【課題】コレクター電極、これを備えた電子ビーム照射装置及び電子ビーム照射処理装置において、特別な機構を付加することなく安定した動作を有する装置を提供する。
【解決手段】電子ビーム照射装置において、導電体から成る筒状のコレクター電極及びコレクター電極に巻装された高周波誘導コイルを備え、コレクター電極は側面に開口部を有し、開口部が高周波誘導コイルの高圧側端部に対応して配置されるように構成した。 （もっと読む）

【課題】圧電振動子の周波数調整方法において、生産性が高く高精度な周波数調整の装置及び方法を提供する。
【解決手段】圧電振動子の周波数を調整する装置において、ｘ軸方向に配列される複数の圧電振動子に対して所定レートで成膜材料を付着させる成膜源、配列された複数の圧電振動子の成膜対象部分を遮蔽／露出するシャッタ、及びシャッタの開閉動作を制御する制御部を備え、制御部が、成膜前に測定された複数の圧電振動子の周波数分布から算出された複数の圧電振動子の質量分布Ｍ１(ｘ)から算出された各圧電振動子の必要露出時間ｔ(ｘ)に基づいてシャッタの開閉動作を制御するように構成した。 （もっと読む）

【課題】均一性及び再現性に優れた薄膜を形成することができるスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】スパッタリング装置は、真空槽からなるスパッタ室１と、スパッタ室１内で基板７を保持した状態で移動するトレー搬送機構と、基板７に薄膜を形成するためのターゲット８、９を固定するとともにプラズマを生成し、ターゲット８、９からスパッタ粒子を発生させるスパッタカソードと、基板７とターゲット８、９との間に配置された膜厚補正板１９と、を備えている。膜厚補正板１９は、その本体部１９ａがアノード電位であり、本体部１９ａを保持する枠部１９ｂを備えている。枠部１９ｂは、スパッタ粒子が発生した領域のトレー進行方向の略中央であって、スパッタ粒子が発生した領域を通過する基板７の近傍に本体部１９ａが配置されるように、本体部１９ａを保持する。 （もっと読む）

【課題】波長ムラが生じにくく低屈折率の薄膜、及び、薄膜の形成方法を提供する。
【解決手段】薄膜１１は、基板１２上に形成されている。薄膜１１は、蒸着材料からなる蒸着膜により形成されている。また、薄膜１１は、基板１２に形成された複数のナノ構造体１３の集合層から構成されている。ナノ構造体１３は、基板１２の略垂直方向に柱状に延びるように形成されている。また、ナノ構造体１３の集合層は、薄膜１１全体として、蒸着材料と空気とが一定割合で混合しており、この割合（薄膜の膜充填密度）により、薄膜１１全体の屈折率が決定される。 （もっと読む）

【課題】グリッド交換時の出力特性の再現性、温度変化に伴う形状安定性、及び保管性に優れるハーフパイプ型グリッドを備えるイオンガンを提供する。
【解決手段】イオンガンにおいて、内部にプラズマを発生させる本体、本体内部からプラズマを引き出すためのグリッド、及びグリッドを本体との間に挟みこむ枠状の加速電極を備え、本体のグリッドに対向する端面が谷折状の湾曲面を有し、グリッドが平板グリッドからなり、本体とグリッドとの接面において湾曲面に一致する曲面をなすように装着される構成とした。 （もっと読む）

【課題】ターゲット部材の片減りを防止しつつ、簡易な構造で、基板に平行で基板中心に向く磁界を基板上に形成し、膜厚分布を向上させることのできるマグネトロンカソードを提供する。
【解決手段】基板に対向して配される環状のターゲット６と、ターゲット背面にターゲットに対して移動可能且つ回転可能に配置され、不均一な磁界を発生させるマグネット組立１５によって構成されるマグネトロンカソードにおいて、ターゲットの中心開口部周縁に中央シールド部が設けられ、中央シールド部は複数の磁性体部品による積層構造を有する中央カバー１０が設けられるとともに、ターゲット外周側保持リング１１は、複数の磁性体部品からなる積層構造を有し、これら磁性体部品の少なくとも一つが、マグネット組立によって生じる磁界に対応して基板上に磁気異方性を構築する。 （もっと読む）

【課題】カソードを独立して開閉するＲＦスパッタ装置において、ＲＦ経路の接続部のシールド及び接触を確保する。
【解決手段】ＲＦスパッタ装置において、スパッタ室、第１のシールドに覆われたＲＦ出力端を有しスパッタ室に固定されたＲＦ電力伝達手段、第２のシールドに覆われＲＦ出力端に着脱可能なＲＦ入力端を有しスパッタ室に着脱可能に取り付けられるカソード、第１のシールドの第２のシールドに対向する端面又は第２のシールドの第１のシールドに対向する端面に取り付けられた導電性弾性部材、及び導電性弾性部材を挟む方向の力を、第１のシールド若しくは第１のシールド及びＲＦ出力端又は第２のシールド若しくは第２のシールド及びＲＦ入力端に加える加圧手段を備える構成とした。 （もっと読む）

【課題】搬送装置において、ガイドレールに対してキャリアを適切な位置に保持して搬送するためのチャック機構を提供する。
【解決手段】キャリアの端面と磁気結合して駆動機構によって所定の方向（ｘ軸方向）に移送されるチャック機構であって、駆動機構に固定されるアームベース、アームベースの支点に対して回転可能に保持され、上記端面に対向配置されるマグネット部、及び支点に対するマグネット部の回転を弾性力によって規制する弾性部材を備えたチャック機構である。 （もっと読む）

【課題】良好に任意の形状に加工することが可能なエッチング装置、エッチング方法及びプログラムを提供する。
【解決手段】エッチング装置８０は、イオンガン１１と、ＸＹステージ１２と、制御部１３と、ＰＣ１５と、測定装置８１とを備える。測定装置８１は、基板３１上の所定の測定点の厚みを測定する。予めイオンガン１１のエッチングレートの分布と、基板３１の被エッチング量の分布とに基づいて、エッチング中心の位置に応じて測定点における基板３１の厚みの中間目標厚みが設定される。各領域でエッチングを施した際、測定点の厚みが当該中間目標厚みからの許容範囲に入る場合、ＸＹステージ１２を駆動し、エッチングを終了させる。 （もっと読む）

【課題】複数のイオンビーム引出し孔が整列されたイオンガンにおいて、イオンビーム電流密度を均一にする。
【解決手段】カソード（１０）及びアノード（２０）からなるプラズマ生成手段、並びにプラズマ生成手段によって生成されたプラズマからイオンビームを引き出すグリッド（３０）を備えたイオンガンにおいて、カソードが、一対のフィラメント電極（１３）間に架設されたフィラメント（１２）からなり、グリッドが、フィラメントに平行に配列された複数のイオンビーム引出し孔（３１）を有し、フィラメントの両端部（１２ａ）を含む単位空間当たりの発熱量がフィラメントの中央部（１２ｂ）を含む単位空間当たりの発熱量のよりも大きくなるようにした。 （もっと読む）