反射層３’上に接着層４を形成し、該赤外線反射層３’と赤外線反射層３'’となる上記塗膜とを、接着層４を介して貼り合わせた後、大気下で超高圧水銀ランプにて３００ｍＪ／ｃｍ2の光を照射して、上記塗膜及び接着層４を光硬化させた後、ＰＥＴ基板１’’’を剥離して、積層体Ｎｏ．７を得た。
【０１００】
〔実施例８〕
実施例１において、重合性組成物溶液１を重合性組成物溶液７に変更した以外は、実施例１と同様の手法で、積層体Ｎｏ．８を得た。
【０１０１】
〔実施例９〕
実施例１において、重合性組成物溶液１を重合性組成物溶液８に変更した以外は、実施例１と同様の手法で、積層体Ｎｏ．９を得た。
【０１０２】
〔実施例１０〕
実施例１において、重合性組成物溶液１を重合性組成物溶液９に変更し、乾燥温度を１００℃から８０℃に変更した以外は、実施例１と同様の手法で、積層体Ｎｏ．１０を得た。
【０１０３】
〔実施例１１〕
実施例１において、重合性組成物溶液１を重合性組成物溶液１０に変更し、乾燥温度を１００℃から８０℃に変更した以外は、実施例１と同様の手法で、積層体Ｎｏ．１１を得た。
【０１０４】
尚、実施例１〜１１の積層体Ｎｏ．１〜１１における赤外線反射層の厚みは、何れも６．５μｍであり、実施例５〜７の積層体Ｎｏ．５〜７における接着層の厚みは、何れも３μｍであった。
【０１０５】
〔実施例１２〜１４〕
実施例１において、ワイヤーバーをＲＤＳ１２からそれぞれＲＤＳ５、ＲＤＳ８又はＲＤＳ２０に変更した以外は実施例１と同様の手法で、積層体Ｎｏ．１２〜１４を得た。
【０１０６】
〔比較例１〕
実施例５において、重合性組成物溶液３及び４を、比較重合性組成物溶液１及び２に変更した以外は、実施例５と同様の手法で、〔図１（ａ）〕の積層体に相当する比較積層体Ｎｏ．１を得た。
【０１０７】
〔評価例１〜９並びに比較評価例１及び２〕
積層体Ｎｏ．３〜１１及び比較積層体Ｎｏ．１を用いて、配向の均質性を下記の評価方法により評価した。結果を〔表２〕に示す。また、積層体Ｎｏ．３〜７及びＰＥＴ基板（比較評価例２）を用いて赤外線反射性を下記の評価方法により評価した（尚、比較積層体Ｎｏ．１は均質な膜が得られなかったため評価しなかった）。結果を〔表３〕に示す。また、実施例及で得られた積層体Ｎｏ．１、２、４〜７、１０及び１１の反射・透過スペクトルを測定した。尚、積層体の反射・透過スペクトルは、積層体中の基板（ＰＥＴ又はＴＡＣ）のスペクトル（基板表面における１０％程度の反射スペクトル）を含む。結果を、〔図４〕〜〔図１１〕に示す。
【０１０８】
＜配向の均質性の評価方法＞
得られた塗膜を偏光顕微鏡（Ｎｉｋｏｎ社製；ＯＰＴＩＰＨＯＴ２−ＰＯＬ）を用いて目視で評価した。配向欠陥が確認されなければ○、結晶化や配向ムラが確認された場合は×とした。
【表２】
【０１０９】
＜赤外線反射性の評価方法＞
先ず、一面だけ切り取られた発泡スチロール箱の切り取られた部分に、上記で得られた積層体を赤外線反射層が外側になるように貼り付け、一面だけ赤外線反射層を有する積層体となっている箱を作製した。該積層体面と対向する発泡スチロール面から熱電対を刺し、積層体に触れるようにした。赤外線電球（東芝ライテック社製 ＩＲ１００）を光源とし、赤外線反射層面と赤外線電球の距離が５ｃｍとなるように設置し、２０分照射した。２０分後の比較例２における温度と各評価例の温度差を表した。
【０１１０】
【表３】
【０１１１】
〔評価例１０〜１３〕
ワイヤーバーを変更して膜厚を変化させた積層体Ｎｏ．１及び１２〜１４の１４００ｎｍにおける反射率及び透過率を測定した。結果を〔表４〕に示す。
【０１１２】
【表４】
【０１１３】
実施例で得られた赤外線反射層を有する積層体の反射・透過スペクトルの結果より、本発明の赤外線反射層を有する積層体は、反射する波長が８００ｎｍ〜２０００ｎｍ（更には、１２００ｎｍ〜１８００ｎｍ）である。
以上の結果から、本発明に用いられる重合性組成物は硬化膜としたときにクラックや結晶化が起こりにくく、得られた赤外線反射層は熱線を反射させるため、透過光による温度上昇が抑制され、建材や自動車用の貼り合わせガラスに好適に用いることができる。
また、本発明の赤外線反射層又は積層体を用いた光電変換デバイスは光電変換素子又はデバイス自体の温度上昇を抑制し、温度上昇による発電効率の低下を防ぐため有用である。
【符号の説明】
【０１１４】
１、１'、１’’、１’’’基板
２ 赤外線反射層
３、３'、３’’ 赤外線反射層
４ 接着層
２００ 表面シート層
２１０ 透明基板
２２０ 充填剤層
２３０ 集光フィルム
２４０ 光電変換素子
２５０ バックシート層
２６０ 赤外線反射層
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で表される重合性光学活性イミド化合物（Ａ）、液晶化合物（Ｂ）及びラジカル重合開始剤（Ｃ）を含んでなり、
上記重合性光学活性イミド化合物（Ａ）と上記液晶化合物（Ｂ）の含有量の合計を１００質量部としたときの、該重合性光学活性イミド化合物（Ａ）の含有量が０．１〜１０質量部である重合性組成物を重合させた重合物からなり、赤外線を反射することを特徴とする赤外線反射層。
【化１】
（式（１）中、環Ａ1、Ａ2、Ａ3及びＡ4は、それぞれ独立に、ベンゼン環又はナフタレン環を表し、該ベンゼン環及びナフタレン環中の炭素原子は、窒素原子で置換されていてもよく、
Ｍ1及びＭ2は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、
Ｒ1は、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基又は炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基を表し、Ｒ1中の水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、Ｒ1中のメチレン基は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で中断されていてもよく、
Ｘ1は、直接結合、−Ｌ1−、−Ｌ1Ｏ−、−Ｌ1Ｏ−ＣＯ−、−Ｌ1ＣＯ−Ｏ−又は−Ｌ1Ｏ−ＣＯ−Ｏ−を表し、Ｌ1及びＬ2は、それぞれ独立に、分岐を有していてもよい炭素原子数１〜８のアルキレン基を表し、該アルキレン基は酸素原子で１〜３回中断されていてもよく、
Ｘ2及びＸ5は、それぞれ独立に、直接結合、エステル結合、エーテル結合、分岐を有していてもよく、不飽和結合を有していてもよい炭素原子数１〜８のアルキレン基、又は、これらの組み合わせからなる連結基を表し、該アルキレン基は酸素原子で１〜３回中断されていてもよく、
Ｘ3は、直接結合、−ＣＯ−、−Ｌ2−、−ＯＬ2−、−Ｏ−ＣＯＬ2−、−ＣＯ−ＯＬ2−又は−Ｏ−ＣＯ−ＯＬ2−を表し、
Ｘ4は、直接結合、−ＣＯ−、−Ｌ1−、−Ｌ1Ｏ−、−Ｌ1Ｏ−ＣＯ−、−Ｌ1ＣＯ−Ｏ−又は−Ｌ1Ｏ−ＣＯ−Ｏ−を表し、
Ｘ6は、直接結合、−Ｌ2−、−ＯＬ2−、−Ｏ−ＣＯＬ2−、−ＣＯ−ＯＬ2−又は−Ｏ−ＣＯ−ＯＬ2−を表し、ｎ及びｍは、それぞれ独立に、０又は１を表す。）
【請求項２】
上記重合性光学活性イミド化合物（Ａ）と上記液晶化合物（Ｂ）の含有量の合計を１００質量部としたときの、該重合性光学活性イミド化合物（Ａ）の含有量が１〜５質量部である請求項１に記載の赤外線反射層。
【請求項３】
反射する赤外線の波長が８００ｎｍ〜２０００ｎｍである請求項１又は２に記載の赤外線反射層。
【請求項４】
反射する赤外線の波長が１２００ｎｍ〜１８００ｎｍである請求項１又は２に記載の赤外線反射層。
【請求項５】
上記液晶化合物（Ｂ）が重合性官能基を有する液晶化合物である請求項１〜４の何れか１項に記載の赤外線反射層。
【請求項６】
上記重合性官能基を有する液晶化合物が下記一般式（４）で表される化合物である請求項５に記載の赤外線反射層。
【化２】
（式中、環Ａ11、Ａ12及びＡ13は、それぞれ独立に、シクロヘキサン環、ベンゼン環、ナフタレン環を表し、
Ｌ11、Ｌ12及びＬ13は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−Ｘ15−Ｏ−ＣＯ−ＣＭ13＝ＣＨ2、炭素原子数１〜１０のアルキル基、アルコキシ基、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基又はアルキルカルボニルオキシ基を表し、
Ｍ11、Ｍ12及びＭ13は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、
Ｘ11、Ｘ12、Ｘ13、Ｘ14及びＸ15は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ11−、−ＮＲ11−ＣＯ−、−Ｏ（ＣＨ2）r−、−（ＣＨ2）sＯ−、−ＳＣＨ2−、−ＣＨ2Ｓ−、−ＣＦ2Ｏ−、−ＯＣＦ2−、−ＣＦ2Ｓ−、−ＳＣＦ2−、−ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＦ2ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＦ2−、−ＣＦ2ＣＦ2−、−ＣＨ＝ＣＲ11−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＦ−、−ＣＹ1＝ＣＹ1−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表し、Ｒ11は、水素原子又は炭素原子数１〜１２のアルキル基を表し、Ｙ1は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、メチル基又はエチル基を表し、ｒ及びｓは、それぞれ独立に１〜６の整数を表し、ｏ、ｐ及びｑは、それぞれ０〜４の整数を表す。）
【請求項７】
請求項１〜６の何れか１項に記載の赤外線反射層を少なくとも一つ含んでなる積層体。
【請求項８】
下記ｉ）及びii）の赤外線反射層を少なくとも一組み含んでなる請求項７に記載の積層体。
ｉ）上記重合性光学活性イミド化合物（Ａ）が下記一般式（２）で表される化合物である赤外線反射層。
ii）上記重合性光学活性イミド化合物（Ａ）が下記一般式（３）で表される化合物である赤外線反射層。
【化３】
（式中、環Ａ1〜Ａ4、Ｍ1、Ｍ2、Ｒ1、Ｘ1〜Ｘ6、ｎ及びｍは上記一般式（１）と同じである）
【化４】
（式中、環Ａ1〜Ａ4、Ｍ1、Ｍ2、Ｒ1、Ｘ1〜Ｘ6、ｎ及びｍは上記一般式（１）と同じである）
【請求項９】
請求項１〜６の何れか１項に記載の赤外線反射層又は請求項７若しくは８に記載の積層体を使用してなる光電変換デバイス。
【請求項１】
下記一般式（１）で表される重合性光学活性イミド化合物（Ａ）、液晶化合物（Ｂ）及びラジカル重合開始剤（Ｃ）を含んでなり、
上記重合性光学活性イミド化合物（Ａ）と上記液晶化合物（Ｂ）の含有量の合計を１００質量部としたときの、該重合性光学活性イミド化合物（Ａ）の含有量が０．１〜１０質量部である重合性組成物を重合させた重合物からなり、赤外線を反射することを特徴とする赤外線反射層。
【化１】
（式（１）中、環Ａ1、Ａ2、Ａ3及びＡ4は、それぞれ独立に、ベンゼン環又はナフタレン環を表し、該ベンゼン環及びナフタレン環中の炭素原子は、窒素原子で置換されていてもよく、
Ｍ1及びＭ2は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、
Ｒ1は、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基又は炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基を表し、Ｒ1中の水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、Ｒ1中のメチレン基は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で中断されていてもよく、
Ｘ1は、直接結合、−Ｌ1−、−Ｌ1Ｏ−、−Ｌ1Ｏ−ＣＯ−、−Ｌ1ＣＯ−Ｏ−又は−Ｌ1Ｏ−ＣＯ−Ｏ−を表し、Ｌ1及びＬ2は、それぞれ独立に、分岐を有していてもよい炭素原子数１〜８のアルキレン基を表し、該アルキレン基は酸素原子で１〜３回中断されていてもよく、
Ｘ2及びＸ5は、それぞれ独立に、直接結合、エステル結合、エーテル結合、分岐を有していてもよく、不飽和結合を有していてもよい炭素原子数１〜８のアルキレン基、又は、これらの組み合わせからなる連結基を表し、該アルキレン基は酸素原子で１〜３回中断されていてもよく、
Ｘ3は、直接結合、−ＣＯ−、−Ｌ2−、−ＯＬ2−、−Ｏ−ＣＯＬ2−、−ＣＯ−ＯＬ2−又は−Ｏ−ＣＯ−ＯＬ2−を表し、
Ｘ4は、直接結合、−ＣＯ−、−Ｌ1−、−Ｌ1Ｏ−、−Ｌ1Ｏ−ＣＯ−、−Ｌ1ＣＯ−Ｏ−又は−Ｌ1Ｏ−ＣＯ−Ｏ−を表し、
Ｘ6は、直接結合、−Ｌ2−、−ＯＬ2−、−Ｏ−ＣＯＬ2−、−ＣＯ−ＯＬ2−又は−Ｏ−ＣＯ−ＯＬ2−を表し、ｎ及びｍは、それぞれ独立に、０又は１を表す。）
【請求項２】
上記重合性光学活性イミド化合物（Ａ）と上記液晶化合物（Ｂ）の含有量の合計を１００質量部としたときの、該重合性光学活性イミド化合物（Ａ）の含有量が１〜５質量部である請求項１に記載の赤外線反射層。
【請求項３】
反射する赤外線の波長が８００ｎｍ〜２０００ｎｍである請求項１又は２に記載の赤外線反射層。
【請求項４】
反射する赤外線の波長が１２００ｎｍ〜１８００ｎｍである請求項１又は２に記載の赤外線反射層。
【請求項５】
上記液晶化合物（Ｂ）が重合性官能基を有する液晶化合物である請求項１〜４の何れか１項に記載の赤外線反射層。
【請求項６】
上記重合性官能基を有する液晶化合物が下記一般式（４）で表される化合物である請求項５に記載の赤外線反射層。
【化２】
（式中、環Ａ11、Ａ12及びＡ13は、それぞれ独立に、シクロヘキサン環、ベンゼン環、ナフタレン環を表し、
Ｌ11、Ｌ12及びＬ13は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−Ｘ15−Ｏ−ＣＯ−ＣＭ13＝ＣＨ2、炭素原子数１〜１０のアルキル基、アルコキシ基、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基又はアルキルカルボニルオキシ基を表し、
Ｍ11、Ｍ12及びＭ13は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、
Ｘ11、Ｘ12、Ｘ13、Ｘ14及びＸ15は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ11−、−ＮＲ11−ＣＯ−、−Ｏ（ＣＨ2）r−、−（ＣＨ2）sＯ−、−ＳＣＨ2−、−ＣＨ2Ｓ−、−ＣＦ2Ｏ−、−ＯＣＦ2−、−ＣＦ2Ｓ−、−ＳＣＦ2−、−ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＦ2ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＦ2−、−ＣＦ2ＣＦ2−、−ＣＨ＝ＣＲ11−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＦ−、−ＣＹ1＝ＣＹ1−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表し、Ｒ11は、水素原子又は炭素原子数１〜１２のアルキル基を表し、Ｙ1は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、メチル基又はエチル基を表し、ｒ及びｓは、それぞれ独立に１〜６の整数を表し、ｏ、ｐ及びｑは、それぞれ０〜４の整数を表す。）
【請求項７】
請求項１〜６の何れか１項に記載の赤外線反射層を少なくとも一つ含んでなる積層体。
【請求項８】
下記ｉ）及びii）の赤外線反射層を少なくとも一組み含んでなる請求項７に記載の積層体。
ｉ）上記重合性光学活性イミド化合物（Ａ）が下記一般式（２）で表される化合物である赤外線反射層。
ii）上記重合性光学活性イミド化合物（Ａ）が下記一般式（３）で表される化合物である赤外線反射層。
【化３】
（式中、環Ａ1〜Ａ4、Ｍ1、Ｍ2、Ｒ1、Ｘ1〜Ｘ6、ｎ及びｍは上記一般式（１）と同じである）
【化４】
（式中、環Ａ1〜Ａ4、Ｍ1、Ｍ2、Ｒ1、Ｘ1〜Ｘ6、ｎ及びｍは上記一般式（１）と同じである）
【請求項９】
請求項１〜６の何れか１項に記載の赤外線反射層又は請求項７若しくは８に記載の積層体を使用してなる光電変換デバイス。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【公開番号】特開２０１２−１０７１３３（Ｐ２０１２−１０７１３３Ａ）
【公開日】平成２４年６月７日（２０１２．６．７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−２５７６５０（Ｐ２０１０−２５７６５０）
【出願日】平成２２年１１月１８日（２０１０．１１．１８）
【出願人】（００００００３８７）株式会社ＡＤＥＫＡ (987)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年６月７日（２０１２．６．７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年１１月１８日（２０１０．１１．１８）
【出願人】（００００００３８７）株式会社ＡＤＥＫＡ (987)
【Ｆターム（参考）】
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