透明導電体及びこれを用いたタッチパネル
【課題】低い表面電気抵抗値を有し、光線透過率が高く且つ着色が非常に少な透明導電体を提供する。前記透明導電体を用いたタッチパネルを提供する。
【解決手段】透明基材と、前記透明基材の一方の面上の反射低減層と、前記反射低減層上の透明導電層とを有する透明導電体であって、前記透明基材と前記反射低減層との間に、硬化性化合物を含む組成物の硬化物からなる厚みが２０００ｎｍ以下の第１色相調整層が設けられ、前記透明基材の他方の面上に、硬化性化合物を含む組成物の硬化物からなる厚みが２０００ｎｍ以下の第２色相調整層が設けられ、全光線透過率が９０％以上であり、且つ、ＪＩＳ Ｚ８７２９に定められているＬ* ａ* ｂ* 表色系のａ* 値が−１〜１の範囲であり、ｂ* 値が−２〜１の範囲である透明導電体。
【解決手段】透明基材と、前記透明基材の一方の面上の反射低減層と、前記反射低減層上の透明導電層とを有する透明導電体であって、前記透明基材と前記反射低減層との間に、硬化性化合物を含む組成物の硬化物からなる厚みが２０００ｎｍ以下の第１色相調整層が設けられ、前記透明基材の他方の面上に、硬化性化合物を含む組成物の硬化物からなる厚みが２０００ｎｍ以下の第２色相調整層が設けられ、全光線透過率が９０％以上であり、且つ、ＪＩＳ Ｚ８７２９に定められているＬ* ａ* ｂ* 表色系のａ* 値が−１〜１の範囲であり、ｂ* 値が−２〜１の範囲である透明導電体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明導電体、及びこれを用いたタッチパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスパネル（有機ＥＬ、無機ＥＬ）、タッチパネル、エレクトロクロミック素子といった表示装置には、透明電極が用いられている。このような透明電極は、基材と基材上に形成された透明導電層とからなる透明導電体（透明導電性フィルム又はシート、透明導電性ガラス）によって構成されることが多い。また、透明導電体は、透明な電磁波遮蔽膜として用いることもできる。
【０００３】
タッチパネル（タッチスイッチ、フラットスイッチとも称される）は、液晶装置などのディスプレイ表面に配置されたタブレット型の情報入力装置であり、携帯電話、カーナビゲーション、パーソナルコンピュータ、券売機、銀行のＡＴＭ端末などの電子機器に広く使用されている。
【０００４】
タッチパネルには、位置の検出方法によりいくつかの方式が知られている。それらの中でも、抵抗膜方式と静電容量方式がほとんどを占めている。抵抗膜方式のタッチパネルは、一般に、透明導電層を有する一対のパネル板が、前記透明導電層同士が対向するようにスペーサを介して配置されて成るものである。静電容量方式のタッチパネルは、例えば、基板上に設けられる第１の電極と、第１の電極を覆って形成される絶縁膜と、絶縁膜上に前記第１の電極と交差して設けられる第２の電極とを含んで構成されるものである。いずれのタッチパネルにおいても、液晶装置の画像表示領域に表示された指示画像を参照しながら、この指示画像が表示されている箇所に指やタッチペンなどが接触あるいは近接することで、その位置が検出され、指示画像に対応する情報の入力が行えるようになされている。
【０００５】
タッチパネルには、液晶ディスプレイの表示画像のコントラストや輝度を低下させないために、光線透過率が高く、且つ液晶ディスプレイの表示画像の色相を変化させないために、着色が少ないことが要求される。このような要求は、近年の液晶ディスプレイ表示、特に携帯電話、カーナビゲーション、パーソナルコンピュータの液晶ディスプレイ表示の高精細化により、ますます高まっている。
【０００６】
例えば、特開２０００−３０１６４８号公報には、有機高分子基材の少なくとも一方の最表面に透明導電層が積層されてなる透明導電性積層体において、基板側から順に、（Ａ１）屈折率が１．７から透明導電層の屈折率＋０．３の範囲にあり膜厚が２０〜９０ｎｍの層（Ｈ1 層）、（Ｂ１）屈折率が１．３５〜１．５の範囲にあり膜厚が３０〜１１０ｎｍの層（Ｌ1 層）、（Ｃ）膜厚が１２〜３０ｎｍの透明導電層が積層されており、
（Ｄ）該３層の光学膜厚の和が１８０〜２３０ｎｍの範囲であり、
（Ｆ）該透明導電層の積層面の波長４５０〜６５０ｎｍにおける平均反射率が５．５％以下であって、且つ（Ｇ）該積層体の透過光のＪＩＳ Ｚ７８２９に定めるＬ* ａ* ｂ* 表色系のクロマティクネス指数ｂ* 値が０〜２の範囲にある透明導電性積層体が開示されている（請求項１）。また、有機高分子基材の片面もしくは両面に樹脂架橋層からなる保護層が積層されることが開示されている（請求項９）。
【０００７】
しかしながら、同号公報によれば、全光線透過率を９０％以上とすれば、黄色味を帯びた積層体となり（実施例４，７）、着色をほとんどなくすようにすれば、全光線透過率は９０％に満たない積層体となった（実施例１〜３、５〜６、８〜１０）ことが示されている。
【０００８】
特開２００９−２８３３４８号公報には、透明プラスチックフィルム基材上に、高屈折率層、低屈折率層及び透明導電層をこの順に積層した透明導電性フィルムであって、高屈折率層は非晶質インジウム−スズ複合酸化物からなる無機薄膜であり、低屈折率層は屈折率が１．３０〜１．６０の無機薄膜からなり、透明導電層は屈折率が１．８０〜２．２０の無機薄膜からなり、且つ全光線透過率が９０％以上、カラーｂ値が−２〜２である透明導電性フィルムが開示されている（請求項１）。また、基材と透明導電層との間に、硬化型樹脂を主たる成分とする硬化物層を設けてもよいことが開示されている（段落[0013]）。また、透明導電層の形成面とは反対側の基材の面に、硬化型樹脂組成物からなるハードコート層を設けてもよいことが開示されている（段落[0038]）。
【０００９】
しかしながら、同号公報によれば、透明導電性フィルムの全光線透過率９１％が得られたが、カラーａ値、及びｂ値は満足される値ではなく、着色が見られるものであった（実施例１〜４）。
【００１０】
特開２０１０−２７５６７号公報には、透明フィルム基材の一方の面に、前記透明フィルム基材の側から第１透明誘電体層、第２透明誘電体層、第３透明誘電体層及び透明導電層がこの順に形成されている透明導電性フィルムであって、
前記透明フィルム基材の厚みが２〜２００μｍ、屈折率が１．５０〜１．７０であり、
前記第１透明誘電体層の厚みが１１０〜４００ｎｍ、屈折率が１．３０〜１．６５であり、
前記第２透明誘電体層の厚みが１５〜６５ｎｍ、屈折率が１．８０〜２．４０であり、
前記第３透明誘電体層の厚みが４０〜１００ｎｍ、屈折率が１．３０〜１．６５であり、前記透明導電層の厚みが１５〜３０ｎｍ、屈折率が１．７５〜２．１０である透明導電性フィルムが開示されている（請求項１、２、５）。
【００１１】
同号公報によれば、透明導電性フィルムの波長５５０ｎｍにおける透過率９５％が得られたが、着色の程度については言及されていない（実施例１〜４）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１２】
【特許文献１】特開２０００−３０１６４８号公報
【特許文献２】特開２００９−２８３３４８号公報
【特許文献３】特開２０１０−２７５６７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
以上のように、光線透過率が高く且つ着色が非常に少ない透明導電性フィルム、特に、高精細化された液晶ディスプレイ表示と組み合わせて用いられ得るタッチパネル用途の透明導電性フィルムの開発が望まれる。
【００１４】
本発明の目的は、低い表面電気抵抗値を有し、光線透過率が高く且つ着色が非常に少な透明導電体を提供することにある。また、本発明の目的は、前記透明導電体を用いたタッチパネルを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明者らは、基材の両面に色相調整のための薄膜層を設けることによって、上記目的が達成されることを見出した。
【００１６】
本発明には、以下の発明が含まれる。
（１） 透明基材と、前記透明基材の一方の面上の反射低減層と、前記反射低減層上の透明導電層とを有する透明導電体であって、
前記透明基材と前記反射低減層との間に、硬化性化合物を含む組成物の硬化物からなる厚みが２０００ｎｍ以下の第１色相調整層が設けられ、
前記透明基材の他方の面上に、硬化性化合物を含む組成物の硬化物からなる厚みが２０００ｎｍ以下の第２色相調整層が設けられ、
全光線透過率が９０％以上であり、且つ、
ＪＩＳ Ｚ７８２９に定められているＬ* ａ* ｂ* 表色系のａ* 値が−１〜１の範囲であり、ｂ* 値が−２〜１の範囲である透明導電体。
【００１７】
（２） 前記反射低減層は、前記第１色相調整層上の高屈折率層と、前記高屈折率層上の低屈折率層とを含み、
前記高屈折率層の屈折率は１．７０〜１．９０であり、厚みは１０〜１００ｎｍであり、
前記低屈折率層の屈折率は１．３０〜１．６０であり、厚みは１０〜１００ｎｍである、上記（１）に記載の透明導電体。
【００１８】
（３） 前記第１色相調整層の屈折率は１．４０〜前記透明基材の屈折率−０．０５の値であり、厚みは２００〜２０００ｎｍである、上記（１）又は（２）に記載の透明導電体。
【００１９】
（４） 前記第２色相調整層の屈折率は１．４０〜前記透明基材の屈折率−０．０５の値であり、厚みは２００〜２０００ｎｍである、上記（１）〜（３）のうちのいずれかに記載の透明導電体。
【００２０】
（５） 前記第１色相調整層を構成する前記組成物は、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物から選ばれる、上記（１）〜（４）のうちのいずれかに記載の透明導電体。
【００２１】
（６） 前記第２色相調整層を構成する前記組成物は、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物から選ばれる、上記（１）〜（５）のうちのいずれかに記載の透明導電体。
【００２２】
（７） 前記透明基材は、屈折率が１．５５〜１．７０であり、厚みが１０〜２００μｍである有機樹脂製フィルムである、上記（１）〜（６）のうちのいずれかに記載の透明導電体。
【００２３】
（８） 上記（１）〜（７）のうちのいずれかに記載の透明導電体が、透明電極として含まれているタッチパネル。
【００２４】
なお、本発明において、「透明導電体」には、透明導電性フィルム又はシート、透明導電性ガラスが含まれる。また、通常は、フィルムにはシートも含まれる。
【発明の効果】
【００２５】
本発明の透明導電体は、上述のように、反射低減層及び透明導電層が設けられる側の透明基材の面に第１色相調整層が設けられ、前記透明基材の他方の面に第２色相調整層が設けられ、全光線透過率が９０％以上、ａ* 値が−１〜１、ｂ* 値が−２〜１とされている。従って、本発明の透明導電体は、全光線透過率が高く且つ着色が非常に少ないという利点を有し、高品位のタッチパネル用途に好適に用いられる。
【００２６】
本発明の透明導電体は、タッチパネル用途以外にも、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスパネル（有機ＥＬ、無機ＥＬ）、エレクトロクロミック素子、電子ペーパーなどの各種表示装置において、透明電極用、帯電防止用、電磁波シールド用として用いることができ、また、アンテナにも適用できる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明の透明導電体の一例を示す断面図である。
【符号の説明】
【００２８】
(1) ：透明基材
(2) ：第１色相調整層
(3) ：高屈折率層
(4) ：低屈折率層
(5) ：透明導電層
(6) ：第２色相調整層
【発明を実施するための形態】
【００２９】
以下、図１を参照しつつ、本発明の透明導電体について説明する。
【００３０】
本発明の透明導電体は、透明基材(1) と、前記透明基材(1) の一方の面上に第１色相調整層(2) 、高屈折率層(3) 、低屈折率層(4) 及び透明導電層(5) をこの順で有し、前記透明基材(1) の他方の面上に第２色相調整層(6) を有している。高屈折率層(3) 及び低屈折率層(4) は反射低減層を構成する。
【００３１】
透明基材(1) は、透明導電体の用途に応じて、ガラス板、有機樹脂製フィルム（シートを含む）から選ばれる。本発明における透明とは、可視光を透過することを意味し、透明性は高いことが好ましい。透明基材の全光線透過率は、例えば８６％以上であり、９０％以上であることが好ましい。後述する反射低減層による反射率低減の効果は４％程度までと考えられる。そのため、透明導電体の全光線透過率を９０％以上とするためには、透明基材の全光線透過率は８６％以上であることが必要となる。また、光をある程度散乱しても透明の概念に含まれる。光の散乱度合いについては、用途により要求されるレベルが異なり、一般に半透明といわれるような光の散乱のある場合も透明の概念に含まれる。光の散乱度合いは小さい方が望ましい。
【００３２】
透明基材として、可撓性有機樹脂フィルムが好適である。樹脂フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステルフィルム、ポリエチレンやポリプロピレン等のポリオレフィンフィルム、ポリカーボネートフィルム、アクリルフィルム、ノルボルネンフィルム、ポリアリレートフィルム、ポリエーテルスルフォンフィルム、ジアセチルセルロースフィルム、トリアセチルセルロースフィルム等が挙げられる。これらのうち、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステルフィルムが好ましい。
【００３３】
透明基材としての可撓性有機樹脂フィルムの厚みは、１０〜２００μｍであることが好ましい。基材としての機械的強度を維持しつつ、導電体としての薄膜化が得られる。また、透明基材の屈折率は１．５５〜１．７０であることが好ましい。屈折率は、反射分光膜厚計を用いて５５０ｎｍでの値として求められる。
【００３４】
透明基材としての樹脂フィルムは、予め、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、紫外線照射処理、電子線照射処理、オゾン処理等の表面処理が行われていてもよい。また、樹脂フィルムは、その両面又は片面に易接着層が形成されていてもよい。
【００３５】
本発明の透明導電体をタッチパネルに用いる場合に、抵抗膜方式タッチパネルを構成する一対の透明電極パネル板のうちの入力側（表面側）の透明電極パネル板として用いる場合には、指、ペン等の外部入力に対して適度に変形できるように、透明基材としては可撓性有機樹脂フィルムが好適である。一方、本発明の透明導電体を、入力側（表面側）の透明電極パネル板と対向して配置される内部側の透明電極パネル板として用いる場合には、可撓性は要求されず、透明基材として可撓性のないようなガラス板を用いることも好ましい。
【００３６】
透明基材(1) の一方の面上に第１色相調整層(2) が設けられる。第１色相調整層(2) は、硬化性化合物を含む組成物の硬化物からなる厚みが２０００ｎｍ以下の層である。
【００３７】
前記硬化性化合物を含む組成物は、熱硬化性樹脂組成物、紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物であってよい。
【００３８】
熱硬化性樹脂としては、エポキシ系樹脂、フェノキシ系樹脂、メラミン系樹脂等が挙げられる。
【００３９】
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、（メタ）アクリロイル基、ビニル基等の活性エネルギー線反応性基を有する硬化性化合物を含む組成物である。なお、（メタ）アクリロイル基なる表記は、アクリロイル基及びメタクリロイル基の両方を含む意味である。前記硬化性化合物は、１つの分子内に２つ以上、好ましくは３つ以上の活性エネルギー線反応性基を含む多官能モノマーもしくはオリゴマーを含んでいることが好ましい。
【００４０】
前記硬化性化合物は、好ましくはアクリル系モノマーを含んでいる。アクリル系モノマーとしては、具体的には、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、３−（メタ）アクリロイルオキシグリセリンモノ（メタ）アクリレート等が挙げられるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。また、ウレタン変性アクリレート、エポキシ変性アクリレート等も挙げられる。
【００４１】
また、前記硬化性化合物として、ビニル基を有する化合物を用いてもよい。ビニル基を有する化合物としては、例えば、エチレングリコールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールジビニルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジビニルエーテル、トリメチロールプロパンジビニルエーテル、エチレンオキサイド変性ヒドロキノンジビニルエーテル、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡジビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル、ジトリメチロールプロパンポリビニルエーテル等が挙げられるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。
【００４２】
前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物中に、それ自身は反応硬化性を有しないような高分子樹脂成分、例えばアクリル樹脂を含ませてもよい。高分子樹脂成分の添加により該組成物の粘度は高くなる。
【００４３】
前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物中には、紫外線により硬化させるために、通常、さらに光重合開始剤が含まれる。光重合開始剤としては、種々のものを用いることができ、アセトフェノン系、ベンゾイン系、ベンゾフェノン系、チオキサントン系等の公知のものから適宜選択すればよい。例えば、ダロキュア１１７３、イルガキュア６５１、イルガキュア１８４、イルガキュア９０７（チバスペシャルティケミカルズ社製）、 KAYACURE DETX-S（日本化薬（株）製）が挙げられる。光重合開始剤の量は、前記硬化性化合物の重量に対して、０．０１〜２０重量％程度、あるいは０．５〜５重量％程度とすればよい。また、光重合開始剤として、アクリル系モノマーに光重合開始剤を加えた公知のものを用いてもよい。アクリル系モノマーに光重合開始剤を加えたものとしては、例えば、紫外線硬化型樹脂ＳＤ−３１８（大日本インキ化学工業（株）製）、ＸＮＲ５５３５（長瀬産業（株）製）等が挙げられる。
【００４４】
また、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物中には、塗膜の強度を高める、屈折率を調整する等のために、有機又は無機の微粒子が含まれていてもよい。有機微粒子としては、例えば、有機シリコン微粒子、架橋アクリル微粒子、架橋ポリスチレンン微粒子等が挙げられる。無機微粒子としては、例えば、シリカ微粒子、アルミナ微粒子、ジルコニア微粒子、チタニア微粒子、酸化鉄微粒子等が挙げられる。これらのうちでも、シリカ微粒子が好ましい。また、微粒子はその表面がシランカップリング剤で処理され、（メタ）アクリロイル基、ビニル基等の活性エネルギー線反応性基が表面に存在しているものも好ましい。このような反応性微粒子を用いると、活性エネルギー線照射の際に、微粒子同士の反応や、微粒子と多官能モノマーもしくはオリゴマーとの反応が起こり、膜の強度が高くなる。（メタ）アクリロイル基含有シランカップリング剤で処理されたシリカ微粒子が好ましい。微粒子の平均粒径としては、第１色相調整層(2) の厚みよりも小さいことが必要であり、透明性を確保するために通常１００ｎｍ以下、好ましくは２０ｎｍ以下であり、コロイド溶液製造上の観点から通常５ｎｍ以上、好ましくは１０ｎｍ以上である。有機又は無機の微粒子を用いる場合には、前記硬化性化合物１００重量部に対して、例えば５重量部以上５００重量部以下程度を用いるとよく、好ましくは２０重量部以上２００重量部以下を用いるとよい。反応性基修飾シリカ微粒子としては、例えば、特開平９−１００１１１号公報に記載された反応性シリカ粒子があり、本発明において好ましく用いることができる。
【００４５】
前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を用いると、紫外線等の活性エネルギー線照射によって硬化させることができるので、製造工程上からも好ましい。
【００４６】
第１色相調整層(2) は、樹脂組成物の溶液を透明基材(1) の一方の面上に塗布、乾燥し、その後硬化させて形成するとよい。この際の塗布は、公知の方法により行うことができる。例えば、エクストルージョンノズル法、ブレード法、ナイフ法、バーコート法、キスコート法、キスリバース法、グラビアロール法、ディップ法、リバースロール法、ダイレクトロール法、カーテン法、スクイズ法などの塗布法によって行うことができる。
【００４７】
第１色相調整層(2) の厚みは２０００ｎｍ以下とする。厚みが２０００ｎｍを超えると、該色相調整層の分光透過率曲線におけるピーク（極大、極小）の数が増え、極大値が小さく極小値が大きくなり、極大値と極小値との間の透過率差が小さくなり、色相調整効果が小さくなる。そのため、透明導電体において、ＪＩＳ Ｚ８７２９に定められているＬ* ａ* ｂ* 表色系のａ* 値、ｂ* 値が所望の範囲から外れやすい。
【００４８】
第１色相調整層(2) の厚みは、上限について、好ましくは１２００ｎｍ以下とし、下限について、好ましくは２００ｎｍ以上、より好ましくは５００ｎｍ以上とする。厚みが２００ｎｍを下回ると、分光透過率曲線におけるピーク（極大、極小）の数が減り、極大値が大きく極小値が小さくなり、極大値と極小値との間の透過率差が大きくなり、僅かな厚みの違いでピーク波長が変わりやすく色相が顕著に変わるため、色ムラになりやすく、厚みのコントロールが難しい。同じ色調を維持するためには、厳しい厚み精度が要求される。
【００４９】
第１色相調整層(2) の屈折率は１．４０以上、用いられた透明基材(1) の屈折率−０．０５の値（透明基材の屈折率よりも０．０５小さい値）以下であることが好ましく、より具体的には、１．４０以上１．６０以下であることが好ましい。第１色相調整層(2) の屈折率が透明基材(1) の屈折率と同じでは干渉が起きないため、色相調整効果は発現しないので、透明基材の屈折率−０．０５の値以下が好ましい。第１色相調整層(2) の屈折率が１．４０を下回ると、後述する高屈折率層（好ましい屈折率：１．７０〜１．９０）との屈折率差が大きくなりすぎ、僅かな厚みの違いで色相が顕著に変わるため、色ムラになりやすい。
【００５０】
また、第１色相調整層(2) 及び後述する第２色相調整層(6) は、透明基材フィルム中に含まれる可塑剤やオリゴマー等の低分子量成分のブリードアウトを防ぐ役割も果たす。
【００５１】
第１色相調整層(2) 上に、高屈折率層(3) 及び低屈折率層(4) が設けられる。高屈折率層(3) 及び低屈折率層(4) は、光学干渉により、透明導電層(5) 表面の反射率を低減するための層（反射低減層）を構成する。
【００５２】
高屈折率層(3) は第１色相調整層(2) と接して設けられ、両者の界面の屈折率差は０．１０以上であることが好ましく、０．１５以上であることがより好ましい。そのような屈折率差があれば、より高い光学干渉が得られ、透明導電層(5) 表面の反射率の低減が得られやすい。両者の屈折率差が大きくなりすぎると、高屈折率層の厚み制御が厳しくなり、色ムラになりやすいので、厚み制御のし易さの点から、屈折率差は０．５以下が好ましい。
【００５３】
このような観点から、高屈折率層の屈折率は１．７０〜１．９０であることが好ましい。また、高屈折率層の厚みは、反射率低減の観点から、１０〜１００ｎｍであることが好ましい。
【００５４】
低屈折率層(4) の屈折率は、前記高屈折率層の屈折率よりも小さく、１．３０〜１．６０であることが好ましい。また、低屈折率層の厚みは、反射率低減の観点から、１０〜１００ｎｍであることが好ましい。
【００５５】
高屈折率層(3) と低屈折率層(4) の屈折率差が大きいほど反射低減効果は高くなるが、両層の屈折率差が大きすぎると、両層の厚みの僅かな変化が、色ムラとなりやすい。反射率をもっとも低く（光線透過率を高く）するためには、それぞれの層について、１／４λ＝ｎｄ（ここで、λ：波長、ｎ：屈折率、ｄ：膜厚）にすると良い。可視光の中心５５０ｎｍでは、ｎ＝１．３として、ｄ＝１０６ｎｍとなる。ｎ＝１．９として、ｄ＝７２ｎｍとなる。このように最適な厚みは屈折率によって異なる。なお、１０ｎｍよりも薄いと、膜として形成されないので適当ではない。一方、１００ｎｍを超えると、反射低減効果が得られにくくなる。
【００５６】
高屈折率層(3) は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法などの真空成膜法によって形成することができる。高屈折率層(3) 用材料として、例えば、ＴｉＯ2 （屈折率：２．３５）、ＺｒＯ2 （２．０５）、ＣｅＯ2 （２．３０）、Ｎｂ2 Ｏ3 （２．１５）、Ｓｂ2 Ｏ3 （２．１０）、Ｔａ2 Ｏ5 （２．１０）など、及びこれらの混合を用いることができる。（ ）内の数字は、屈折率を表している。
【００５７】
しかしながら、本発明においては、高屈折率層(3) の屈折率１．７０〜１．９０を得るために、上記の高屈折率材料からなる微粒子が分散された樹脂材料を塗布することにより、高屈折率層(3) を形成することが好ましい。この際の樹脂材料は、第１色相調整層(2) の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物として説明したのと同様に、（メタ）アクリロイル基、ビニル基等の活性エネルギー線反応性基を有する硬化性化合物を含む活性エネルギー線硬化性樹脂材料である。また、高屈折率材料微粒子はその表面がシランカップリング剤で処理され、（メタ）アクリロイル基、ビニル基等の活性エネルギー線反応性基が表面に存在しているものであってもよい。このような反応性微粒子を用いると、活性エネルギー線照射の際に、微粒子同士の反応や、微粒子と多官能モノマーもしくはオリゴマーとの反応が起こり、膜の強度が高くなる。高屈折率材料の微粒子は、前記硬化性化合物１００重量部に対して、例えば５重量部以上５００重量部以下程度を用いるとよく、好ましくは２０重量部以上２００重量部以下を用いるとよい。高屈折率材料の微粒子の含有量が小さくなるに従い、高屈折率層(3) の屈折率が小さくなる。
【００５８】
高屈折率材料の微粒子が分散された樹脂材料として、例えば、ＴｉＯ2 がアクリル系樹脂中に分散されたＴＹＴ８０（屈折率：１．８０、東洋インキ（株）製）、ＺｒＯ2 がアクリル系樹脂中に分散されたＴＹＺ７４（屈折率：１．７４、東洋インキ（株）製）等が挙げられ、好適に用いることができる。
【００５９】
第１色相調整層(2) 上に、高屈折率材料の微粒子が分散された樹脂材料を塗布、乾燥し、その後、紫外線照射を行い硬化させ、高屈折率層(3) を形成する。この際の塗布は、公知の方法により行うことができる。例えば、エクストルージョンノズル法、ブレード法、ナイフ法、バーコート法、キスコート法、キスリバース法、グラビアロール法、ディップ法、リバースロール法、ダイレクトロール法、カーテン法、スクイズ法などの塗布法によって行うことができる。この塗布法は、スパッタリング法などの真空成膜法よりも製造コストの観点からも利点がある。
【００６０】
低屈折率層(4) は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法などの真空成膜法によって形成することができる。低屈折率層(4) 用材料として、例えば、ＳｉＯ2 （屈折率：１．４６）、ＮａＦ（１．３０）、Ｎａ3 ＡｌＦ6 （１．３５）、ＬｉＦ（１．３６）、ＭｇＦ2 （１．３８）、ＣａＦ2 （１．４０）、ＢａＦ2 （１．３０）、ＬａＦ3 （１．５５）など、及びこれらの混合を用いることができる。（ ）内の数字は、屈折率を表している。
【００６１】
あるいは、屈折率１．３０〜１．６０の範囲のアクリル系樹脂、ウレタン系樹脂などの樹脂を用いて、高屈折率層(3) 上に塗布、乾燥することにより、低屈折率層(4) を形成してもよい。
【００６２】
低屈折率層(4) 上に、透明導電層(5) が設けられる。透明導電層(5) は、金属（又は半金属）の酸化物からなる薄膜である。例えば、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化チタン、インジウム−錫複合酸化物、錫−アンチモン複合酸化物、亜鉛−アルミニウム複合酸化物、インジウム−亜鉛複合酸化物などが挙げられる。これらのうち、インジウム−錫複合酸化物が好ましい。透明導電層(5) は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法などの真空成膜法によって形成することができる。
【００６３】
透明導電層(5) の厚みは、抵抗値と光線透過率の観点から、１０〜５０ｎｍとすることが好ましい。透明導電層(5) の屈折率は、１．８０〜２．２０とすることが好ましい。厚みが１０ｎｍ未満であると、膜として形成されない場合が多く、安定した抵抗値が得られにくい。一方、厚みが５０ｎｍを超えると、反射低減層の効果のみで透明導電体の全光線透過率９０％以上を確保することが難しくなる。
【００６４】
本発明において、透明導電層(5) の表面抵抗値は、用途にもよるが、３００Ω／□（すなわち、Ω／ｓｑ．）以下が好ましい。表面抵抗値は小さい方が良いので、下限は特に定められることはないが、５０Ω／□程度である。
【００６５】
透明基材(1) の他方の面上に第２色相調整層(6) が設けられる。第２色相調整層(6) は、硬化性化合物を含む組成物の硬化物からなる厚みが２０００ｎｍ以下の層である。
【００６６】
前記硬化性化合物を含む組成物は、熱硬化性樹脂組成物、紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物であってよい。
【００６７】
熱硬化性樹脂としては、エポキシ系樹脂、フェノキシ系樹脂、メラミン系樹脂等が挙げられる。
【００６８】
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、第１色相調整層(2) の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物として説明したのと同様に、（メタ）アクリロイル基、ビニル基等の活性エネルギー線反応性基を有する硬化性化合物を含む組成物である。
【００６９】
前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物中には、第１色相調整層(2) の場合と同様に、紫外線により硬化させるために、通常、さらに光重合開始剤が含まれる。また、第１色相調整層(2) の場合と同様に、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物中には、塗膜の強度を高める、屈折率を調整する等のために、有機又は無機の微粒子が含まれていてもよい。
【００７０】
前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を用いると、紫外線等の活性エネルギー線照射によって硬化させることができるので、製造工程上からも好ましい。
【００７１】
第２色相調整層(6) は、樹脂組成物の溶液を透明基材(1) の他方の面上に塗布、乾燥し、その後硬化させて形成するとよい。この際の塗布は、公知の方法により行うことができる。例えば、エクストルージョンノズル法、ブレード法、ナイフ法、バーコート法、キスコート法、キスリバース法、グラビアロール法、ディップ法、リバースロール法、ダイレクトロール法、カーテン法、スクイズ法などの塗布法によって行うことができる。
【００７２】
第２色相調整層(6) の厚みは２０００ｎｍ以下とする。厚みが２０００ｎｍを超えると、該色相調整層の分光透過率曲線におけるピーク（極大、極小）の数が増え、極大値が小さく極小値が大きくなり、極大値と極小値との間の透過率差が小さくなり、色相調整効果が小さくなる。そのため、透明導電体において、ＪＩＳ Ｚ８７２９に定められているＬ* ａ* ｂ* 表色系のａ* 値、ｂ* 値が所望の範囲から外れやすい。
【００７３】
第２色相調整層(6) の厚みは、上限について、好ましくは１２００ｎｍ以下とし、下限について、好ましくは２００ｎｍ以上、より好ましくは５００ｎｍ以上とする。厚みが２００ｎｍを下回ると、分光透過率曲線におけるピーク（極大、極小）の数が減り、極大値が大きく極小値が小さくなり、極大値と極小値との間の透過率差が大きくなり、僅かな厚みの違いでピーク波長が変わりやすく色相が顕著に変わるため、色ムラになりやすく、厚みのコントロールが難しい。同じ色調を維持するためには、厳しい厚み精度が要求される。
【００７４】
第２色相調整層(6) の屈折率は１．４０以上、用いられた透明基材(1) の屈折率−０．０５の値（透明基材の屈折率よりも０．０５小さい値）以下であることが好ましく、より具体的には、１．４０以上１．６０以下であることが好ましい。第２色相調整層(6) の屈折率が透明基材(1) の屈折率と同じでは干渉が起きないため、色相調整効果は発現しないので、透明基材の屈折率−０．０５の値以下が好ましい。第２色相調整層(6) の屈折率が１．４０を下回っても、特に問題はないが、第１色相調整層(2) と同じ塗料を使用すると、塗料調製の工程数が省けるので製造工程上好ましい。また、１．４０未満の屈折率を有するフッ素系材料（屈折率：１．３３）を使用するためには、その後の工程での真空装置は使用できず（有毒ガスが発生するため）、大気圧ＣＶＤ装置を使用するなど、工程が制限される可能性がある。
【００７５】
本発明の透明導電体は、全光線透過率が９０％以上であり、且つ、ＪＩＳ Ｚ８７２９に定められているＬ* ａ* ｂ* 表色系のａ* 値が−１〜１の範囲であり、ｂ* 値が−２〜１の範囲である。ａ* 、ｂ* は色の方向を示している。プラスのａ* は赤方向、マイナスのａ* は緑方向を示し、プラスのｂ* は黄方向、マイナスのｂ* は青方向を示している。従って、ａ* 値が０に近い値ほど、赤の色味も緑の色味も少ないことを意味する。ｂ* 値が０に近い値ほど、黄の色味も青の色味も少ないことを意味する。本発明の透明導電体は、ａ* 値が−１〜１の範囲であり、ｂ* 値が−２〜１の範囲であるので、着色は非常に少なく、そして、全光線透過率が９０％以上であるので、無色透明からやや青いものである。
【００７６】
ａ* 値をよりプラス側にしたい場合には、ＪＩＳ Ｚ８７０１に記載されている赤のピーク波長６６０ｎｍ近傍の透過率を上げる、あるいは、緑のピーク波長５５０ｎｍ近傍の透過率を下げるとよい。ａ* 値をよりマイナス側にしたい場合には、上記と逆である。
【００７７】
ｂ* 値をよりマイナス側にしたい場合には、ＪＩＳ Ｚ８７０１に記載されている緑のヒーク波長５５０ｎｍ近傍と赤のピーク波長６６０ｎｍ近傍の透過率を下げる、あるいは、青のピーク波長４５０ｎｍ近傍の透過率を上げるとよい。ｂ* 値をよりプラス側にしたい場合には、上記と逆である。
【００７８】
透明導電層にＩＴＯを用いると、青のピーク波長４５０ｎｍ近傍の反射が強くなり、青みが失われ、黄色になりやすい。嗜好的なものではあるが黄色のものは嫌われやすく、無色から青みのものが好まれる。よって、本発明の第１色目調整層及び第２色目調整層の少なくとも一方のピーク波長を４００〜５００ｎｍ近傍、もしくは７００〜８００ｎｍ近傍に調整すると、分光透過率曲線のピークが４５０ｎｍ近傍に発現するので、青味を出しやすく、無色を出しやすい。
【実施例】
【００７９】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００８０】
［実施例１］
図１に示すように、透明基材(1) と、前記透明基材(1) の一方の面上に第１色相調整層(2) 、高屈折率層(3) 、低屈折率層(4) 及び透明導電層(5) をこの順で有し、前記透明基材(1) の他方の面上に第２色相調整層(6) を有する透明導電体フィルムを次のように作製した。
【００８１】
（透明基材）
１００μｍ厚のポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績社製、Ａ４３００、両面に易接着層を有する）を透明基材(1) として用いた。このＰＥＴフィルムの全光線透過率は９２％、ヘイズは１％、屈折率は５５０ｎｍにて１．６５であった。屈折率は、反射分光膜厚計ＦＥ−３０００（大塚電子社製）で測定した。
【００８２】
（第１色相調整層用塗料、及び第２色相調整層用塗料）
メタクリロイル基修飾コロイダルシリカ（分散媒：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、不揮発分：４０重量％、平均粒径１０〜２０ｎｍ） １００重量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ４８重量部
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート １２重量部
光重合開始剤（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン） ２．５重量部
【００８３】
上記配合の組成物を、溶剤プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＡ）で希釈・混合・分散し、不揮発分濃度ＮＶ：２５．５重量％に調整した。得られたアクリル塗料を、第１色相調整層用塗料、及び第２色相調整層用塗料として用いた。
【００８４】
（高屈折率層用塗料）
ＴｉＯ2 含有インクＴＹＴ８０（屈折率：１．８０、東洋インキ（株）製）を溶剤プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＡ）で希釈し、不揮発分濃度ＮＶ：２．６重量％に調整した。得られた高屈折率インクを、高屈折率層用塗料として用いた。
【００８５】
ＰＥＴフィルム基材(1) をロールから繰り出し、フィルム(1) の一面上に、上記アクリル塗料をキスリバース方式でオンライン膜厚計（MultiPointOpticalGage:光学式膜厚計、浜松ホトニクス社製）を用いて３８０ｎｍの乾燥膜厚となるように塗布し、塗布膜を形成した。続いて、８０℃に設定した熱風乾燥炉において溶剤を除去し、その後、ＵＶ処理装置で積算光量４００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射して硬化させ、ロール状に巻き取った。このようにして、第１色相調整層(2) を形成した。
【００８６】
次に、ＰＥＴフィルム基材をロールから繰り出し、フィルム(1) の他面上に、上記アクリル塗料をキスリバース方式でオンライン膜厚計（MultiPointOpticalGage ）を用いて５５０ｎｍの乾燥膜厚となるように塗布し、塗布膜を形成した。続いて、８０℃に設定した熱風乾燥炉において溶剤を除去し、その後、ＵＶ処理装置で積算光量４００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射して硬化させ、ロール状に巻き取った。このようにして、第２色相調整層(6) を形成した。
【００８７】
次に、ＰＥＴフィルム基材をロールから繰り出し、第１色相調整層(2) 面上に、上記高屈折率インクをキスリバース方式でオンライン膜厚計（MultiPointOpticalGage ）を用いて５０ｎｍの乾燥膜厚となるようにロールトゥロール方式で塗布し、塗布膜を形成した。続いて、８０℃に設定した熱風乾燥炉において溶剤を除去し、その後、ＵＶ処理装置で積算光量４００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射して硬化させ、ロール状に巻き取った。このようにして、高屈折率層(3) を形成した。なお、オンライン膜厚計の値は、ＳＥＭ断面測定値から検量線を作成して算出したものであり、成膜後のＳＥＭ断面測定値ともほぼ一致した。
【００８８】
次に、高屈折率層(3) 面上に、Ｓｉ（Ｂドープ）をターゲットに用いて、アルゴンガス８２％と酸素ガス１８％とからなる０．５Ｐａの雰囲気中で、反応性スパッタリング法で、ＳｉＯ2 からなる４７ｎｍ厚の低屈折率層(4) を成膜し、続いて、Ｉｎ2 Ｏ3 −５ｗｔ％ＳｎＯ2 をターゲットに用いて、アルゴンガス９８％と酸素ガス２％とからなる０．５Ｐａの雰囲気中で、反応性スパッタリング法で、酸化インジウムと酸化スズとの複合酸化物からなる２７ｎｍ厚の透明導電層(5) を成膜した。成膜後、熱風循環オーブンＤＮ６４（ヤマト科学社製）を用いて、１４０℃、３０分間の加熱処理を行い、結晶化させた。このようにして、透明導電体フィルムを作製した。層の厚みは、ＳＥＭ断面測定値から検量線を作成して、成膜速度で算出した。算出された層の厚みは、成膜後のＳＥＭ断面測定値ともほぼ一致した。
【００８９】
［実施例２〜６、比較例１〜６］
第２色相調整層(6) 、第１色相調整層(2) 、高屈折率層(3) 、低屈折率層(4) 、及び透明導電層(5) の厚みをそれぞれ表１に示すように変更した以外は、実施例１と同様にして、透明導電体フィルムを得た。なお、比較例１、２において、層の厚み０と表示されているのは、その層を形成していないことを意味する。
【００９０】
［評価］
１．全光線透過率、ヘイズ
ヘイズメーターＮＤＨ５０００（日本電色工業社製）を用いて全光線透過率（％）、ヘイズを測定した。
【００９１】
２．色相ａ* 値、ｂ* 値
分光色差計ＣＭ−５（コニカミノルタ社製）を用いて測定し、ａ* 値、ｂ* 値を求めた。（Ｄ６５光源 透過条件 視野角１０度）
【００９２】
３．表面抵抗値
Ｌｏｒｅｓｔａ−ＧＰ（ＭＣＰ−Ｔ６００、三菱化学社製）を用いて４端子法にて表面抵抗値（Ω／ｓｑ．）を測定した。
【００９３】
以上の結果を表１に示す。実施例１〜６の透明導電体フィルムは、いずれも、９１％以上の高い全光線透過率を有し、且つ、ａ* 値、ｂ* 値からも分かるように、着色が目視にも認められず、非常に優れていた。
【００９４】
一方、比較例１、３〜６の透明導電体フィルムは、ａ* 値及び／又はｂ* 値からも分かるように、着色が認められた。また、比較例１では、第１及び第２色相調整層が形成されておらず、比較例２では、第２色相調整層が形成されていなかったために、ＰＥＴフィルム基材中の可塑剤等の成分がブリードアウトして白化が認められた。
【００９５】
【表１】
【００９６】
［実施例８〜１５、比較例７〜９］
（第１色相調整層用塗料、及び第２色相調整層用塗料）
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ８０重量部
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート ２０重量部
光重合開始剤（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン） ３重量部
【００９７】
上記配合の組成物を、溶剤プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＡ）で希釈・混合・分散し、不揮発分濃度ＮＶ：２５．５重量％に調整した。得られたアクリル塗料を、第１色相調整層用塗料、及び第２色相調整層用塗料として用いた。
【００９８】
（高屈折率層用塗料）
ＺｒＯ2 含有インクＴＹＺ７４（屈折率：１．７４、東洋インキ（株）製を溶剤プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＡ）で希釈し、不揮発分濃度ＮＶ：２．６重量％に調整した。得られた高屈折率インクを、高屈折率層用塗料として用いた。
【００９９】
第１色相調整層用塗料、第２色相調整層用塗料、及び高屈折率層用塗料として上記のものを用いて、第２色相調整層(6) 、第１色相調整層(2) 、高屈折率層(3) 、低屈折率層(4) 、及び透明導電層(5) の厚みをそれぞれ表２に示すように変更した以外は、実施例１と同様にして、透明導電体フィルムを得た。
【０１００】
以上の結果を表２に示す。実施例９〜１５の透明導電体フィルムは、いずれも、９１％以上の高い全光線透過率を有し、且つ、ａ* 値、ｂ* 値からも分かるように、着色が目視にも認められず、非常に優れていた。
【０１０１】
一方、比較例７〜９の透明導電体フィルムは、ａ* 値及び／又はｂ* 値からも分かるように、着色が認められた。
【０１０２】
【表２】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明導電体、及びこれを用いたタッチパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスパネル（有機ＥＬ、無機ＥＬ）、タッチパネル、エレクトロクロミック素子といった表示装置には、透明電極が用いられている。このような透明電極は、基材と基材上に形成された透明導電層とからなる透明導電体（透明導電性フィルム又はシート、透明導電性ガラス）によって構成されることが多い。また、透明導電体は、透明な電磁波遮蔽膜として用いることもできる。
【０００３】
タッチパネル（タッチスイッチ、フラットスイッチとも称される）は、液晶装置などのディスプレイ表面に配置されたタブレット型の情報入力装置であり、携帯電話、カーナビゲーション、パーソナルコンピュータ、券売機、銀行のＡＴＭ端末などの電子機器に広く使用されている。
【０００４】
タッチパネルには、位置の検出方法によりいくつかの方式が知られている。それらの中でも、抵抗膜方式と静電容量方式がほとんどを占めている。抵抗膜方式のタッチパネルは、一般に、透明導電層を有する一対のパネル板が、前記透明導電層同士が対向するようにスペーサを介して配置されて成るものである。静電容量方式のタッチパネルは、例えば、基板上に設けられる第１の電極と、第１の電極を覆って形成される絶縁膜と、絶縁膜上に前記第１の電極と交差して設けられる第２の電極とを含んで構成されるものである。いずれのタッチパネルにおいても、液晶装置の画像表示領域に表示された指示画像を参照しながら、この指示画像が表示されている箇所に指やタッチペンなどが接触あるいは近接することで、その位置が検出され、指示画像に対応する情報の入力が行えるようになされている。
【０００５】
タッチパネルには、液晶ディスプレイの表示画像のコントラストや輝度を低下させないために、光線透過率が高く、且つ液晶ディスプレイの表示画像の色相を変化させないために、着色が少ないことが要求される。このような要求は、近年の液晶ディスプレイ表示、特に携帯電話、カーナビゲーション、パーソナルコンピュータの液晶ディスプレイ表示の高精細化により、ますます高まっている。
【０００６】
例えば、特開２０００−３０１６４８号公報には、有機高分子基材の少なくとも一方の最表面に透明導電層が積層されてなる透明導電性積層体において、基板側から順に、（Ａ１）屈折率が１．７から透明導電層の屈折率＋０．３の範囲にあり膜厚が２０〜９０ｎｍの層（Ｈ1 層）、（Ｂ１）屈折率が１．３５〜１．５の範囲にあり膜厚が３０〜１１０ｎｍの層（Ｌ1 層）、（Ｃ）膜厚が１２〜３０ｎｍの透明導電層が積層されており、
（Ｄ）該３層の光学膜厚の和が１８０〜２３０ｎｍの範囲であり、
（Ｆ）該透明導電層の積層面の波長４５０〜６５０ｎｍにおける平均反射率が５．５％以下であって、且つ（Ｇ）該積層体の透過光のＪＩＳ Ｚ７８２９に定めるＬ* ａ* ｂ* 表色系のクロマティクネス指数ｂ* 値が０〜２の範囲にある透明導電性積層体が開示されている（請求項１）。また、有機高分子基材の片面もしくは両面に樹脂架橋層からなる保護層が積層されることが開示されている（請求項９）。
【０００７】
しかしながら、同号公報によれば、全光線透過率を９０％以上とすれば、黄色味を帯びた積層体となり（実施例４，７）、着色をほとんどなくすようにすれば、全光線透過率は９０％に満たない積層体となった（実施例１〜３、５〜６、８〜１０）ことが示されている。
【０００８】
特開２００９−２８３３４８号公報には、透明プラスチックフィルム基材上に、高屈折率層、低屈折率層及び透明導電層をこの順に積層した透明導電性フィルムであって、高屈折率層は非晶質インジウム−スズ複合酸化物からなる無機薄膜であり、低屈折率層は屈折率が１．３０〜１．６０の無機薄膜からなり、透明導電層は屈折率が１．８０〜２．２０の無機薄膜からなり、且つ全光線透過率が９０％以上、カラーｂ値が−２〜２である透明導電性フィルムが開示されている（請求項１）。また、基材と透明導電層との間に、硬化型樹脂を主たる成分とする硬化物層を設けてもよいことが開示されている（段落[0013]）。また、透明導電層の形成面とは反対側の基材の面に、硬化型樹脂組成物からなるハードコート層を設けてもよいことが開示されている（段落[0038]）。
【０００９】
しかしながら、同号公報によれば、透明導電性フィルムの全光線透過率９１％が得られたが、カラーａ値、及びｂ値は満足される値ではなく、着色が見られるものであった（実施例１〜４）。
【００１０】
特開２０１０−２７５６７号公報には、透明フィルム基材の一方の面に、前記透明フィルム基材の側から第１透明誘電体層、第２透明誘電体層、第３透明誘電体層及び透明導電層がこの順に形成されている透明導電性フィルムであって、
前記透明フィルム基材の厚みが２〜２００μｍ、屈折率が１．５０〜１．７０であり、
前記第１透明誘電体層の厚みが１１０〜４００ｎｍ、屈折率が１．３０〜１．６５であり、
前記第２透明誘電体層の厚みが１５〜６５ｎｍ、屈折率が１．８０〜２．４０であり、
前記第３透明誘電体層の厚みが４０〜１００ｎｍ、屈折率が１．３０〜１．６５であり、前記透明導電層の厚みが１５〜３０ｎｍ、屈折率が１．７５〜２．１０である透明導電性フィルムが開示されている（請求項１、２、５）。
【００１１】
同号公報によれば、透明導電性フィルムの波長５５０ｎｍにおける透過率９５％が得られたが、着色の程度については言及されていない（実施例１〜４）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１２】
【特許文献１】特開２０００−３０１６４８号公報
【特許文献２】特開２００９−２８３３４８号公報
【特許文献３】特開２０１０−２７５６７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
以上のように、光線透過率が高く且つ着色が非常に少ない透明導電性フィルム、特に、高精細化された液晶ディスプレイ表示と組み合わせて用いられ得るタッチパネル用途の透明導電性フィルムの開発が望まれる。
【００１４】
本発明の目的は、低い表面電気抵抗値を有し、光線透過率が高く且つ着色が非常に少な透明導電体を提供することにある。また、本発明の目的は、前記透明導電体を用いたタッチパネルを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明者らは、基材の両面に色相調整のための薄膜層を設けることによって、上記目的が達成されることを見出した。
【００１６】
本発明には、以下の発明が含まれる。
（１） 透明基材と、前記透明基材の一方の面上の反射低減層と、前記反射低減層上の透明導電層とを有する透明導電体であって、
前記透明基材と前記反射低減層との間に、硬化性化合物を含む組成物の硬化物からなる厚みが２０００ｎｍ以下の第１色相調整層が設けられ、
前記透明基材の他方の面上に、硬化性化合物を含む組成物の硬化物からなる厚みが２０００ｎｍ以下の第２色相調整層が設けられ、
全光線透過率が９０％以上であり、且つ、
ＪＩＳ Ｚ７８２９に定められているＬ* ａ* ｂ* 表色系のａ* 値が−１〜１の範囲であり、ｂ* 値が−２〜１の範囲である透明導電体。
【００１７】
（２） 前記反射低減層は、前記第１色相調整層上の高屈折率層と、前記高屈折率層上の低屈折率層とを含み、
前記高屈折率層の屈折率は１．７０〜１．９０であり、厚みは１０〜１００ｎｍであり、
前記低屈折率層の屈折率は１．３０〜１．６０であり、厚みは１０〜１００ｎｍである、上記（１）に記載の透明導電体。
【００１８】
（３） 前記第１色相調整層の屈折率は１．４０〜前記透明基材の屈折率−０．０５の値であり、厚みは２００〜２０００ｎｍである、上記（１）又は（２）に記載の透明導電体。
【００１９】
（４） 前記第２色相調整層の屈折率は１．４０〜前記透明基材の屈折率−０．０５の値であり、厚みは２００〜２０００ｎｍである、上記（１）〜（３）のうちのいずれかに記載の透明導電体。
【００２０】
（５） 前記第１色相調整層を構成する前記組成物は、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物から選ばれる、上記（１）〜（４）のうちのいずれかに記載の透明導電体。
【００２１】
（６） 前記第２色相調整層を構成する前記組成物は、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物から選ばれる、上記（１）〜（５）のうちのいずれかに記載の透明導電体。
【００２２】
（７） 前記透明基材は、屈折率が１．５５〜１．７０であり、厚みが１０〜２００μｍである有機樹脂製フィルムである、上記（１）〜（６）のうちのいずれかに記載の透明導電体。
【００２３】
（８） 上記（１）〜（７）のうちのいずれかに記載の透明導電体が、透明電極として含まれているタッチパネル。
【００２４】
なお、本発明において、「透明導電体」には、透明導電性フィルム又はシート、透明導電性ガラスが含まれる。また、通常は、フィルムにはシートも含まれる。
【発明の効果】
【００２５】
本発明の透明導電体は、上述のように、反射低減層及び透明導電層が設けられる側の透明基材の面に第１色相調整層が設けられ、前記透明基材の他方の面に第２色相調整層が設けられ、全光線透過率が９０％以上、ａ* 値が−１〜１、ｂ* 値が−２〜１とされている。従って、本発明の透明導電体は、全光線透過率が高く且つ着色が非常に少ないという利点を有し、高品位のタッチパネル用途に好適に用いられる。
【００２６】
本発明の透明導電体は、タッチパネル用途以外にも、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスパネル（有機ＥＬ、無機ＥＬ）、エレクトロクロミック素子、電子ペーパーなどの各種表示装置において、透明電極用、帯電防止用、電磁波シールド用として用いることができ、また、アンテナにも適用できる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明の透明導電体の一例を示す断面図である。
【符号の説明】
【００２８】
(1) ：透明基材
(2) ：第１色相調整層
(3) ：高屈折率層
(4) ：低屈折率層
(5) ：透明導電層
(6) ：第２色相調整層
【発明を実施するための形態】
【００２９】
以下、図１を参照しつつ、本発明の透明導電体について説明する。
【００３０】
本発明の透明導電体は、透明基材(1) と、前記透明基材(1) の一方の面上に第１色相調整層(2) 、高屈折率層(3) 、低屈折率層(4) 及び透明導電層(5) をこの順で有し、前記透明基材(1) の他方の面上に第２色相調整層(6) を有している。高屈折率層(3) 及び低屈折率層(4) は反射低減層を構成する。
【００３１】
透明基材(1) は、透明導電体の用途に応じて、ガラス板、有機樹脂製フィルム（シートを含む）から選ばれる。本発明における透明とは、可視光を透過することを意味し、透明性は高いことが好ましい。透明基材の全光線透過率は、例えば８６％以上であり、９０％以上であることが好ましい。後述する反射低減層による反射率低減の効果は４％程度までと考えられる。そのため、透明導電体の全光線透過率を９０％以上とするためには、透明基材の全光線透過率は８６％以上であることが必要となる。また、光をある程度散乱しても透明の概念に含まれる。光の散乱度合いについては、用途により要求されるレベルが異なり、一般に半透明といわれるような光の散乱のある場合も透明の概念に含まれる。光の散乱度合いは小さい方が望ましい。
【００３２】
透明基材として、可撓性有機樹脂フィルムが好適である。樹脂フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステルフィルム、ポリエチレンやポリプロピレン等のポリオレフィンフィルム、ポリカーボネートフィルム、アクリルフィルム、ノルボルネンフィルム、ポリアリレートフィルム、ポリエーテルスルフォンフィルム、ジアセチルセルロースフィルム、トリアセチルセルロースフィルム等が挙げられる。これらのうち、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステルフィルムが好ましい。
【００３３】
透明基材としての可撓性有機樹脂フィルムの厚みは、１０〜２００μｍであることが好ましい。基材としての機械的強度を維持しつつ、導電体としての薄膜化が得られる。また、透明基材の屈折率は１．５５〜１．７０であることが好ましい。屈折率は、反射分光膜厚計を用いて５５０ｎｍでの値として求められる。
【００３４】
透明基材としての樹脂フィルムは、予め、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、紫外線照射処理、電子線照射処理、オゾン処理等の表面処理が行われていてもよい。また、樹脂フィルムは、その両面又は片面に易接着層が形成されていてもよい。
【００３５】
本発明の透明導電体をタッチパネルに用いる場合に、抵抗膜方式タッチパネルを構成する一対の透明電極パネル板のうちの入力側（表面側）の透明電極パネル板として用いる場合には、指、ペン等の外部入力に対して適度に変形できるように、透明基材としては可撓性有機樹脂フィルムが好適である。一方、本発明の透明導電体を、入力側（表面側）の透明電極パネル板と対向して配置される内部側の透明電極パネル板として用いる場合には、可撓性は要求されず、透明基材として可撓性のないようなガラス板を用いることも好ましい。
【００３６】
透明基材(1) の一方の面上に第１色相調整層(2) が設けられる。第１色相調整層(2) は、硬化性化合物を含む組成物の硬化物からなる厚みが２０００ｎｍ以下の層である。
【００３７】
前記硬化性化合物を含む組成物は、熱硬化性樹脂組成物、紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物であってよい。
【００３８】
熱硬化性樹脂としては、エポキシ系樹脂、フェノキシ系樹脂、メラミン系樹脂等が挙げられる。
【００３９】
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、（メタ）アクリロイル基、ビニル基等の活性エネルギー線反応性基を有する硬化性化合物を含む組成物である。なお、（メタ）アクリロイル基なる表記は、アクリロイル基及びメタクリロイル基の両方を含む意味である。前記硬化性化合物は、１つの分子内に２つ以上、好ましくは３つ以上の活性エネルギー線反応性基を含む多官能モノマーもしくはオリゴマーを含んでいることが好ましい。
【００４０】
前記硬化性化合物は、好ましくはアクリル系モノマーを含んでいる。アクリル系モノマーとしては、具体的には、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、３−（メタ）アクリロイルオキシグリセリンモノ（メタ）アクリレート等が挙げられるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。また、ウレタン変性アクリレート、エポキシ変性アクリレート等も挙げられる。
【００４１】
また、前記硬化性化合物として、ビニル基を有する化合物を用いてもよい。ビニル基を有する化合物としては、例えば、エチレングリコールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールジビニルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジビニルエーテル、トリメチロールプロパンジビニルエーテル、エチレンオキサイド変性ヒドロキノンジビニルエーテル、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡジビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル、ジトリメチロールプロパンポリビニルエーテル等が挙げられるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。
【００４２】
前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物中に、それ自身は反応硬化性を有しないような高分子樹脂成分、例えばアクリル樹脂を含ませてもよい。高分子樹脂成分の添加により該組成物の粘度は高くなる。
【００４３】
前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物中には、紫外線により硬化させるために、通常、さらに光重合開始剤が含まれる。光重合開始剤としては、種々のものを用いることができ、アセトフェノン系、ベンゾイン系、ベンゾフェノン系、チオキサントン系等の公知のものから適宜選択すればよい。例えば、ダロキュア１１７３、イルガキュア６５１、イルガキュア１８４、イルガキュア９０７（チバスペシャルティケミカルズ社製）、 KAYACURE DETX-S（日本化薬（株）製）が挙げられる。光重合開始剤の量は、前記硬化性化合物の重量に対して、０．０１〜２０重量％程度、あるいは０．５〜５重量％程度とすればよい。また、光重合開始剤として、アクリル系モノマーに光重合開始剤を加えた公知のものを用いてもよい。アクリル系モノマーに光重合開始剤を加えたものとしては、例えば、紫外線硬化型樹脂ＳＤ−３１８（大日本インキ化学工業（株）製）、ＸＮＲ５５３５（長瀬産業（株）製）等が挙げられる。
【００４４】
また、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物中には、塗膜の強度を高める、屈折率を調整する等のために、有機又は無機の微粒子が含まれていてもよい。有機微粒子としては、例えば、有機シリコン微粒子、架橋アクリル微粒子、架橋ポリスチレンン微粒子等が挙げられる。無機微粒子としては、例えば、シリカ微粒子、アルミナ微粒子、ジルコニア微粒子、チタニア微粒子、酸化鉄微粒子等が挙げられる。これらのうちでも、シリカ微粒子が好ましい。また、微粒子はその表面がシランカップリング剤で処理され、（メタ）アクリロイル基、ビニル基等の活性エネルギー線反応性基が表面に存在しているものも好ましい。このような反応性微粒子を用いると、活性エネルギー線照射の際に、微粒子同士の反応や、微粒子と多官能モノマーもしくはオリゴマーとの反応が起こり、膜の強度が高くなる。（メタ）アクリロイル基含有シランカップリング剤で処理されたシリカ微粒子が好ましい。微粒子の平均粒径としては、第１色相調整層(2) の厚みよりも小さいことが必要であり、透明性を確保するために通常１００ｎｍ以下、好ましくは２０ｎｍ以下であり、コロイド溶液製造上の観点から通常５ｎｍ以上、好ましくは１０ｎｍ以上である。有機又は無機の微粒子を用いる場合には、前記硬化性化合物１００重量部に対して、例えば５重量部以上５００重量部以下程度を用いるとよく、好ましくは２０重量部以上２００重量部以下を用いるとよい。反応性基修飾シリカ微粒子としては、例えば、特開平９−１００１１１号公報に記載された反応性シリカ粒子があり、本発明において好ましく用いることができる。
【００４５】
前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を用いると、紫外線等の活性エネルギー線照射によって硬化させることができるので、製造工程上からも好ましい。
【００４６】
第１色相調整層(2) は、樹脂組成物の溶液を透明基材(1) の一方の面上に塗布、乾燥し、その後硬化させて形成するとよい。この際の塗布は、公知の方法により行うことができる。例えば、エクストルージョンノズル法、ブレード法、ナイフ法、バーコート法、キスコート法、キスリバース法、グラビアロール法、ディップ法、リバースロール法、ダイレクトロール法、カーテン法、スクイズ法などの塗布法によって行うことができる。
【００４７】
第１色相調整層(2) の厚みは２０００ｎｍ以下とする。厚みが２０００ｎｍを超えると、該色相調整層の分光透過率曲線におけるピーク（極大、極小）の数が増え、極大値が小さく極小値が大きくなり、極大値と極小値との間の透過率差が小さくなり、色相調整効果が小さくなる。そのため、透明導電体において、ＪＩＳ Ｚ８７２９に定められているＬ* ａ* ｂ* 表色系のａ* 値、ｂ* 値が所望の範囲から外れやすい。
【００４８】
第１色相調整層(2) の厚みは、上限について、好ましくは１２００ｎｍ以下とし、下限について、好ましくは２００ｎｍ以上、より好ましくは５００ｎｍ以上とする。厚みが２００ｎｍを下回ると、分光透過率曲線におけるピーク（極大、極小）の数が減り、極大値が大きく極小値が小さくなり、極大値と極小値との間の透過率差が大きくなり、僅かな厚みの違いでピーク波長が変わりやすく色相が顕著に変わるため、色ムラになりやすく、厚みのコントロールが難しい。同じ色調を維持するためには、厳しい厚み精度が要求される。
【００４９】
第１色相調整層(2) の屈折率は１．４０以上、用いられた透明基材(1) の屈折率−０．０５の値（透明基材の屈折率よりも０．０５小さい値）以下であることが好ましく、より具体的には、１．４０以上１．６０以下であることが好ましい。第１色相調整層(2) の屈折率が透明基材(1) の屈折率と同じでは干渉が起きないため、色相調整効果は発現しないので、透明基材の屈折率−０．０５の値以下が好ましい。第１色相調整層(2) の屈折率が１．４０を下回ると、後述する高屈折率層（好ましい屈折率：１．７０〜１．９０）との屈折率差が大きくなりすぎ、僅かな厚みの違いで色相が顕著に変わるため、色ムラになりやすい。
【００５０】
また、第１色相調整層(2) 及び後述する第２色相調整層(6) は、透明基材フィルム中に含まれる可塑剤やオリゴマー等の低分子量成分のブリードアウトを防ぐ役割も果たす。
【００５１】
第１色相調整層(2) 上に、高屈折率層(3) 及び低屈折率層(4) が設けられる。高屈折率層(3) 及び低屈折率層(4) は、光学干渉により、透明導電層(5) 表面の反射率を低減するための層（反射低減層）を構成する。
【００５２】
高屈折率層(3) は第１色相調整層(2) と接して設けられ、両者の界面の屈折率差は０．１０以上であることが好ましく、０．１５以上であることがより好ましい。そのような屈折率差があれば、より高い光学干渉が得られ、透明導電層(5) 表面の反射率の低減が得られやすい。両者の屈折率差が大きくなりすぎると、高屈折率層の厚み制御が厳しくなり、色ムラになりやすいので、厚み制御のし易さの点から、屈折率差は０．５以下が好ましい。
【００５３】
このような観点から、高屈折率層の屈折率は１．７０〜１．９０であることが好ましい。また、高屈折率層の厚みは、反射率低減の観点から、１０〜１００ｎｍであることが好ましい。
【００５４】
低屈折率層(4) の屈折率は、前記高屈折率層の屈折率よりも小さく、１．３０〜１．６０であることが好ましい。また、低屈折率層の厚みは、反射率低減の観点から、１０〜１００ｎｍであることが好ましい。
【００５５】
高屈折率層(3) と低屈折率層(4) の屈折率差が大きいほど反射低減効果は高くなるが、両層の屈折率差が大きすぎると、両層の厚みの僅かな変化が、色ムラとなりやすい。反射率をもっとも低く（光線透過率を高く）するためには、それぞれの層について、１／４λ＝ｎｄ（ここで、λ：波長、ｎ：屈折率、ｄ：膜厚）にすると良い。可視光の中心５５０ｎｍでは、ｎ＝１．３として、ｄ＝１０６ｎｍとなる。ｎ＝１．９として、ｄ＝７２ｎｍとなる。このように最適な厚みは屈折率によって異なる。なお、１０ｎｍよりも薄いと、膜として形成されないので適当ではない。一方、１００ｎｍを超えると、反射低減効果が得られにくくなる。
【００５６】
高屈折率層(3) は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法などの真空成膜法によって形成することができる。高屈折率層(3) 用材料として、例えば、ＴｉＯ2 （屈折率：２．３５）、ＺｒＯ2 （２．０５）、ＣｅＯ2 （２．３０）、Ｎｂ2 Ｏ3 （２．１５）、Ｓｂ2 Ｏ3 （２．１０）、Ｔａ2 Ｏ5 （２．１０）など、及びこれらの混合を用いることができる。（ ）内の数字は、屈折率を表している。
【００５７】
しかしながら、本発明においては、高屈折率層(3) の屈折率１．７０〜１．９０を得るために、上記の高屈折率材料からなる微粒子が分散された樹脂材料を塗布することにより、高屈折率層(3) を形成することが好ましい。この際の樹脂材料は、第１色相調整層(2) の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物として説明したのと同様に、（メタ）アクリロイル基、ビニル基等の活性エネルギー線反応性基を有する硬化性化合物を含む活性エネルギー線硬化性樹脂材料である。また、高屈折率材料微粒子はその表面がシランカップリング剤で処理され、（メタ）アクリロイル基、ビニル基等の活性エネルギー線反応性基が表面に存在しているものであってもよい。このような反応性微粒子を用いると、活性エネルギー線照射の際に、微粒子同士の反応や、微粒子と多官能モノマーもしくはオリゴマーとの反応が起こり、膜の強度が高くなる。高屈折率材料の微粒子は、前記硬化性化合物１００重量部に対して、例えば５重量部以上５００重量部以下程度を用いるとよく、好ましくは２０重量部以上２００重量部以下を用いるとよい。高屈折率材料の微粒子の含有量が小さくなるに従い、高屈折率層(3) の屈折率が小さくなる。
【００５８】
高屈折率材料の微粒子が分散された樹脂材料として、例えば、ＴｉＯ2 がアクリル系樹脂中に分散されたＴＹＴ８０（屈折率：１．８０、東洋インキ（株）製）、ＺｒＯ2 がアクリル系樹脂中に分散されたＴＹＺ７４（屈折率：１．７４、東洋インキ（株）製）等が挙げられ、好適に用いることができる。
【００５９】
第１色相調整層(2) 上に、高屈折率材料の微粒子が分散された樹脂材料を塗布、乾燥し、その後、紫外線照射を行い硬化させ、高屈折率層(3) を形成する。この際の塗布は、公知の方法により行うことができる。例えば、エクストルージョンノズル法、ブレード法、ナイフ法、バーコート法、キスコート法、キスリバース法、グラビアロール法、ディップ法、リバースロール法、ダイレクトロール法、カーテン法、スクイズ法などの塗布法によって行うことができる。この塗布法は、スパッタリング法などの真空成膜法よりも製造コストの観点からも利点がある。
【００６０】
低屈折率層(4) は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法などの真空成膜法によって形成することができる。低屈折率層(4) 用材料として、例えば、ＳｉＯ2 （屈折率：１．４６）、ＮａＦ（１．３０）、Ｎａ3 ＡｌＦ6 （１．３５）、ＬｉＦ（１．３６）、ＭｇＦ2 （１．３８）、ＣａＦ2 （１．４０）、ＢａＦ2 （１．３０）、ＬａＦ3 （１．５５）など、及びこれらの混合を用いることができる。（ ）内の数字は、屈折率を表している。
【００６１】
あるいは、屈折率１．３０〜１．６０の範囲のアクリル系樹脂、ウレタン系樹脂などの樹脂を用いて、高屈折率層(3) 上に塗布、乾燥することにより、低屈折率層(4) を形成してもよい。
【００６２】
低屈折率層(4) 上に、透明導電層(5) が設けられる。透明導電層(5) は、金属（又は半金属）の酸化物からなる薄膜である。例えば、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化チタン、インジウム−錫複合酸化物、錫−アンチモン複合酸化物、亜鉛−アルミニウム複合酸化物、インジウム−亜鉛複合酸化物などが挙げられる。これらのうち、インジウム−錫複合酸化物が好ましい。透明導電層(5) は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法などの真空成膜法によって形成することができる。
【００６３】
透明導電層(5) の厚みは、抵抗値と光線透過率の観点から、１０〜５０ｎｍとすることが好ましい。透明導電層(5) の屈折率は、１．８０〜２．２０とすることが好ましい。厚みが１０ｎｍ未満であると、膜として形成されない場合が多く、安定した抵抗値が得られにくい。一方、厚みが５０ｎｍを超えると、反射低減層の効果のみで透明導電体の全光線透過率９０％以上を確保することが難しくなる。
【００６４】
本発明において、透明導電層(5) の表面抵抗値は、用途にもよるが、３００Ω／□（すなわち、Ω／ｓｑ．）以下が好ましい。表面抵抗値は小さい方が良いので、下限は特に定められることはないが、５０Ω／□程度である。
【００６５】
透明基材(1) の他方の面上に第２色相調整層(6) が設けられる。第２色相調整層(6) は、硬化性化合物を含む組成物の硬化物からなる厚みが２０００ｎｍ以下の層である。
【００６６】
前記硬化性化合物を含む組成物は、熱硬化性樹脂組成物、紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物であってよい。
【００６７】
熱硬化性樹脂としては、エポキシ系樹脂、フェノキシ系樹脂、メラミン系樹脂等が挙げられる。
【００６８】
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、第１色相調整層(2) の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物として説明したのと同様に、（メタ）アクリロイル基、ビニル基等の活性エネルギー線反応性基を有する硬化性化合物を含む組成物である。
【００６９】
前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物中には、第１色相調整層(2) の場合と同様に、紫外線により硬化させるために、通常、さらに光重合開始剤が含まれる。また、第１色相調整層(2) の場合と同様に、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物中には、塗膜の強度を高める、屈折率を調整する等のために、有機又は無機の微粒子が含まれていてもよい。
【００７０】
前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を用いると、紫外線等の活性エネルギー線照射によって硬化させることができるので、製造工程上からも好ましい。
【００７１】
第２色相調整層(6) は、樹脂組成物の溶液を透明基材(1) の他方の面上に塗布、乾燥し、その後硬化させて形成するとよい。この際の塗布は、公知の方法により行うことができる。例えば、エクストルージョンノズル法、ブレード法、ナイフ法、バーコート法、キスコート法、キスリバース法、グラビアロール法、ディップ法、リバースロール法、ダイレクトロール法、カーテン法、スクイズ法などの塗布法によって行うことができる。
【００７２】
第２色相調整層(6) の厚みは２０００ｎｍ以下とする。厚みが２０００ｎｍを超えると、該色相調整層の分光透過率曲線におけるピーク（極大、極小）の数が増え、極大値が小さく極小値が大きくなり、極大値と極小値との間の透過率差が小さくなり、色相調整効果が小さくなる。そのため、透明導電体において、ＪＩＳ Ｚ８７２９に定められているＬ* ａ* ｂ* 表色系のａ* 値、ｂ* 値が所望の範囲から外れやすい。
【００７３】
第２色相調整層(6) の厚みは、上限について、好ましくは１２００ｎｍ以下とし、下限について、好ましくは２００ｎｍ以上、より好ましくは５００ｎｍ以上とする。厚みが２００ｎｍを下回ると、分光透過率曲線におけるピーク（極大、極小）の数が減り、極大値が大きく極小値が小さくなり、極大値と極小値との間の透過率差が大きくなり、僅かな厚みの違いでピーク波長が変わりやすく色相が顕著に変わるため、色ムラになりやすく、厚みのコントロールが難しい。同じ色調を維持するためには、厳しい厚み精度が要求される。
【００７４】
第２色相調整層(6) の屈折率は１．４０以上、用いられた透明基材(1) の屈折率−０．０５の値（透明基材の屈折率よりも０．０５小さい値）以下であることが好ましく、より具体的には、１．４０以上１．６０以下であることが好ましい。第２色相調整層(6) の屈折率が透明基材(1) の屈折率と同じでは干渉が起きないため、色相調整効果は発現しないので、透明基材の屈折率−０．０５の値以下が好ましい。第２色相調整層(6) の屈折率が１．４０を下回っても、特に問題はないが、第１色相調整層(2) と同じ塗料を使用すると、塗料調製の工程数が省けるので製造工程上好ましい。また、１．４０未満の屈折率を有するフッ素系材料（屈折率：１．３３）を使用するためには、その後の工程での真空装置は使用できず（有毒ガスが発生するため）、大気圧ＣＶＤ装置を使用するなど、工程が制限される可能性がある。
【００７５】
本発明の透明導電体は、全光線透過率が９０％以上であり、且つ、ＪＩＳ Ｚ８７２９に定められているＬ* ａ* ｂ* 表色系のａ* 値が−１〜１の範囲であり、ｂ* 値が−２〜１の範囲である。ａ* 、ｂ* は色の方向を示している。プラスのａ* は赤方向、マイナスのａ* は緑方向を示し、プラスのｂ* は黄方向、マイナスのｂ* は青方向を示している。従って、ａ* 値が０に近い値ほど、赤の色味も緑の色味も少ないことを意味する。ｂ* 値が０に近い値ほど、黄の色味も青の色味も少ないことを意味する。本発明の透明導電体は、ａ* 値が−１〜１の範囲であり、ｂ* 値が−２〜１の範囲であるので、着色は非常に少なく、そして、全光線透過率が９０％以上であるので、無色透明からやや青いものである。
【００７６】
ａ* 値をよりプラス側にしたい場合には、ＪＩＳ Ｚ８７０１に記載されている赤のピーク波長６６０ｎｍ近傍の透過率を上げる、あるいは、緑のピーク波長５５０ｎｍ近傍の透過率を下げるとよい。ａ* 値をよりマイナス側にしたい場合には、上記と逆である。
【００７７】
ｂ* 値をよりマイナス側にしたい場合には、ＪＩＳ Ｚ８７０１に記載されている緑のヒーク波長５５０ｎｍ近傍と赤のピーク波長６６０ｎｍ近傍の透過率を下げる、あるいは、青のピーク波長４５０ｎｍ近傍の透過率を上げるとよい。ｂ* 値をよりプラス側にしたい場合には、上記と逆である。
【００７８】
透明導電層にＩＴＯを用いると、青のピーク波長４５０ｎｍ近傍の反射が強くなり、青みが失われ、黄色になりやすい。嗜好的なものではあるが黄色のものは嫌われやすく、無色から青みのものが好まれる。よって、本発明の第１色目調整層及び第２色目調整層の少なくとも一方のピーク波長を４００〜５００ｎｍ近傍、もしくは７００〜８００ｎｍ近傍に調整すると、分光透過率曲線のピークが４５０ｎｍ近傍に発現するので、青味を出しやすく、無色を出しやすい。
【実施例】
【００７９】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００８０】
［実施例１］
図１に示すように、透明基材(1) と、前記透明基材(1) の一方の面上に第１色相調整層(2) 、高屈折率層(3) 、低屈折率層(4) 及び透明導電層(5) をこの順で有し、前記透明基材(1) の他方の面上に第２色相調整層(6) を有する透明導電体フィルムを次のように作製した。
【００８１】
（透明基材）
１００μｍ厚のポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績社製、Ａ４３００、両面に易接着層を有する）を透明基材(1) として用いた。このＰＥＴフィルムの全光線透過率は９２％、ヘイズは１％、屈折率は５５０ｎｍにて１．６５であった。屈折率は、反射分光膜厚計ＦＥ−３０００（大塚電子社製）で測定した。
【００８２】
（第１色相調整層用塗料、及び第２色相調整層用塗料）
メタクリロイル基修飾コロイダルシリカ（分散媒：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、不揮発分：４０重量％、平均粒径１０〜２０ｎｍ） １００重量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ４８重量部
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート １２重量部
光重合開始剤（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン） ２．５重量部
【００８３】
上記配合の組成物を、溶剤プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＡ）で希釈・混合・分散し、不揮発分濃度ＮＶ：２５．５重量％に調整した。得られたアクリル塗料を、第１色相調整層用塗料、及び第２色相調整層用塗料として用いた。
【００８４】
（高屈折率層用塗料）
ＴｉＯ2 含有インクＴＹＴ８０（屈折率：１．８０、東洋インキ（株）製）を溶剤プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＡ）で希釈し、不揮発分濃度ＮＶ：２．６重量％に調整した。得られた高屈折率インクを、高屈折率層用塗料として用いた。
【００８５】
ＰＥＴフィルム基材(1) をロールから繰り出し、フィルム(1) の一面上に、上記アクリル塗料をキスリバース方式でオンライン膜厚計（MultiPointOpticalGage:光学式膜厚計、浜松ホトニクス社製）を用いて３８０ｎｍの乾燥膜厚となるように塗布し、塗布膜を形成した。続いて、８０℃に設定した熱風乾燥炉において溶剤を除去し、その後、ＵＶ処理装置で積算光量４００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射して硬化させ、ロール状に巻き取った。このようにして、第１色相調整層(2) を形成した。
【００８６】
次に、ＰＥＴフィルム基材をロールから繰り出し、フィルム(1) の他面上に、上記アクリル塗料をキスリバース方式でオンライン膜厚計（MultiPointOpticalGage ）を用いて５５０ｎｍの乾燥膜厚となるように塗布し、塗布膜を形成した。続いて、８０℃に設定した熱風乾燥炉において溶剤を除去し、その後、ＵＶ処理装置で積算光量４００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射して硬化させ、ロール状に巻き取った。このようにして、第２色相調整層(6) を形成した。
【００８７】
次に、ＰＥＴフィルム基材をロールから繰り出し、第１色相調整層(2) 面上に、上記高屈折率インクをキスリバース方式でオンライン膜厚計（MultiPointOpticalGage ）を用いて５０ｎｍの乾燥膜厚となるようにロールトゥロール方式で塗布し、塗布膜を形成した。続いて、８０℃に設定した熱風乾燥炉において溶剤を除去し、その後、ＵＶ処理装置で積算光量４００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射して硬化させ、ロール状に巻き取った。このようにして、高屈折率層(3) を形成した。なお、オンライン膜厚計の値は、ＳＥＭ断面測定値から検量線を作成して算出したものであり、成膜後のＳＥＭ断面測定値ともほぼ一致した。
【００８８】
次に、高屈折率層(3) 面上に、Ｓｉ（Ｂドープ）をターゲットに用いて、アルゴンガス８２％と酸素ガス１８％とからなる０．５Ｐａの雰囲気中で、反応性スパッタリング法で、ＳｉＯ2 からなる４７ｎｍ厚の低屈折率層(4) を成膜し、続いて、Ｉｎ2 Ｏ3 −５ｗｔ％ＳｎＯ2 をターゲットに用いて、アルゴンガス９８％と酸素ガス２％とからなる０．５Ｐａの雰囲気中で、反応性スパッタリング法で、酸化インジウムと酸化スズとの複合酸化物からなる２７ｎｍ厚の透明導電層(5) を成膜した。成膜後、熱風循環オーブンＤＮ６４（ヤマト科学社製）を用いて、１４０℃、３０分間の加熱処理を行い、結晶化させた。このようにして、透明導電体フィルムを作製した。層の厚みは、ＳＥＭ断面測定値から検量線を作成して、成膜速度で算出した。算出された層の厚みは、成膜後のＳＥＭ断面測定値ともほぼ一致した。
【００８９】
［実施例２〜６、比較例１〜６］
第２色相調整層(6) 、第１色相調整層(2) 、高屈折率層(3) 、低屈折率層(4) 、及び透明導電層(5) の厚みをそれぞれ表１に示すように変更した以外は、実施例１と同様にして、透明導電体フィルムを得た。なお、比較例１、２において、層の厚み０と表示されているのは、その層を形成していないことを意味する。
【００９０】
［評価］
１．全光線透過率、ヘイズ
ヘイズメーターＮＤＨ５０００（日本電色工業社製）を用いて全光線透過率（％）、ヘイズを測定した。
【００９１】
２．色相ａ* 値、ｂ* 値
分光色差計ＣＭ−５（コニカミノルタ社製）を用いて測定し、ａ* 値、ｂ* 値を求めた。（Ｄ６５光源 透過条件 視野角１０度）
【００９２】
３．表面抵抗値
Ｌｏｒｅｓｔａ−ＧＰ（ＭＣＰ−Ｔ６００、三菱化学社製）を用いて４端子法にて表面抵抗値（Ω／ｓｑ．）を測定した。
【００９３】
以上の結果を表１に示す。実施例１〜６の透明導電体フィルムは、いずれも、９１％以上の高い全光線透過率を有し、且つ、ａ* 値、ｂ* 値からも分かるように、着色が目視にも認められず、非常に優れていた。
【００９４】
一方、比較例１、３〜６の透明導電体フィルムは、ａ* 値及び／又はｂ* 値からも分かるように、着色が認められた。また、比較例１では、第１及び第２色相調整層が形成されておらず、比較例２では、第２色相調整層が形成されていなかったために、ＰＥＴフィルム基材中の可塑剤等の成分がブリードアウトして白化が認められた。
【００９５】
【表１】
【００９６】
［実施例８〜１５、比較例７〜９］
（第１色相調整層用塗料、及び第２色相調整層用塗料）
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ８０重量部
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート ２０重量部
光重合開始剤（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン） ３重量部
【００９７】
上記配合の組成物を、溶剤プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＡ）で希釈・混合・分散し、不揮発分濃度ＮＶ：２５．５重量％に調整した。得られたアクリル塗料を、第１色相調整層用塗料、及び第２色相調整層用塗料として用いた。
【００９８】
（高屈折率層用塗料）
ＺｒＯ2 含有インクＴＹＺ７４（屈折率：１．７４、東洋インキ（株）製を溶剤プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＡ）で希釈し、不揮発分濃度ＮＶ：２．６重量％に調整した。得られた高屈折率インクを、高屈折率層用塗料として用いた。
【００９９】
第１色相調整層用塗料、第２色相調整層用塗料、及び高屈折率層用塗料として上記のものを用いて、第２色相調整層(6) 、第１色相調整層(2) 、高屈折率層(3) 、低屈折率層(4) 、及び透明導電層(5) の厚みをそれぞれ表２に示すように変更した以外は、実施例１と同様にして、透明導電体フィルムを得た。
【０１００】
以上の結果を表２に示す。実施例９〜１５の透明導電体フィルムは、いずれも、９１％以上の高い全光線透過率を有し、且つ、ａ* 値、ｂ* 値からも分かるように、着色が目視にも認められず、非常に優れていた。
【０１０１】
一方、比較例７〜９の透明導電体フィルムは、ａ* 値及び／又はｂ* 値からも分かるように、着色が認められた。
【０１０２】
【表２】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材と、前記透明基材の一方の面上の反射低減層と、前記反射低減層上の透明導電層とを有する透明導電体であって、
前記透明基材と前記反射低減層との間に、硬化性化合物を含む組成物の硬化物からなる厚みが２０００ｎｍ以下の第１色相調整層が設けられ、
前記透明基材の他方の面上に、硬化性化合物を含む組成物の硬化物からなる厚みが２０００ｎｍ以下の第２色相調整層が設けられ、
全光線透過率が９０％以上であり、且つ、
ＪＩＳ Ｚ８７２９に定められているＬ* ａ* ｂ* 表色系のａ* 値が−１〜１の範囲であり、ｂ* 値が−２〜１の範囲である透明導電体。
【請求項２】
前記反射低減層は、前記第１色相調整層上の高屈折率層と、前記高屈折率層上の低屈折率層とを含み、
前記高屈折率層の屈折率は１．７０〜１．９０であり、厚みは１０〜１００ｎｍであり、
前記低屈折率層の屈折率は１．３０〜１．６０であり、厚みは１０〜１００ｎｍである、請求項１に記載の透明導電体。
【請求項３】
前記第１色相調整層の屈折率は１．４０〜前記透明基材の屈折率−０．０５の値であり、厚みは２００〜２０００ｎｍである、請求項１又は２に記載の透明導電体。
【請求項４】
前記第２色相調整層の屈折率は１．４０〜前記透明基材の屈折率−０．０５の値であり、厚みは２００〜２０００ｎｍである、請求項１〜３のうちのいずれかの記載の透明導電体。
【請求項５】
前記第１色相調整層を構成する前記組成物は、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物から選ばれる、請求項１〜４のうちのいずれかに記載の透明導電体。
【請求項６】
前記第２色相調整層を構成する前記組成物は、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物から選ばれる、請求項１〜５のうちのいずれかに記載の透明導電体。
【請求項７】
前記透明基材は、屈折率が１．５５〜１．７０であり、厚みが１０〜２００μｍである有機樹脂製フィルムである、請求項１〜６のうちのいずれかに記載の透明導電体。
【請求項８】
請求項１〜７のうちのいずれかに記載の透明導電体が、透明電極として含まれているタッチパネル。
【請求項１】
透明基材と、前記透明基材の一方の面上の反射低減層と、前記反射低減層上の透明導電層とを有する透明導電体であって、
前記透明基材と前記反射低減層との間に、硬化性化合物を含む組成物の硬化物からなる厚みが２０００ｎｍ以下の第１色相調整層が設けられ、
前記透明基材の他方の面上に、硬化性化合物を含む組成物の硬化物からなる厚みが２０００ｎｍ以下の第２色相調整層が設けられ、
全光線透過率が９０％以上であり、且つ、
ＪＩＳ Ｚ８７２９に定められているＬ* ａ* ｂ* 表色系のａ* 値が−１〜１の範囲であり、ｂ* 値が−２〜１の範囲である透明導電体。
【請求項２】
前記反射低減層は、前記第１色相調整層上の高屈折率層と、前記高屈折率層上の低屈折率層とを含み、
前記高屈折率層の屈折率は１．７０〜１．９０であり、厚みは１０〜１００ｎｍであり、
前記低屈折率層の屈折率は１．３０〜１．６０であり、厚みは１０〜１００ｎｍである、請求項１に記載の透明導電体。
【請求項３】
前記第１色相調整層の屈折率は１．４０〜前記透明基材の屈折率−０．０５の値であり、厚みは２００〜２０００ｎｍである、請求項１又は２に記載の透明導電体。
【請求項４】
前記第２色相調整層の屈折率は１．４０〜前記透明基材の屈折率−０．０５の値であり、厚みは２００〜２０００ｎｍである、請求項１〜３のうちのいずれかの記載の透明導電体。
【請求項５】
前記第１色相調整層を構成する前記組成物は、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物から選ばれる、請求項１〜４のうちのいずれかに記載の透明導電体。
【請求項６】
前記第２色相調整層を構成する前記組成物は、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物から選ばれる、請求項１〜５のうちのいずれかに記載の透明導電体。
【請求項７】
前記透明基材は、屈折率が１．５５〜１．７０であり、厚みが１０〜２００μｍである有機樹脂製フィルムである、請求項１〜６のうちのいずれかに記載の透明導電体。
【請求項８】
請求項１〜７のうちのいずれかに記載の透明導電体が、透明電極として含まれているタッチパネル。
【図１】
【公開番号】特開２０１２−２０４２５（Ｐ２０１２−２０４２５Ａ）
【公開日】平成２４年２月２日（２０１２．２．２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−１５８３２４（Ｐ２０１０−１５８３２４）
【出願日】平成２２年７月１２日（２０１０．７．１２）
【出願人】（０００００３０６７）ＴＤＫ株式会社 (7,238)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年２月２日（２０１２．２．２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年７月１２日（２０１０．７．１２）
【出願人】（０００００３０６７）ＴＤＫ株式会社 (7,238)
【Ｆターム（参考）】
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