【課題】
安価かつ簡素な装置構成にて、イオン源より発生するパーティクルの基板への混入が防止できるイオン注入装置を提供する。
【解決手段】
本発明のイオン注入装置ＩＭは、イオンビーム引出し口１４を介して重力方向Ｇと交差する方向にイオンビーム２を引き出すイオン源１と、基板４が搭載される搬送トレイ７と、少なくとも１つの開口部６を有し、搬送トレイ７に取り付けられたマスク５と、搬送トレイ７をイオンビーム２と交差する方向に移動させることで、マスク５に形成された開口部６を通して基板の所定領域にイオンビーム２を照射させる駆動機構とを備えている。そして、重力方向Ｇに沿ってイオンビーム引出し口１４を見たときに、イオンビーム引出し口１４の下面を覆うとともに、基板４へのイオンビーム２の照射を妨げない防塵板１１を備えている。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子ビーム発生装置運転時の電極支持枠の熱膨張を抑え、開口部の形状が変形し難いスリット電極を提供する。
【解決手段】スリット電極は、開口部３を有する電極枠体２と、電極枠体２に着脱可能に取り付けられた複数の電極ユニットＵから構成されており、前記複数の電極ユニットＵの各々は、開口部３内に並設された複数本の電極棒５と、開口部３を挟んで各電極棒５の長手方向の端部を支持する一組の電極棒支持部材６とから構成される。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子ビーム発生装置の運転時に、開口部の形状が熱変形し難いスリット電極を提供する。
【解決手段】スリット電極２０は、開口部２２を有する電極枠体２１と、長手方向において電極枠体２１に対して移動可能に支持されているとともに、長手方向と略直交する方向に沿って開口部２２に並設された複数本の電極棒２３とを備え、電極枠体２１には、少なくとも開口部２２の外周領域の一部に電極枠体２１に冷媒を流入する為の冷媒流入口Ｒ_ＩＮと電極枠体２１から冷媒を流出する為の冷媒流出口Ｒ_ОＵＴとを備えた冷媒流路Ｒが設けられている。 （もっと読む）

【課題】防着板への電子の衝突を低減し、プラズマの生成効率を向上させる。
【解決手段】イオン源１は、プラズマ生成容器４と、プラズマ生成容器４内に配置された少なくとも１つのフィラメント１０と、プラズマ生成容器４に対向配置され、当該プラズマ生成容器４よりイオンビーム３を引き出す少なくとも１つの電極５〜８と、プラズマ生成容器４の外側に設けられていて、当該プラズマ生成容器４の内側領域にカスプ磁場を形成する複数の永久磁石１２と、プラズマ生成容器４の内壁に沿って配置された防着板１３とを備える。そして、防着板１３には、プラズマ生成容器の壁面を介して永久磁石１２と対向する位置に凹部１４が形成されている。 （もっと読む）

【課題】２台のイオンビーム供給装置により基板の上半分と下半分にイオン照射するインライン式のイオン照射装置において、１台のイオンビーム供給装置が停止又は処理途中で異常終了した場合であっても、基板全面に所望のドーズ量が注入できるようにする。
【解決手段】イオンビーム照射処理を１往復行った後、基板回転機構７０を制御し、基板２を１８０度回転させた後、イオンビーム照射装置１００に再投入し、イオンビーム照射処理未完了の範囲をイオンビーム照射し、基板の全面にイオンビーム照射させることを特徴としたイオンビーム照射方法。 （もっと読む）

【課題】
基板の面内に形成される不均一なドーズ量分布の形状によらず、不所望なドーズ量分布である遷移領域を小さくするとともに、イオン注入処理に要する時間を短縮させることのできるイオン注入方法を提供する。
【解決手段】
このイオン注入方法は、イオンビーム３と基板１１との相対的な位置関係を変更させることによって、基板１１へのイオン注入を実施するイオン注入方法である。そして、基板１１上に均一なドーズ量分布を形成する第一のイオン注入処理と基板１１上に不均一なドーズ量分布を形成する第二のイオン注入処理とを予め決められた順番に従って行うとともに、第二のイオン注入処理時に基板１１上に照射されるイオンビーム３の断面寸法が、第一のイオン注入処理時に基板１１上に照射されるイオンビーム３の断面寸法よりも小さい。
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【課題】従来のイオン源に比べて電極枚数が少ないにも関わらず、従来のイオン源と同等の機能を有する新規なイオン源を提供する。
【解決手段】イオン源１は、下流側（Ｚ方向側）からの電子の流入を抑制する抑制電極を備えていないイオン源１である。そして、イオンビーム３の引出し方向（Ｚ方向）に沿って配置された複数枚の電極（５、６、７）と、それら電極（５、６、７）の下流側（Ｚ方向側）に配置され、イオン源１より引出されたイオンビーム３を横切る磁界を発生させる少なくとも一対の磁極１４を有する磁界発生手段１１とを備えている。 （もっと読む）

【課題】電子源から射出された電子が射出された電子源に入射するのを抑制するイオンビーム照射装置を提供する。
【解決手段】イオンビームを偏向、集束又は発散させる磁石６の上流側及び／又は下流側に形成される磁場勾配領域Ｋ内に１又は複数の電子源１１と、その近傍であって前記電子源の電子射出方向が遮られない位置に負電圧が印加された収束電極（集束電極）１３を設ける。これにより、電子源から射出された電子は、磁場勾配領域内（ＸＺ平面内）を移動しミラー効果により反射されて該磁場勾配領域内に閉じ込められるとともに、収束電極により集束され、更に、Ｅ×ＢドリフトによりＸＹ平面にもジグザグ状に運動するので、電子を効率的に利用することができる。更に又、対向する電子源に進行する電子がＥ×Ｂドリフトにより進行方向がそれることになるので、対向する電子源に電子が入射したり、反射されて射出元の電子源に入射したりするのが抑制される。 （もっと読む）

【課題】極低温でウエハを冷却する場合であっても、ホルダ駆動機構の動きに支障を来たすことなく、所望するイオン注入を達成することのできるイオン注入装置を提供する。
【解決手段】イオン注入装置は、ウエハ２を保持するホルダ３と、少なくともツイスト角調整機構とティルト角調整機構を有するホルダ駆動機構とを備えている。さらに、ツイスト角調整機構の駆動源を成し、回転子がホルダに取り付けられたツイストモータと、ツイストモータの固定子が取り付けられた筐体２０と、ホルダ３と対向する筐体２０の場所に配置された冷却フランジ５と、冷媒が蓄積された冷媒タンク８と、一端が冷却フランジ５に接続され、他端が冷媒タンク８に接続された冷媒供給用のチューブ７とを有している。そして、このチューブ７はホルダ駆動機構の外側領域に配置されている。 （もっと読む）

【課題】高周波放電型のプラズマ発生装置において、ＰＦＧ電流の減少が少なく、長寿命化を図る。
【解決手段】
プラズマ生成容器内で高周波放電によってガスを電離させてプラズマを生成して、電子放出孔を通して当該プラズマより電子を外部に放出する装置であって、高周波を放射するアンテナと、アンテナ全体を覆う絶縁物から成るアンテナカバーとを備えており、プラズマ生成容器内は絶縁物で覆われており、電子放出孔のあるプラズマ電極材質は導電性材料であるプラズマ発生装置において、絶縁物で保持された導電性材料のイオンコレクターとその前面に導電性材料のシールド電極を備え、シールド電極とプラズマ電極は同電位に接続されており、ターゲットチャンバーを正側としプラズマ電極を負側に接続した引出電源を持っており、プラズマ電極を正側としイオンコレクターを負側に接続したイオンコレクター電源を持っていることを特徴とするプラズマ発生装置。 （もっと読む）