透明導電性シートの製造方法
【課題】塗布により透明基板に透明導電膜を形成するに際し、透明基板にダメージを与えずに透明導電膜を形成し、良好な導電性と透明性を兼ね備えた透明導電性シートを得る透明導電性シートの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の透明導電性シート１０の製造方法は、透明基板１１と、透明基板１１の上に形成された透明導電膜１２とを含む透明導電性シートの製造方法であって、透明基板１１の上に透明導電性粒子を含む塗布液を塗布して透明導電膜１２を形成する工程と、透明導電膜１２のみを選択的に加熱処理する工程とを含む。
【解決手段】本発明の透明導電性シート１０の製造方法は、透明基板１１と、透明基板１１の上に形成された透明導電膜１２とを含む透明導電性シートの製造方法であって、透明基板１１の上に透明導電性粒子を含む塗布液を塗布して透明導電膜１２を形成する工程と、透明導電膜１２のみを選択的に加熱処理する工程とを含む。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明基板上に透明導電膜を設けてなる透明導電性シートの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、透明導電膜や透明導電性インクの材料として、酸化スズ粒子、アンチモン含有酸化スズ粒子（ＡＴＯ）、スズ含有酸化インジウム粒子（ＩＴＯ）、アルミニウム含有酸化亜鉛粒子（ＡＺＯ）、ガリウム含有酸化亜鉛粒子（ＧＺＯ）などが知られている。中でも、酸化インジウムにスズを含有させたスズ含有酸化インジウム粒子は、可視光に対する高い透光性と、高い導電性から、静電防止や電磁波遮蔽が要求されるオフィスオートメーション（ＯＡ）機器の陰極線管（ＣＲＴ）のパネル表面や液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）の表面などに塗布して使用されている。さらに、スズ含有酸化インジウム粒子を含む塗布液（インク）を塗布して作製された透明導電膜は、タッチパネルなどの、より高い透光性と導電性が要求される分野への応用が期待されている。
【０００３】
また、現在、主に用いられている透明導電膜の成膜方法は、真空蒸着法やスパッタリング法などの物理的方法であるが、成膜する基板の大型化に伴い、製造装置が大掛かりとなり、コストが高くなってしまうという問題が生じている。
【０００４】
そして、コストの面及び簡便であるという点から、塗布法による透明導電膜の成膜が検討されている。例えば、ＩＴＯ微粒子を含有するシリカゾル液（特許文献１参照）や、ＩＴＯ微粒子とバインダ用シリケートと極性溶媒からなる塗布液（特許文献２参照）などの導電性粒子を分散させたインクを用いて、ガラスなどの基板上にスピンコーティング、スプレーコーティング、ディップコーティングなどの方法で塗布・乾燥・焼成してＩＴＯ透明導電膜を形成する製造方法が知られている。しかし、導電性粒子を分散させたインクを透明基板上に塗布することにより透明導電膜を形成する方法では、通常絶縁性であるバインダによって導電性粒子同士の接触が妨げられるため、成膜される透明導電膜の初期シート抵抗値が、スパッタリング法によって成膜された透明導電膜と比較して、２桁以上高くなってしまう問題がある。そのため、透明導電膜の形成工程において、実用的な初期シート抵抗値を得るために、透明導電性シートを高温で焼結させて導電性粒子同士の接触を強化する必要がある。透明導電性シートを高温で焼結する方法として、通常、電気炉や高温槽などにより焼成する方法があるが、このように透明導電性シートを高温で焼結する場合は、基板、特にポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムなどの合成樹脂製のフレキシブル基板にダメージを与える恐れがある。
【０００５】
また、特許文献３には、粒子径４０ｎｍのスズ含有酸化インジウム粒子を用い、塗膜中の粒子の体積含有率を６０〜８０％とし、膜厚３μｍの乾燥塗布膜を作製した後、スチールロールによって圧延処理を施す方法が提案されている。しかし、８０℃程度の温度しかかけられず、全光線透過率が７０％程度であれば、初期シート抵抗が５００Ω／スクエア以下となるが、全光線透過率が８０％程度という高い透明性を保持する場合には、塗布膜厚を薄くする必要があるため、初期シート抵抗が高くなってしまう問題がある。
【０００６】
また、特許文献４には、透明導電膜にマイクロ波を照射することによって、低い抵抗値を有する透明導電膜を得ることが提案されている。さらに、特許文献５には、透明導電膜にプラズマ又は電磁波を照射することによって、低抵抗かつ可視光透過率が高い膜を形成することが提案されている。しかし、いずれの場合にも、基板にダメージを与える恐れがある。
【特許文献１】特開平２−３１２１３６号公報
【特許文献２】特開平８−１７６７９４号公報
【特許文献３】特開平４−２３７９０８号公報
【特許文献４】特開２０００−１２３６５８号公報
【特許文献５】特開２００６−４９１０７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
このように塗布により基板上に透明導電膜を形成する場合、従来では、基板にダメージを与えず、良好な導電性と透明性を兼ね備えた透明導電性シートを得ることが困難であった。
【０００８】
本発明は、上記問題を解決するため、塗布により基板に透明導電膜を形成するに際し、基板にダメージを与えずに透明導電膜を形成し、良好な導電性と透明性を兼ね備えた透明導電性シートが得られる透明導電性シートの製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の透明導電性シートの製造方法は、透明基板と、上記透明基板の上に形成された透明導電膜とを含む透明導電性シートの製造方法であって、上記透明基板の上に透明導電性粒子を含む塗布液を塗布して透明導電膜を形成する工程と、上記透明導電膜のみを選択的に加熱処理する工程とを含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の透明導電性シートの製造方法によって得られる透明導電性シートは、良好な導電性と透明性を兼ね備えているので、電子ペーパー、フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）、太陽電池などの透明電極に応用することができる。また、本発明の透明導電性シートの製造方法によれば、基板にダメージを与えず、ＰＥＴフィルムなどの合成樹脂製のフレキシブルな基板上に透明導電膜を形成し、良好な導電性と透明性を兼ね備えた透明導電性シートが得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
発明者らは、上記の目的を達成するため鋭意検討した結果、透明基板上に塗布により透明導電膜を形成した後、透明導電膜のみを選択的に加熱処理することによって、基板にダメージを与えることもなく、優れた導電性及び透明性を有する透明導電性シートが得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１２】
以下、本発明の透明導電性シートの製造方法を説明する。
【００１３】
本発明の透明導電性シートの製造方法は、透明基板と、上記透明基板の上に形成された透明導電膜とを含む透明導電性シートの製造方法であって、上記透明基板の上に透明導電性粒子を含む塗布液を塗布して透明導電膜を形成する工程と、上記透明導電膜のみを選択的に加熱処理する工程とを含む。図１は、本発明の製造方法により得られる透明導電性シートの一例を示す概略断面図である。図１において、本発明の透明導電性シート１０は、透明基板１１と、透明基板１１の一方の主面に透明導電膜１２を設けている。
【００１４】
透明基板１１としては、透明な透光性を有する材料で形成されていれば特に限定されない。例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル類、ポリオレフィン類、セルローストリアセテート、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスルフオン、アラミド、芳香族ポリアミドなどの材料からなる、フィルム又はシートを用いることができる。透明基板１１の厚さは、通常３〜３００μｍである。また、透明基板１１は、ガラス板のような硬質の基板でもよく、フレキシブルであってもよい。
【００１５】
なお、透明基板１１には、酸化防止剤、難燃剤、耐熱防止剤、紫外線吸収剤、易滑剤、帯電防止剤などの添加剤が添加されていてもよい。さらに、その上に設けられる膜との密着性を向上させるために、基板表面に易接着層（例えば、プライマー層）を設けたり、コロナ処理、プラズマ処理などの表面処理を行ってもよい。
【００１６】
透明導電膜１２は、透明導電性粒子を含む塗布液を上記透明基板上に塗布することにより形成される。上記透明導電膜形成用塗布液は、透明導電性粒子と上記透明導電性粒子を分散し得るバインダと溶剤とを含む。
【００１７】
上記透明導電性粒子としては、透明性と導電性を兼ね備えた粒子であればよく、特に限定されず、例えば、導電性金属酸化物粒子や導電性窒化物粒子などを用いることができる。上記導電性金属酸化物粒子としては、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化カドミウムなどの金属酸化物粒子が挙げられる。また、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛及び酸化カドミウムからなる群から選ばれる１種類以上の金属酸化物を主成分として、さらにスズ、アンチモン、アルミニウム、ガリウムがドープされた導電性金属酸化物粒子、例えば、アンチモン含有酸化スズ粒子（ＡＴＯ）、スズ含有酸化インジウム粒子（ＩＴＯ）、アルミニウム含有酸化亜鉛粒子（ＡＺＯ）、ガリウム含有酸化亜鉛粒子（ＧＺＯ）、ＩＴＯをアルミニウム置換した導電性金属酸化物粒子などが挙げられる。中でも、透明性、導電性及び化学特性に優れている点から、ＩＴＯが特に好ましい。本発明において、主成分とは、導電性金属酸化物粒子において、結晶母体となる金属酸化物のことである。
【００１８】
上記透明導電性粒子の一次粒子径は５〜１５０ｎｍであることが好ましい。一次粒子径が５ｎｍ未満であると、結晶性のよい粒子を得ることが難しい傾向があり、一方、一次粒子径が１５０ｎｍよりも大きいと、透明性が低下してしまう傾向がある。本発明において、一次粒子径とは、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用い、粒界で区切られた個々の粒子の粒子径を観察・測定した後、少なくとも２０個の粒子の粒子径を平均した平均粒子径をいう。
【００１９】
上記透明導電性粒子を、透明導電膜中の含有量が８０〜９９重量％の範囲になるようにバインダ溶液中に添加して、分散させることが好ましい。上記透明導電性粒子の透明導電膜中の含有量が８０〜９９重量％であれば、高い導電性が得られるうえ、透明性も良好となるからである。
【００２０】
上記バインダとしては、上記透明導電性粒子を分散し得るものであればよく、特に限定されない。例えば、塩化ビニル樹脂、アクリル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、塩化ビニル−水酸基含有アルキルアクリレート共重合体、ニトロセルロース、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ＵＶ硬化樹脂などを用いることができる。これらのバインダは、１種又は２種以上を組み合わせて用いてもよい。光学特性と分散性が良好という点から、アクリル樹脂が好ましい。なお、ポリウレタン樹脂としては、例えば、ポリエステルポリウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテルポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレタン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタンなどが挙げられる。
【００２１】
上記溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族系溶剤、アセトン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチルなどの酢酸エステル系溶剤、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネートなどの炭酸エステル系溶剤、エタノール、イソプロパノールなどのアルコール系溶剤や、ヘキサン、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミドなどの有機溶剤が挙げられる。
【００２２】
また、透明導電性粒子の分散性を向上させるために、上記透明導電膜形成用塗布液は、分散剤を含んでもよい。このような分散剤としては、特に限定されず、例えば、粒子吸着部位として塩基性官能基を有する櫛型コポリマーなどの公知の分散剤を使用することができる。
【００２３】
上記透明導電膜形成用塗布液を、透明基板１１上の一方の主面に塗布することにより透明導電膜１２を形成する。塗布方法は、特に限定されず、例えば、ロールコート、ダイコート、エアナイフコート、ブレードコート、スピンコート、リバースコート、グラビアコートなどの塗工法、又はグラビア印刷、スクリーン印刷、オフセット印刷、インクジェット印刷などの印刷法などを用いることができる。
【００２４】
上記のように、塗布により形成される透明導電膜１２の膜厚は、最終的に０．１〜６μｍになるように設定することが好ましい。上記透明導電膜の膜厚が０．１μｍ未満であると、透明性には優れるが、高い導電性が得られにくい傾向がある。また上記透明導電膜の膜厚が６μｍを超えると、高い透明性が得られにくい傾向がある。
【００２５】
上記塗布により形成された透明導電膜に対してプレス加工処理やカレンダ処理を施してもよい。プレス加工処理やカレンダ処理を施すことによって、透明導電性粒子が高充填化され、その結果、透明導電膜中の平均空孔率が減少し、膜の導電性、光学特性が向上する。光学特性においては、特に粒子間空隙による散乱光が減少することにより、光散乱強度を表す値であるヘイズ値が著しく減少し、透明性の高いものとなる。
【００２６】
カレンダ処理する場合は、処理速度１〜３０ｍ／分、カレンダ温度は、上記バインダを構成している樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）に対し、Ｔｇ±５０℃の範囲内、加圧条件は面圧力９．８×１０4〜９．８×１０6Ｐａ（１〜１００ｋｇ／ｃｍ2）の範囲内が好ましい。また、プレス処理する場合は、プレス温度は、上記バインダを構成している樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）に対し、Ｔｇ±５０℃の範囲内、加圧条件は面圧力９．８×１０4〜９．８×１０6Ｐａ（１〜１００ｋｇ／ｃｍ2）の範囲内が好ましい。
【００２７】
上記透明導電膜１２は、選択的に加熱処理される。透明導電膜１２のみを選択的に加熱処理することにより、基板にダメージを与えずに、良好な導電性と透明性を兼ね備えた透明導電性シート１０を得ることができる。
【００２８】
上記選択的な加熱処理としては、透明導電膜のみを選択的に加熱する処理であればよく、特に限定されない。例えば、透明導電膜形成側からの短時間のランプアニール処理、基板側を冷風処理しながら透明導電膜形成側を熱風処理することなどが挙げられる。具体的には、ランプアニール処理、熱風表層アニール処理、フラッシュランプアニール処理などが挙げられる。中でも、基板にダメージを与えず、より優れた導電性と透明性を付与するという点から、フラッシュランプアニール処理が好ましい。
【００２９】
上記フラッシュランプアニール処理において、照射エネルギー密度及び／又は照射時間は、透明導電性シートの初期シート抵抗を低下させることができればよく、特に限定されない。透明導電膜の膜厚にもよるが、最終的な膜厚が０．１〜６μｍの範囲において、照射エネルギー密度は、０．５〜１０Ｊ／ｃｍ2の範囲であることが好ましい。本発明において、１パルス、すなわち、１回の照射処理で、サンプル基板の単位面積に照射されるトータルのエネルギーを単位面積あたりの照射エネルギーといい、一回の照射処理で、サンプル基板の１ｃｍ2の単位面積に照射されるトータルのエネルギーを照射エネルギー密度という。例えば、透明導電膜の最終的な膜厚が１．１μｍの場合において、照射エネルギー密度は２．７Ｊ／ｃｍ2以下であることが好ましい。また、透明導電膜の最終的な膜厚が２．０μｍの場合において、照射エネルギー密度は２．１Ｊ／ｃｍ2以下であることが好ましい。照射エネルギー密度が０．５Ｊ／ｃｍ2未満であると、初期シート抵抗の低下率が小さくなる傾向があり、一方、１０Ｊ／ｃｍ2を超えると、透明導電膜にクラックが入ってしまう傾向がある。また、照射時間は１０μｓから１０ｍｓまでの範囲であることが好ましく、５０μｓから１ｍｓまでの範囲であることがさらに好ましく、５０μｓから１ｍｓまでの範囲であることが特に好ましい。照射時間が１０μｓより短いと照射ムラができてしまう傾向があり、一方、１０ｍｓを超えると、透明基板が変形したり、透明導電膜にクラックが入ってしまう傾向がある。
【００３０】
上記透明導電性シートの初期シート抵抗は、１０００Ω／スクエア以下であることが好ましく、３００Ω／スクエア以下であることがさらに好ましく、１００Ω／スクエア以下であることが特に好ましい。上記初期シート抵抗は、透明導電性シートの導電性を示すものであり、値が低いほど、導電性が高いことを示す。ここで、初期シート抵抗とは、選択的加熱処理直後のシート抵抗をいう。
【００３１】
上記透明導電性シートの３８０〜７８０ｎｍの波長領域における全光線透過率は、８０％以上であることが好ましく、８５％以上であることがさらに好ましい。上記全光線透過率は、透明導電性シートの透明性を示すものであり、値が高いほど、透明性が高いことを示す。
【００３２】
上記のように、本発明の透明導電性シートの製造方法によれば、基板にダメージを与えず、優れた導電性と透明性との両立を実現することができる。
【実施例】
【００３３】
以下、実施例に基いて本発明を詳細に説明する。但し、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００３４】
（実施例１）
＜透明導電膜形成用塗布液の調製＞
一次粒子径が３０ｎｍのＩＴＯ粒子５．８５ｇと、バインダとしてアクリル樹脂（“ＢＲ−１１３”、三菱レイヨン社製）０．１５ｇとを、メチルエチルケトン、トルエン、イソプロパノール（ＩＰＡ）をそれぞれ等モル数混合した有機溶剤１４ｇに加えて混合した後、拡散分散用ジルコニアビーズを用いてペイントコンディショナーにより分散処理を施し、透明導電膜形成用塗布液を調製した。
【００３５】
＜透明導電膜形成＞
先ず、透明基板として幅１００ｍｍ、長さ２００ｍｍ、厚さ１００μｍのＰＥＴフィルムを準備した。次に、調製した透明導電膜形成用塗布液を、＃１２のバーを用いてバーコーターにより、上記のＰＥＴフィルム上に塗布して透明導電膜を形成した。続いて、８０℃でカレンダ処理を施した後、透明導電膜側から、透明導電膜のみを、２．７Ｊ／ｃｍ2の照射エネルギー密度で、２００μｓの照射時間でフラッシュランプアニール処理（以下において、ＦＬＡともいう。）を行い、膜厚１．１μｍの実施例１の透明導電性シートを得た。
【００３６】
（実施例２）
フラッシュランプアニール処理の照射エネルギー密度を２．３Ｊ／ｃｍ2に設定した以外は、実施例１と同様にして、実施例２の透明導電性シートを得た。
【００３７】
（実施例３）
フラッシュランプアニール処理の照射エネルギー密度を２．０Ｊ／ｃｍ2に設定した以外は、実施例１と同様にして、実施例３の透明導電性シートを得た。
【００３８】
（実施例４）
フラッシュランプアニール処理の照射エネルギー密度を１．０Ｊ／ｃｍ2に設定した以外は、実施例１と同様にして、実施例４の透明導電性シートを得た。
【００３９】
（実施例５）
＃２０のバーを用いてバーコーターで塗布したこと、及び２．１Ｊ／ｃｍ2の照射エネルギー密度でフラッシュランプアニール処理を施した以外は、実施例１と同様にし、膜厚２．０μｍの実施例５の透明導電性シートを得た。
【００４０】
（実施例６）
フラッシュランプアニール処理の照射エネルギー密度を２．０Ｊ／ｃｍ2に設定した以外は、実施例１と同様にして、実施例６の透明導電性シートを得た。
【００４１】
（実施例７）
フラッシュランプアニール処理の照射エネルギー密度を２．８Ｊ／ｃｍ2に設定した以外は、実施例１と同様にして、実施例７の透明導電性シートを得た。
【００４２】
（実施例８）
フラッシュランプアニール処理の照射エネルギー密度を２．３Ｊ／ｃｍ2に設定した以外は、実施例５と同様にして、実施例８の透明導電性シートを得た。
【００４３】
（比較例１）
フラッシュランプアニール処理を施していないこと以外は、実施例１と同様にして、比較例１の透明導電性シートを得た。
【００４４】
（比較例２）
フラッシュランプアニール処理を施していないこと以外は、実施例５と同様にして、比較例２の透明導電性シートを得た。
【００４５】
（比較例３）
実施例１における、フラッシュランプによる加熱処理を施していない状態の透明導電性シート全体を、８０℃の高温槽で１０分間加熱処理して、比較例３の透明導電性シートを得た。
【００４６】
（比較例４）
実施例５における、フラッシュランプによる加熱処理を施していない状態の透明導電性シート全体を、８０℃の高温槽で１０分間加熱処理して、比較例４の透明導電性シートを得た。
【００４７】
（比較例５）
実施例１における、フラッシュランプによる加熱処理を施していない状態の透明導電性シート全体を、１５０℃の高温槽で１０分間加熱処理して、比較例５の透明導電性シートを得た。
【００４８】
実施例１〜８、及び比較例１〜５の透明導電性シートについて、下記のとおり、初期シート抵抗、全光線透過率、膜厚、表面性及び基板のダメージを測定・評価し、その結果を下記表１に示した。
【００４９】
＜初期シート抵抗＞
抵抗率測定装置“ロレスタＡＰ ＭＣＰ−Ｔ４００”（三菱化学社製）を用い、初期シート抵抗を測定した。
【００５０】
＜全光線透過率＞
紫外可視近赤外分光光度計“Ｖ−５７０”（日本分光社製）を用い、透明導電性シートの３８０〜７８０ｎｍの波長領域における全光線透過率を測定した。
【００５１】
＜膜厚＞
走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）による透明導電膜の断面形状観察を行ない、膜厚を測定した。
【００５２】
＜表面性＞
目視で、透明導電膜側の表面を観察し、クラックが入ってないものをＡ、クラックが入っているものをＢと評価した。
【００５３】
＜基板のダメージ＞
目視で、透明導電性シートの基板側を観察して以下のように判断した。
Ａ：形状に変化がない場合は、基板のダメージがないと判断した。
Ｂ：収縮又は伸張がある場合、焦げている場合のいずれかに該当する場合は、基板にダメージがありと判断した。
【００５４】
【表１】
【００５５】
表１から、以下のことが分かる。
【００５６】
実施例１と比較例１、及び実施例５と比較例２の比較から、透明導電膜を選択的に加熱処理、例えばフラッシュランプアニール処理することで、高い透明性を維持しつつ、初期シート抵抗が２０分の１以下に大幅に低下することが分かった。
【００５７】
実施例１〜４の比較から、透明導電膜の膜厚が同じである場合、フラッシュランプの照射エネルギー密度が小さいほど、初期シート抵抗の低下率が減少することが分かった。
【００５８】
実施例１と実施例７、及び実施例５と実施例８を比較すると、照射エネルギー密度が最適値を超えると、透明導電膜の表面にクラックが発生して好ましくないことが分かった。
【００５９】
実施例１と実施例５を比較すると、透明導電膜の膜厚により照射エネルギー密度の最適範囲が異なり、膜厚に応じて最適な照射エネルギー密度を選択することにより、透明導電膜のクラックの発生を抑えながら、初期シート抵抗を低下させることができることが分かった。
【００６０】
比較例３及び４の結果から、８０℃の高温槽を用いた通常の加熱処理では、初期シート抵抗の低下は見られないことが分かった。また、１５０℃の高温槽を用いて加熱処理を行った比較例５の透明導電性シートでは、ある程度初期シート抵抗を低下させることはできたが、加熱処理の温度が高いためＰＥＴフィルムが収縮して、白濁してしまった。すなわち、比較例５の透明導電性シートでは、基板にダメージがあるうえ、透明導電性シートとはいえないほど透明性が著しく低くなっていた。
【産業上の利用可能性】
【００６１】
フラッシュランプアニール処理のような、透明導電膜のみを選択的に加熱処理する方法を用いれば、スパッタ膜に匹敵する低抵抗化が実現でき、低抵抗が必要なフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）や電子ペーパーなどの表示素子の透明電極、太陽電池の透明電極などの用途が考えられ、かつ、基板にダメージを与えることがないことから、フレキシブルな基板への応用も考えられ、広範囲の用途が期待できる。
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１】本発明の製造方法により得られる透明導電性シートの一例を示す概略断面図である。
【符号の説明】
【００６３】
１０ 透明導電性シート
１１ 透明基板
１２ 透明導電膜
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明基板上に透明導電膜を設けてなる透明導電性シートの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、透明導電膜や透明導電性インクの材料として、酸化スズ粒子、アンチモン含有酸化スズ粒子（ＡＴＯ）、スズ含有酸化インジウム粒子（ＩＴＯ）、アルミニウム含有酸化亜鉛粒子（ＡＺＯ）、ガリウム含有酸化亜鉛粒子（ＧＺＯ）などが知られている。中でも、酸化インジウムにスズを含有させたスズ含有酸化インジウム粒子は、可視光に対する高い透光性と、高い導電性から、静電防止や電磁波遮蔽が要求されるオフィスオートメーション（ＯＡ）機器の陰極線管（ＣＲＴ）のパネル表面や液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）の表面などに塗布して使用されている。さらに、スズ含有酸化インジウム粒子を含む塗布液（インク）を塗布して作製された透明導電膜は、タッチパネルなどの、より高い透光性と導電性が要求される分野への応用が期待されている。
【０００３】
また、現在、主に用いられている透明導電膜の成膜方法は、真空蒸着法やスパッタリング法などの物理的方法であるが、成膜する基板の大型化に伴い、製造装置が大掛かりとなり、コストが高くなってしまうという問題が生じている。
【０００４】
そして、コストの面及び簡便であるという点から、塗布法による透明導電膜の成膜が検討されている。例えば、ＩＴＯ微粒子を含有するシリカゾル液（特許文献１参照）や、ＩＴＯ微粒子とバインダ用シリケートと極性溶媒からなる塗布液（特許文献２参照）などの導電性粒子を分散させたインクを用いて、ガラスなどの基板上にスピンコーティング、スプレーコーティング、ディップコーティングなどの方法で塗布・乾燥・焼成してＩＴＯ透明導電膜を形成する製造方法が知られている。しかし、導電性粒子を分散させたインクを透明基板上に塗布することにより透明導電膜を形成する方法では、通常絶縁性であるバインダによって導電性粒子同士の接触が妨げられるため、成膜される透明導電膜の初期シート抵抗値が、スパッタリング法によって成膜された透明導電膜と比較して、２桁以上高くなってしまう問題がある。そのため、透明導電膜の形成工程において、実用的な初期シート抵抗値を得るために、透明導電性シートを高温で焼結させて導電性粒子同士の接触を強化する必要がある。透明導電性シートを高温で焼結する方法として、通常、電気炉や高温槽などにより焼成する方法があるが、このように透明導電性シートを高温で焼結する場合は、基板、特にポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムなどの合成樹脂製のフレキシブル基板にダメージを与える恐れがある。
【０００５】
また、特許文献３には、粒子径４０ｎｍのスズ含有酸化インジウム粒子を用い、塗膜中の粒子の体積含有率を６０〜８０％とし、膜厚３μｍの乾燥塗布膜を作製した後、スチールロールによって圧延処理を施す方法が提案されている。しかし、８０℃程度の温度しかかけられず、全光線透過率が７０％程度であれば、初期シート抵抗が５００Ω／スクエア以下となるが、全光線透過率が８０％程度という高い透明性を保持する場合には、塗布膜厚を薄くする必要があるため、初期シート抵抗が高くなってしまう問題がある。
【０００６】
また、特許文献４には、透明導電膜にマイクロ波を照射することによって、低い抵抗値を有する透明導電膜を得ることが提案されている。さらに、特許文献５には、透明導電膜にプラズマ又は電磁波を照射することによって、低抵抗かつ可視光透過率が高い膜を形成することが提案されている。しかし、いずれの場合にも、基板にダメージを与える恐れがある。
【特許文献１】特開平２−３１２１３６号公報
【特許文献２】特開平８−１７６７９４号公報
【特許文献３】特開平４−２３７９０８号公報
【特許文献４】特開２０００−１２３６５８号公報
【特許文献５】特開２００６−４９１０７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
このように塗布により基板上に透明導電膜を形成する場合、従来では、基板にダメージを与えず、良好な導電性と透明性を兼ね備えた透明導電性シートを得ることが困難であった。
【０００８】
本発明は、上記問題を解決するため、塗布により基板に透明導電膜を形成するに際し、基板にダメージを与えずに透明導電膜を形成し、良好な導電性と透明性を兼ね備えた透明導電性シートが得られる透明導電性シートの製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の透明導電性シートの製造方法は、透明基板と、上記透明基板の上に形成された透明導電膜とを含む透明導電性シートの製造方法であって、上記透明基板の上に透明導電性粒子を含む塗布液を塗布して透明導電膜を形成する工程と、上記透明導電膜のみを選択的に加熱処理する工程とを含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の透明導電性シートの製造方法によって得られる透明導電性シートは、良好な導電性と透明性を兼ね備えているので、電子ペーパー、フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）、太陽電池などの透明電極に応用することができる。また、本発明の透明導電性シートの製造方法によれば、基板にダメージを与えず、ＰＥＴフィルムなどの合成樹脂製のフレキシブルな基板上に透明導電膜を形成し、良好な導電性と透明性を兼ね備えた透明導電性シートが得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
発明者らは、上記の目的を達成するため鋭意検討した結果、透明基板上に塗布により透明導電膜を形成した後、透明導電膜のみを選択的に加熱処理することによって、基板にダメージを与えることもなく、優れた導電性及び透明性を有する透明導電性シートが得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１２】
以下、本発明の透明導電性シートの製造方法を説明する。
【００１３】
本発明の透明導電性シートの製造方法は、透明基板と、上記透明基板の上に形成された透明導電膜とを含む透明導電性シートの製造方法であって、上記透明基板の上に透明導電性粒子を含む塗布液を塗布して透明導電膜を形成する工程と、上記透明導電膜のみを選択的に加熱処理する工程とを含む。図１は、本発明の製造方法により得られる透明導電性シートの一例を示す概略断面図である。図１において、本発明の透明導電性シート１０は、透明基板１１と、透明基板１１の一方の主面に透明導電膜１２を設けている。
【００１４】
透明基板１１としては、透明な透光性を有する材料で形成されていれば特に限定されない。例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル類、ポリオレフィン類、セルローストリアセテート、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスルフオン、アラミド、芳香族ポリアミドなどの材料からなる、フィルム又はシートを用いることができる。透明基板１１の厚さは、通常３〜３００μｍである。また、透明基板１１は、ガラス板のような硬質の基板でもよく、フレキシブルであってもよい。
【００１５】
なお、透明基板１１には、酸化防止剤、難燃剤、耐熱防止剤、紫外線吸収剤、易滑剤、帯電防止剤などの添加剤が添加されていてもよい。さらに、その上に設けられる膜との密着性を向上させるために、基板表面に易接着層（例えば、プライマー層）を設けたり、コロナ処理、プラズマ処理などの表面処理を行ってもよい。
【００１６】
透明導電膜１２は、透明導電性粒子を含む塗布液を上記透明基板上に塗布することにより形成される。上記透明導電膜形成用塗布液は、透明導電性粒子と上記透明導電性粒子を分散し得るバインダと溶剤とを含む。
【００１７】
上記透明導電性粒子としては、透明性と導電性を兼ね備えた粒子であればよく、特に限定されず、例えば、導電性金属酸化物粒子や導電性窒化物粒子などを用いることができる。上記導電性金属酸化物粒子としては、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化カドミウムなどの金属酸化物粒子が挙げられる。また、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛及び酸化カドミウムからなる群から選ばれる１種類以上の金属酸化物を主成分として、さらにスズ、アンチモン、アルミニウム、ガリウムがドープされた導電性金属酸化物粒子、例えば、アンチモン含有酸化スズ粒子（ＡＴＯ）、スズ含有酸化インジウム粒子（ＩＴＯ）、アルミニウム含有酸化亜鉛粒子（ＡＺＯ）、ガリウム含有酸化亜鉛粒子（ＧＺＯ）、ＩＴＯをアルミニウム置換した導電性金属酸化物粒子などが挙げられる。中でも、透明性、導電性及び化学特性に優れている点から、ＩＴＯが特に好ましい。本発明において、主成分とは、導電性金属酸化物粒子において、結晶母体となる金属酸化物のことである。
【００１８】
上記透明導電性粒子の一次粒子径は５〜１５０ｎｍであることが好ましい。一次粒子径が５ｎｍ未満であると、結晶性のよい粒子を得ることが難しい傾向があり、一方、一次粒子径が１５０ｎｍよりも大きいと、透明性が低下してしまう傾向がある。本発明において、一次粒子径とは、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用い、粒界で区切られた個々の粒子の粒子径を観察・測定した後、少なくとも２０個の粒子の粒子径を平均した平均粒子径をいう。
【００１９】
上記透明導電性粒子を、透明導電膜中の含有量が８０〜９９重量％の範囲になるようにバインダ溶液中に添加して、分散させることが好ましい。上記透明導電性粒子の透明導電膜中の含有量が８０〜９９重量％であれば、高い導電性が得られるうえ、透明性も良好となるからである。
【００２０】
上記バインダとしては、上記透明導電性粒子を分散し得るものであればよく、特に限定されない。例えば、塩化ビニル樹脂、アクリル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、塩化ビニル−水酸基含有アルキルアクリレート共重合体、ニトロセルロース、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ＵＶ硬化樹脂などを用いることができる。これらのバインダは、１種又は２種以上を組み合わせて用いてもよい。光学特性と分散性が良好という点から、アクリル樹脂が好ましい。なお、ポリウレタン樹脂としては、例えば、ポリエステルポリウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテルポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレタン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタンなどが挙げられる。
【００２１】
上記溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族系溶剤、アセトン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチルなどの酢酸エステル系溶剤、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネートなどの炭酸エステル系溶剤、エタノール、イソプロパノールなどのアルコール系溶剤や、ヘキサン、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミドなどの有機溶剤が挙げられる。
【００２２】
また、透明導電性粒子の分散性を向上させるために、上記透明導電膜形成用塗布液は、分散剤を含んでもよい。このような分散剤としては、特に限定されず、例えば、粒子吸着部位として塩基性官能基を有する櫛型コポリマーなどの公知の分散剤を使用することができる。
【００２３】
上記透明導電膜形成用塗布液を、透明基板１１上の一方の主面に塗布することにより透明導電膜１２を形成する。塗布方法は、特に限定されず、例えば、ロールコート、ダイコート、エアナイフコート、ブレードコート、スピンコート、リバースコート、グラビアコートなどの塗工法、又はグラビア印刷、スクリーン印刷、オフセット印刷、インクジェット印刷などの印刷法などを用いることができる。
【００２４】
上記のように、塗布により形成される透明導電膜１２の膜厚は、最終的に０．１〜６μｍになるように設定することが好ましい。上記透明導電膜の膜厚が０．１μｍ未満であると、透明性には優れるが、高い導電性が得られにくい傾向がある。また上記透明導電膜の膜厚が６μｍを超えると、高い透明性が得られにくい傾向がある。
【００２５】
上記塗布により形成された透明導電膜に対してプレス加工処理やカレンダ処理を施してもよい。プレス加工処理やカレンダ処理を施すことによって、透明導電性粒子が高充填化され、その結果、透明導電膜中の平均空孔率が減少し、膜の導電性、光学特性が向上する。光学特性においては、特に粒子間空隙による散乱光が減少することにより、光散乱強度を表す値であるヘイズ値が著しく減少し、透明性の高いものとなる。
【００２６】
カレンダ処理する場合は、処理速度１〜３０ｍ／分、カレンダ温度は、上記バインダを構成している樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）に対し、Ｔｇ±５０℃の範囲内、加圧条件は面圧力９．８×１０4〜９．８×１０6Ｐａ（１〜１００ｋｇ／ｃｍ2）の範囲内が好ましい。また、プレス処理する場合は、プレス温度は、上記バインダを構成している樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）に対し、Ｔｇ±５０℃の範囲内、加圧条件は面圧力９．８×１０4〜９．８×１０6Ｐａ（１〜１００ｋｇ／ｃｍ2）の範囲内が好ましい。
【００２７】
上記透明導電膜１２は、選択的に加熱処理される。透明導電膜１２のみを選択的に加熱処理することにより、基板にダメージを与えずに、良好な導電性と透明性を兼ね備えた透明導電性シート１０を得ることができる。
【００２８】
上記選択的な加熱処理としては、透明導電膜のみを選択的に加熱する処理であればよく、特に限定されない。例えば、透明導電膜形成側からの短時間のランプアニール処理、基板側を冷風処理しながら透明導電膜形成側を熱風処理することなどが挙げられる。具体的には、ランプアニール処理、熱風表層アニール処理、フラッシュランプアニール処理などが挙げられる。中でも、基板にダメージを与えず、より優れた導電性と透明性を付与するという点から、フラッシュランプアニール処理が好ましい。
【００２９】
上記フラッシュランプアニール処理において、照射エネルギー密度及び／又は照射時間は、透明導電性シートの初期シート抵抗を低下させることができればよく、特に限定されない。透明導電膜の膜厚にもよるが、最終的な膜厚が０．１〜６μｍの範囲において、照射エネルギー密度は、０．５〜１０Ｊ／ｃｍ2の範囲であることが好ましい。本発明において、１パルス、すなわち、１回の照射処理で、サンプル基板の単位面積に照射されるトータルのエネルギーを単位面積あたりの照射エネルギーといい、一回の照射処理で、サンプル基板の１ｃｍ2の単位面積に照射されるトータルのエネルギーを照射エネルギー密度という。例えば、透明導電膜の最終的な膜厚が１．１μｍの場合において、照射エネルギー密度は２．７Ｊ／ｃｍ2以下であることが好ましい。また、透明導電膜の最終的な膜厚が２．０μｍの場合において、照射エネルギー密度は２．１Ｊ／ｃｍ2以下であることが好ましい。照射エネルギー密度が０．５Ｊ／ｃｍ2未満であると、初期シート抵抗の低下率が小さくなる傾向があり、一方、１０Ｊ／ｃｍ2を超えると、透明導電膜にクラックが入ってしまう傾向がある。また、照射時間は１０μｓから１０ｍｓまでの範囲であることが好ましく、５０μｓから１ｍｓまでの範囲であることがさらに好ましく、５０μｓから１ｍｓまでの範囲であることが特に好ましい。照射時間が１０μｓより短いと照射ムラができてしまう傾向があり、一方、１０ｍｓを超えると、透明基板が変形したり、透明導電膜にクラックが入ってしまう傾向がある。
【００３０】
上記透明導電性シートの初期シート抵抗は、１０００Ω／スクエア以下であることが好ましく、３００Ω／スクエア以下であることがさらに好ましく、１００Ω／スクエア以下であることが特に好ましい。上記初期シート抵抗は、透明導電性シートの導電性を示すものであり、値が低いほど、導電性が高いことを示す。ここで、初期シート抵抗とは、選択的加熱処理直後のシート抵抗をいう。
【００３１】
上記透明導電性シートの３８０〜７８０ｎｍの波長領域における全光線透過率は、８０％以上であることが好ましく、８５％以上であることがさらに好ましい。上記全光線透過率は、透明導電性シートの透明性を示すものであり、値が高いほど、透明性が高いことを示す。
【００３２】
上記のように、本発明の透明導電性シートの製造方法によれば、基板にダメージを与えず、優れた導電性と透明性との両立を実現することができる。
【実施例】
【００３３】
以下、実施例に基いて本発明を詳細に説明する。但し、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００３４】
（実施例１）
＜透明導電膜形成用塗布液の調製＞
一次粒子径が３０ｎｍのＩＴＯ粒子５．８５ｇと、バインダとしてアクリル樹脂（“ＢＲ−１１３”、三菱レイヨン社製）０．１５ｇとを、メチルエチルケトン、トルエン、イソプロパノール（ＩＰＡ）をそれぞれ等モル数混合した有機溶剤１４ｇに加えて混合した後、拡散分散用ジルコニアビーズを用いてペイントコンディショナーにより分散処理を施し、透明導電膜形成用塗布液を調製した。
【００３５】
＜透明導電膜形成＞
先ず、透明基板として幅１００ｍｍ、長さ２００ｍｍ、厚さ１００μｍのＰＥＴフィルムを準備した。次に、調製した透明導電膜形成用塗布液を、＃１２のバーを用いてバーコーターにより、上記のＰＥＴフィルム上に塗布して透明導電膜を形成した。続いて、８０℃でカレンダ処理を施した後、透明導電膜側から、透明導電膜のみを、２．７Ｊ／ｃｍ2の照射エネルギー密度で、２００μｓの照射時間でフラッシュランプアニール処理（以下において、ＦＬＡともいう。）を行い、膜厚１．１μｍの実施例１の透明導電性シートを得た。
【００３６】
（実施例２）
フラッシュランプアニール処理の照射エネルギー密度を２．３Ｊ／ｃｍ2に設定した以外は、実施例１と同様にして、実施例２の透明導電性シートを得た。
【００３７】
（実施例３）
フラッシュランプアニール処理の照射エネルギー密度を２．０Ｊ／ｃｍ2に設定した以外は、実施例１と同様にして、実施例３の透明導電性シートを得た。
【００３８】
（実施例４）
フラッシュランプアニール処理の照射エネルギー密度を１．０Ｊ／ｃｍ2に設定した以外は、実施例１と同様にして、実施例４の透明導電性シートを得た。
【００３９】
（実施例５）
＃２０のバーを用いてバーコーターで塗布したこと、及び２．１Ｊ／ｃｍ2の照射エネルギー密度でフラッシュランプアニール処理を施した以外は、実施例１と同様にし、膜厚２．０μｍの実施例５の透明導電性シートを得た。
【００４０】
（実施例６）
フラッシュランプアニール処理の照射エネルギー密度を２．０Ｊ／ｃｍ2に設定した以外は、実施例１と同様にして、実施例６の透明導電性シートを得た。
【００４１】
（実施例７）
フラッシュランプアニール処理の照射エネルギー密度を２．８Ｊ／ｃｍ2に設定した以外は、実施例１と同様にして、実施例７の透明導電性シートを得た。
【００４２】
（実施例８）
フラッシュランプアニール処理の照射エネルギー密度を２．３Ｊ／ｃｍ2に設定した以外は、実施例５と同様にして、実施例８の透明導電性シートを得た。
【００４３】
（比較例１）
フラッシュランプアニール処理を施していないこと以外は、実施例１と同様にして、比較例１の透明導電性シートを得た。
【００４４】
（比較例２）
フラッシュランプアニール処理を施していないこと以外は、実施例５と同様にして、比較例２の透明導電性シートを得た。
【００４５】
（比較例３）
実施例１における、フラッシュランプによる加熱処理を施していない状態の透明導電性シート全体を、８０℃の高温槽で１０分間加熱処理して、比較例３の透明導電性シートを得た。
【００４６】
（比較例４）
実施例５における、フラッシュランプによる加熱処理を施していない状態の透明導電性シート全体を、８０℃の高温槽で１０分間加熱処理して、比較例４の透明導電性シートを得た。
【００４７】
（比較例５）
実施例１における、フラッシュランプによる加熱処理を施していない状態の透明導電性シート全体を、１５０℃の高温槽で１０分間加熱処理して、比較例５の透明導電性シートを得た。
【００４８】
実施例１〜８、及び比較例１〜５の透明導電性シートについて、下記のとおり、初期シート抵抗、全光線透過率、膜厚、表面性及び基板のダメージを測定・評価し、その結果を下記表１に示した。
【００４９】
＜初期シート抵抗＞
抵抗率測定装置“ロレスタＡＰ ＭＣＰ−Ｔ４００”（三菱化学社製）を用い、初期シート抵抗を測定した。
【００５０】
＜全光線透過率＞
紫外可視近赤外分光光度計“Ｖ−５７０”（日本分光社製）を用い、透明導電性シートの３８０〜７８０ｎｍの波長領域における全光線透過率を測定した。
【００５１】
＜膜厚＞
走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）による透明導電膜の断面形状観察を行ない、膜厚を測定した。
【００５２】
＜表面性＞
目視で、透明導電膜側の表面を観察し、クラックが入ってないものをＡ、クラックが入っているものをＢと評価した。
【００５３】
＜基板のダメージ＞
目視で、透明導電性シートの基板側を観察して以下のように判断した。
Ａ：形状に変化がない場合は、基板のダメージがないと判断した。
Ｂ：収縮又は伸張がある場合、焦げている場合のいずれかに該当する場合は、基板にダメージがありと判断した。
【００５４】
【表１】
【００５５】
表１から、以下のことが分かる。
【００５６】
実施例１と比較例１、及び実施例５と比較例２の比較から、透明導電膜を選択的に加熱処理、例えばフラッシュランプアニール処理することで、高い透明性を維持しつつ、初期シート抵抗が２０分の１以下に大幅に低下することが分かった。
【００５７】
実施例１〜４の比較から、透明導電膜の膜厚が同じである場合、フラッシュランプの照射エネルギー密度が小さいほど、初期シート抵抗の低下率が減少することが分かった。
【００５８】
実施例１と実施例７、及び実施例５と実施例８を比較すると、照射エネルギー密度が最適値を超えると、透明導電膜の表面にクラックが発生して好ましくないことが分かった。
【００５９】
実施例１と実施例５を比較すると、透明導電膜の膜厚により照射エネルギー密度の最適範囲が異なり、膜厚に応じて最適な照射エネルギー密度を選択することにより、透明導電膜のクラックの発生を抑えながら、初期シート抵抗を低下させることができることが分かった。
【００６０】
比較例３及び４の結果から、８０℃の高温槽を用いた通常の加熱処理では、初期シート抵抗の低下は見られないことが分かった。また、１５０℃の高温槽を用いて加熱処理を行った比較例５の透明導電性シートでは、ある程度初期シート抵抗を低下させることはできたが、加熱処理の温度が高いためＰＥＴフィルムが収縮して、白濁してしまった。すなわち、比較例５の透明導電性シートでは、基板にダメージがあるうえ、透明導電性シートとはいえないほど透明性が著しく低くなっていた。
【産業上の利用可能性】
【００６１】
フラッシュランプアニール処理のような、透明導電膜のみを選択的に加熱処理する方法を用いれば、スパッタ膜に匹敵する低抵抗化が実現でき、低抵抗が必要なフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）や電子ペーパーなどの表示素子の透明電極、太陽電池の透明電極などの用途が考えられ、かつ、基板にダメージを与えることがないことから、フレキシブルな基板への応用も考えられ、広範囲の用途が期待できる。
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１】本発明の製造方法により得られる透明導電性シートの一例を示す概略断面図である。
【符号の説明】
【００６３】
１０ 透明導電性シート
１１ 透明基板
１２ 透明導電膜
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板と、前記透明基板の上に形成された透明導電膜とを含む透明導電性シートの製造方法であって、
前記透明基板の上に透明導電性粒子を含む塗布液を塗布して透明導電膜を形成する工程と、
前記透明導電膜のみを選択的に加熱処理する工程とを含むことを特徴とする透明導電性シートの製造方法。
【請求項２】
前記加熱処理が、ランプアニール処理、熱風表層アニール処理及びフラッシュランプアニール処理からなる群から選ばれる一種により行われる請求項１に記載の透明導電性シートの製造方法。
【請求項３】
前記透明導電性粒子が、導電性金属酸化物粒子であり、前記導電性金属酸化物粒子が、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛及び酸化カドミウムからなる群から選ばれる少なくとも一種の金属酸化物粒子である請求項１又は２に記載の透明導電性シートの製造方法。
【請求項４】
前記導電性金属酸化物粒子が、さらにスズ、アンチモン、アルミニウム及びガリウムからなる群から選ばれる少なくとも一種の元素でドープされている請求項３に記載の透明導電性シートの製造方法。
【請求項５】
前記透明導電性粒子が、スズ含有酸化インジウム粒子、アンチモン含有酸化スズ粒子、アルミニウム含有酸化亜鉛粒子、ガリウム含有酸化亜鉛粒子及びスズ含有酸化インジウムをアルミニウム置換したものからなる群から選ばれる少なくとも一種である請求項４に記載の透明導電性シートの製造方法。
【請求項６】
前記透明導電性シートの初期シート抵抗が、１０００Ω／スクエア以下である請求項１〜５のいずれか１項に記載の透明導電性シートの製造方法。
【請求項７】
前記透明導電性シートの３８０〜７８０ｎｍの波長領域における全光線透過率が、８０％以上である請求項１〜６のいずれか１項に記載の透明導電性シートの製造方法。
【請求項１】
透明基板と、前記透明基板の上に形成された透明導電膜とを含む透明導電性シートの製造方法であって、
前記透明基板の上に透明導電性粒子を含む塗布液を塗布して透明導電膜を形成する工程と、
前記透明導電膜のみを選択的に加熱処理する工程とを含むことを特徴とする透明導電性シートの製造方法。
【請求項２】
前記加熱処理が、ランプアニール処理、熱風表層アニール処理及びフラッシュランプアニール処理からなる群から選ばれる一種により行われる請求項１に記載の透明導電性シートの製造方法。
【請求項３】
前記透明導電性粒子が、導電性金属酸化物粒子であり、前記導電性金属酸化物粒子が、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛及び酸化カドミウムからなる群から選ばれる少なくとも一種の金属酸化物粒子である請求項１又は２に記載の透明導電性シートの製造方法。
【請求項４】
前記導電性金属酸化物粒子が、さらにスズ、アンチモン、アルミニウム及びガリウムからなる群から選ばれる少なくとも一種の元素でドープされている請求項３に記載の透明導電性シートの製造方法。
【請求項５】
前記透明導電性粒子が、スズ含有酸化インジウム粒子、アンチモン含有酸化スズ粒子、アルミニウム含有酸化亜鉛粒子、ガリウム含有酸化亜鉛粒子及びスズ含有酸化インジウムをアルミニウム置換したものからなる群から選ばれる少なくとも一種である請求項４に記載の透明導電性シートの製造方法。
【請求項６】
前記透明導電性シートの初期シート抵抗が、１０００Ω／スクエア以下である請求項１〜５のいずれか１項に記載の透明導電性シートの製造方法。
【請求項７】
前記透明導電性シートの３８０〜７８０ｎｍの波長領域における全光線透過率が、８０％以上である請求項１〜６のいずれか１項に記載の透明導電性シートの製造方法。
【図１】
【公開番号】特開２０１０−１４６７５７（Ｐ２０１０−１４６７５７Ａ）
【公開日】平成２２年７月１日（２０１０．７．１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−３１９９４５（Ｐ２００８−３１９９４５）
【出願日】平成２０年１２月１６日（２００８．１２．１６）
【出願人】（０００００５８１０）日立マクセル株式会社 (2,366)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年７月１日（２０１０．７．１）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年１２月１６日（２００８．１２．１６）
【出願人】（０００００５８１０）日立マクセル株式会社 (2,366)
【Ｆターム（参考）】
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