【課題】リークとエアポケットが発生しないキャピラリヘッドを有するキャピラリアレイを提供する。
【解決手段】複数のキャピラリを互いに固定する樹脂材２７が、キャピラリヘッド１７の外周面を形成する。また、複数のキャピラリの一端を束ねるキャピラリヘッド１７が、実質的に単一の樹脂材２７である。これにより、リークやエアポケットの発生を防ぐことができ、分析精度の向上や、生産コストの低減を実現できる。 （もっと読む）

【課題】
表面に液体金属を塗布したイオンビーム光学系用絞りにおいて、絞りベースのスパッタ，再付着によるイオン源の不安定化を防止する。
【解決手段】
液体金属イオン源を使用する集束イオンビーム装置において、イオンビーム径を制限する絞りが、前記イオンビームが通過する絞り孔を表面最下点に持つ凹部を備えた容器に、前記液体金属イオン源に用いられる液体金属を載せたものである集束イオンビーム装置。絞りベース材料が露出する絞り孔内面の面積をイオンビームが通過する下流側にテーパ面を設けることにより最小化しても良い。 （もっと読む）

【課題】 シール性能が安定して信頼性の高いプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】 その内側が減圧される真空容器５０９と、この真空容器の壁に配置されその内外を連通し処理対象の試料がやりとりされる開口１２０１と、前記壁の外側に配置され前記開口１２０１を気密に閉塞および開放する弁体１００１と、この弁体上の前記開口の周囲の前記壁と接する側に配置されこの弁体が開口１２０１を閉塞した状態で前記壁及び弁体１００１と接触して前記開口の内側を封止するシール部材１００２と、このシール部材を構成する前記壁と接触する凸状の曲面を有した第１の凸部及びこの凸部から延在し弁体１００１と係合してその内側に取り付けられる張り出し部と、弁体１００１の前記壁と接する側に取り付けられ前記張り出し部の少なくとも一部をこの弁体に押し付けて位置決めするカバー１００３とを備えた真空処理装置。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、吸音材もしくは制振材から発生する異物の飛散を抑制してクリーンルームで使用可能にするとともに、吸音材もしくは制振材で効率良く音波を減衰するのに好適な荷電粒子線装置を提供することである。
【解決手段】
上記目的を達成するため、荷電粒子線装置の鏡体，試料から発生する二次信号粒子を検出する検出手段，二次信号粒子検出手段の信号により試料像を取得する試料像取得手段，試料ホールダ，試料ステージを包囲する外装カバーと、外装カバーの内面に防塵繊維で包囲された吸音材もしくは制振材を取付ける取付け手段とを具備したものである。 （もっと読む）

【課題】
マルチビーム型露光装置において、マルチビームを平行に照射し、歪が少ない配列で、ビームアライメントを効率よく行なうことができる荷電粒子ビームを提供する。
【解決手段】
マルチビームと同じ間隔の開口を有する絞り板３３を設置し、マルチビームをまとめて絞り板上を走査し、検出された像が極小になるようにコリメータレンズ２１のレンズ値を設定する。また、検出像が所望の対称性をもつように、非点補正器２２を調整する。検出結果を表示機構において、像を視野中心に設定することにより、ビーム検出を可能とするビームアライメント条件を導出する。 （もっと読む）

【課題】検査対象の搬入、搬出が容易であり、内部の状況を容易に観察でき、小型、軽量で、大きい磁場遮蔽率をもつ高性能な磁場遮蔽装置及びこれを用いる生体磁場計測装置、生体磁場計測方法を提供する。
【解決手段】円周面に形成される開口部を具備する鍔状板材２４と、１層又は複層の円筒部材とを、鍔状板材の開口部及び円筒部材の各中心軸を一致させて結合された補助円筒体２３と、ｙ軸に対して第１、第２、第３の角度範囲をもつ円筒型遮蔽体１、２、３と、ｙ軸に平行な部位に切欠き部１０をもち、円筒型遮蔽体２、３が一体化された回転扉４と、鍔状板材２４が回転扉４の開口部２２を囲み結合された円筒型遮蔽体１を、両端の円弧部で支持する遮蔽体支持体６ａ、６ｂと、円筒型遮蔽体１の円周部に沿ってｙ軸の周方向で回転扉４を回転させて周方向の開口部９の開閉を行う回転部７ａ、７ｂと、補助円筒体の開口部とを具備する。 （もっと読む）

【課題】
マルチビーム方式の電子ビーム描画装置において、高精度な電子ビーム調整を行うことが出来る電子ビーム描画装置を提供する。
【解決手段】
電子源１１０から放出された電子ビーム１１１を、コンデンサレンズ１１２を通して平行ビームとなし、アパーチャ−アレイ１１３により複数のポイントビームに分離せしめ、個別にアライメント用偏向が可能なマルチアライナーアレイ１２９と、個別にオンオフ用偏向が可能なブランカーアレイ１１５とブランキング絞り１１９とを通して、前記複数のポイントビームを個々に試料１２４上に結像せしめる電子光学系を備えた電子ビーム描画装置において、前記マルチアライナーアレイ１２９によって前記ブランキング絞り１１９位置での電子ビームの位置を個々に調整するよう構成したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】プラズマ処理室へシャワー状にガスを供給するシャワープレートのガス供給孔内での放電を防止し、装置の安定稼動を実現する。
【解決手段】プラズマ処理室内に導入される電磁界のシャワープレート面内における電磁界分布に従い、所定の電界強度以下となる電界の弱い領域にシャワープレートのガス供給孔を配置する。 （もっと読む）

【課題】 マルチ電子ビーム描画装置などの電子ビーム応用装置において、レンズ収差の影響を軽減して高精度な電子ビーム調整を行うことができる技術を提供する。
【解決手段】 アパーチャアレイ１１３、レンズアレイ１１４、ブランカーアレイ１１５からマルチビームを生成する電子ビーム応用装置において、アパーチャアレイ１１３とレンズアレイ１１４間の対応する開口２０１，２０２の位置関係をずらして不均一とすることにより、後段のレンズにより生じる収差を補正することが可能となり、電子ビームの特性の均一性を確保することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】 シール性能が安定して信頼性の高いプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】 その内側が減圧される真空容器と、この真空容器の壁に配置されその内外を連通し処理対象の試料がやりとりされる開口と、前記壁の外側に配置され前記開口を気密に閉塞および開放する弁体７０１と、この弁体を駆動して前記閉塞或いは開放の動作をさせる駆動部を備えた真空処理装置であって、前記駆動部は、駆動機７０２に連結されこの駆動機の動作の結果略直線状の第１の方向に沿って移動する第１の部材７０５と、この第１の部材７０５と連結され前記第１の方向と交差する略直線状の第２の方向に沿って移動する第２の部材７０６と、この第２の部材に連結されこの第２の部材の移動の結果前記開口部を閉塞する弁体７０１とを備えた真空処理装置。 （もっと読む）