【課題】半導体集積回路素子に対して十分な電源供給を行なって半導体集積回路素子を良好に作動させることが可能な配線基板を提供すること。
【解決手段】接地用のスルーホール導体５Ｇおよびこれに接続される接地用の外部接続パッド８Ｇと電源用のスルーホール導体５Ｐおよびこれに接続された電源用の外部接続パット８Ｐとが互いに隣接して配置されており、接地用のスルーホール導体５Ｇと接地用の外部接続パッド８Ｇとをそれぞれ２箇所ずつで接続する接地用のビア接続経路６Ｇｂおよび電源用のスルーホール導体５Ｐとの電源用の外部接続パッド８Ｐとをそれぞれ２箇所ずつで接続する電源用のビア接続経路６Ｐｂと、を有する配線基板であって、接地用のビア接続経路６Ｇｂと電源用のビア接続経路６Ｐｂとは、互いに向き合う方向に片寄って配置されている。 （もっと読む）

【課題】
配線導体の幅が３０μｍ、配線導体同士の間隔が４０μｍ程度の薄型高密度配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】
絶縁層１の両面に銅箔６が張着された銅箔６付き絶縁層１を準備し、次に銅箔６付き絶縁層１に貫通孔３を形成し、次に貫通孔３内を充填する貫通導体５および貫通導体５に接続するランド７を形成するためのめっき金属層４を貫通孔３内およびその周辺に貫通孔３を完全に充填する厚みに選択的に被着させ、次にめっき金属層４から露出する銅箔６を所定パターンに選択的にエッチングして貫通孔３内にめっき金属層４から成る貫通導体５と、絶縁層１の両面に銅箔６およびめっき金属層４から成るランド７と、銅箔６から成る配線導体８とを残す。 （もっと読む）

【課題】信号線を伝送する高周波信号を低損失で伝送することが可能な配線基板を提供すること。
【解決手段】帯状の信号線１と、信号線１の上下に絶縁層２を挟んで配置された接地または電源導体層３と、信号線１の両側に信号線１に沿って並んでおり、上下の接地または電源導体層３同士を接続する貫通導体４の列とを具備して成る配線基板であって、上下の接地または電源導体層３の信号線１と対向する領域と貫通導体４の列との間に信号線１に沿って延びるスリット６が形成されている。信号線１を伝送される信号に対応して形成されるリターンパスの電磁的な結合が接地または電源導体層３におけるスリット６に挟まれた領域に大きく集中し、それにより信号線１を伝送する高周波信号を低損失で伝送することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】高密度配列された電極端子を有する半導体素子を搭載する場合であっても、隣接する半導体素子接続パッド間にショートや電気的な絶縁不良を発生させることなく、正常に搭載することが可能な配線基板を提供すること。
【解決手段】複数の電極端子Ｔが下面の外周に沿って並ぶように配列された半導体素子Ｓを搭載するために、上面に電極端子Ｔと半田７を介して接続される複数の半導体素子接続パッド８が電極端子Ｔの配列と対応する並びに配列されて成る配線基板１０であって、半導体素子接続パッド８は、互いに隣接するもの同士において、その幅が交互に反対方向に向けて広くなる形状であるとともに、その幅の広い部分に半田７の溜まりが形成されている。 （もっと読む）

【課題】半導体素子の搭載や、半導体素子とこれに接続される光ファイバやコネクタ等との間での光や電気信号の授受を常に正確に行なうことが可能な配線基板およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】絶縁基板１の上面に形成された外部との接続に用いられる接続パッド２と、絶縁基板１の上面に被着され接続パッド２を露出する開口部４を有するソルダーレジスト層３とを具備する配線基板１０であって、ソルダーレジスト層３は、絶縁基板１の外周側面の少なくとも一部を被覆しているとともに、外周側面を被覆する部位の表面が開口部４と同時にフォトリソグラフィ技術により形成された平坦面である。 （もっと読む）

【課題】信号の反射損や挿入損が小さいと共に共振が少なく信号を正常に伝播できる配線基板を提供する。
【解決手段】絶縁板１３の上下に絶縁層１１，１２，１４，１５が積層された絶縁基板１０と、上面の絶縁層１１，１２上の帯状配線導体のペア８０ａ，８０ｂと、これらと接続するビアホール導体のペア４１，４２，４４，４５とスルーホール導体のペア４３ａ，４３ｂと、スルーホール導体のペア４３ａ，４３ｂ又はビアホール導体のペア４１，４２，４４，４５を囲繞する開口部９１ａ，９２ａ，９３ａ，９４ａ、９５ａ，９６ａとを有する接地又は電源用導体層９１，９２，９３，９４，９５，９６とを備える配線基板でスルーホール導体のペア４３ａ，４３ｂのピッチが外部接続パッドのペア６０ａ，６０ｂのピッチより狭いとともに、帯状配線導体のペア８０ａ，８０ｂが開口部９２ａの手前の位置から互いの間隔が広がっている。 （もっと読む）

【課題】認識マークを画像認識装置で正確に認識して半導体素子の電極と半導体素子接続パッドとを半田を介して正確に接続することが可能な配線基板およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】半導体素子Ｓが搭載される絶縁基板１の上面に、半導体素子Ｓの電極Ｔが半田７を介して接続される半導体素子接続パッド３と、半導体素子Ｓを搭載するための位置決めの基準となる認識マーク５とを備え、半導体素子接続パッド３および認識マーク５の表面に半田７，８が溶着されて成る配線基板であって、半導体素子接続パッド３および認識マーク５は、各々同じ大きさの円形パターンにより形成されているとともに同じ大きさの半田７，８が溶着されて成り、且つ半導体素子接続パッド３および認識マーク５に溶着された半田７，８の頂面がプレスにより平坦化されている。 （もっと読む）

【課題】ペア伝送路を伝播する信号が例えば３５ＧＨｚを超えるような高周波であったとしても、信号の反射損や挿入損が小さいとともに共振が発生しにくく、信号を正常に伝播させることが可能な配線基板を提供すること。
【解決手段】帯状配線導体のペア８０ａ，８０ｂと外部接続パッドのペア６０ａ，６０ｂとが、ビア導体のペアおよびスルーホール導体のペア４１ａ，４１ｂ〜４５ａ，４５ｂを介して接続されているとともにビアホール導体またはスルーホール導体のペア４１ａ，４１ｂ〜４５ａ，４５ｂを取り囲む長円形の開口部９１ａ〜９６ａを有する接地または電源導体層９１〜９６とを具備して成る配線基板であって、スルーホール導体のペア４３ａ，４３ｂのピッチが外部接続パッドのペア６０ａ，６０ｂのピッチより狭く開口部９１ａ〜９６ａが絶縁板１３の下面より上面側で小さい。 （もっと読む）

【課題】接地または電源導体層に膨れや剥がれが発生することがないとともに、差動信号配線を伝播する信号の反射損や挿入損が小さく、信号を正常に伝播させることが可能な配線基板を提供すること。
【解決手段】開口部９０ａは、複数の差動信号配線８０が開口部９０ａの大きさよりも広い間隔で互いに隣接する第１の領域Ａ１においては差動信号配線８０同士の間に対向する位置に開口部９０ａ同士の間隔が０．３〜０．６ｍｍである第１の間隔で配置されているとともに複数の差動信号配線８０が開口部９０ａの幅よりも狭い間隔で互いに隣接する第２の領域Ａ２においては差動信号配線８０に沿った方向における開口部９０ａ同士の間隔が前記第１の間隔よりも広い第２の間隔で配置されている。 （もっと読む）

【課題】微細な半導体素子接続パッドを含む配線導体を形成することが可能であるとともに、外部接続パッドに剥がれが発生することのない配線基板を提供すること。
【解決手段】絶縁基板１の一方の主面に、半導体素子Ｓの電極Ｔに接続される半導体素子接続パッド３ａを含む第１の配線導体３が第１の金属箔８を下地としたセミアディティブ法により形成されているとともに、絶縁基板１の他方の主面に外部電気回路基板に接続される外部接続パッド４ａを含む第２の配線導体４が第２の金属箔１０を下地としたセミアディティブ法により形成されて成る配線基板であって、第１の金属箔８は、絶縁基板１上にプライマー樹脂層２を介して接着されているとともにプライマー樹脂２との接着面のＲｚが０．３〜１．０μｍの平滑面であり、第２の金属箔１０は、絶縁基板１上に直接接着されているとともに絶縁基板１との接着面のＲｚが１．５〜３．０μｍの粗化面である （もっと読む）