【課題】ナノサイズの酸化物微粒子からなる膜あるいは層を高精度に形成することができる微粒子膜の形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る微粒子膜の形成方法は、筒状のアノード電極２１と、アノード電極２１内に配置された蒸着材料２２Ａを有するカソード電極２２と、カソード電極２２から離間してアノード電極２１内に配置されたトリガ電極２３とを備えた同軸型真空アーク蒸着源１３を用い、真空槽１０内に、反応性ガス（酸素）を導入した雰囲気下で、蒸着材料２２Ａの微粒子を被着体１５の表面へ蒸着させる。真空アーク蒸着源１３で形成されたナノサイズの微粒子は、酸素と反応して酸化物を形成する。これを被着体１５へ蒸着させることにより、ナノサイズの酸化物微粒子膜を高精度に形成することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】非エロージョン部の発生を防止する。
【解決手段】本発明の成膜方法は、磁界形成手段２０を横方向ｄａに往復移動しながら、縦方向ｄｂに往復移動し、ターゲット１５をスパッタリングしている。横方向ｄａの往復移動の速度は、基板７の移動速度の１／１０以下、かつ、１５０ｍｍ／分以上にされ、縦方向ｄｂの往復移動の速度は、基板７がターゲット１５の表面と対向しながら１００ｍｍ移動する間に、０．３往復以上する大きさにされており、このような移動速度では、非エロージョン部の発生が少なく、基板７に形成される薄膜の面内分布も向上する。 （もっと読む）

【課題】ＧＳＴに電流を流すための電極を露光限界以下に微細化する技術の提供。
【解決手段】相変化層と、この相変化層に一端が接触する電極と、この電極の他端に接続するコンタクトプラグと、このコンタクトプラグにソースまたはドレインが電気的に接続された電界効果型トランジスタとを備えた相変化メモリ装置であって、前記電極がジルコニウムボロンナイトライドにより形成されている。 （もっと読む）

【課題】粉粒物の攪拌において攪拌されない粒子が発生しないようにする。
【解決手段】真空槽２と、蒸着源５を有する蒸着装置１内に配置され、
粉粒物７を収納する容器７３と、粉粒物７の粒子を攪拌するスクレイパ７５と、容器７３に対しスクレイパ７５を相対的に駆動させる駆動機構７２とから成る粒子の攪拌装置３であって、
容器７３の少なくとも内壁に粉粒物７と同種の材質をコーティングし、
スクレイパ７５の少なくとも容器７３の内壁と接する部分に蒸着源５で蒸発される蒸着材料１１と同種の材質または粉粒物７と同種の材質をコーティングした粒子の攪拌装置３。容器７３のコーティングおよびスクレイパ７５のコーティングが削られて発生する屑は、粉粒物７または蒸着材料１１と同種の材質であるから不純物とはならない。 （もっと読む）

【課題】工程を複雑化することなくバリア層の内部応力に起因する弊害を防止して、接合部の信頼性を高めることができるはんだバンプの形成方法を提供する。
【解決手段】基板２１上の導体層２２にレジストパターン２３を形成する工程と、レジストパターンをマスクとして基板上にバリア層２４を形成する工程と、レジストパターンをマスクとして基板上にはんだ層２６を形成する工程と、レジストパターンを基板の上から除去する工程とを備えたはんだバンプの形成方法であって、バリア層２４の形成を、不活性ガス雰囲気中における真空蒸着法によって行う。これにより、基板上に形成されるバリア層の密度は低下するため、不活性ガスを導入せずにバリア層を形成する場合に比べてバリア層の内部応力を低減させ、工程数を増加させることなく内部応力に起因するバリア層の剥離やレジストパターンの収縮作用を抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】遮光マスクの着脱に要する時間を短縮することができる光照射装置を提供する。
【解決手段】ワークステージ本体４０に設けられた押圧部としての可動シール４４によって、遮光マスク２０における吸着溝２１よりも縁側の周縁部２０ａがマスク保持部材１２に押し付けられる。 （もっと読む）

【課題】成膜レートの安定化、面内均一性の向上およびターゲットの長寿命化を図る。
【解決手段】プラズマ形成空間２１ａを形成する真空槽２１と、この真空槽の上部を閉塞する天板２９と、プラズマ形成空間にプラズマを発生させる高周波コイル２３と、磁気コイル群２４と、プラズマ形成空間に設置された基板支持用のステージ２６と、プラズマ形成空間へプロセスガスを導入するガス導入部３３と、天板に固定されたスパッタリング用のターゲット４０とを備え、エッチング処理とスパッタ処理を交互に行って基板の表面に高アスペクト比の孔又は溝を形成するプラズマ処理装置２０であって、ターゲット４０の外周部をプラズマ形成空間に向かって突出形成することによって、ターゲットの外周部の集中的な摩耗による成膜レートのバラツキ、面内均一性の低下およびターゲットの寿命の低下を抑制する。 （もっと読む）

【課題】結晶性の高い膜を成膜することができる成膜装置および成膜方法を提供する。
【解決手段】ターゲット２２の第１面側に配置された磁気回路３０を備え、ターゲット２２の第２面側に成膜対象物５を配置して、マグネトロンスパッタ法により成膜を行う成膜装置１０において、磁気回路３０は、中心磁石３１と、中心磁石３２の外周を囲むように配置された外周磁石３２とを備え、磁気回路３０は、成膜対象物５の表面における垂直磁場の絶対値が磁気回路３０の幅内で１０ガウス以上となる磁場を発生させる。 （もっと読む）

【課題】 反応性スパッタリングにより酸化物膜を形成する際に、次工程においてＣＶＤ法による薄膜形成が行われるような場合でも、基板との界面付近の酸素濃度の低下を防止して基板と酸化物膜との密着強度の低下を招くことのない薄膜形成方法を提供する。
【解決手段】 真空雰囲気中のスパッタ室１１ａ内にスパッタガス及び反応ガスを導入しつつ、スパッタ室内で処理すべき基板Ｓに対向させて配置したターゲット４１ａ乃至４１ｈに電力投入し、プラズマ雰囲気中のイオンでターゲットをスパッタリングし、反応性スパッタリングにより基板表面に所定の薄膜を形成する場合に、薄膜が所定の膜厚に達するまでの間で反応ガス成分の含有濃度が高い領域を形成する。 （もっと読む）

【課題】 熱間で塑性加工を施すことによって結晶粒を特定の方向に配向させた従来の異方性リング磁石では、モータ等の用途に使用するには保磁力が足りない。
【解決手段】 熱間塑性加工を施して磁気的に異方性を付与した鉄−ホウ素−希土類系の磁石Ｓを処理室２０に配置して加熱すると共に、同一または他の処理室に配置したＤｙ、Ｔｂの少なくとも一方を含有する蒸発材料Ｖを加熱して蒸発させ、この蒸発したＤｙ、Ｔｂの金属原子を、磁石表面への供給量を調節して付着させ、この付着した金属原子を、磁石表面に蒸発材料からなる薄膜が形成される前に磁石の結晶粒界相に拡散させる。 （もっと読む）