【課題】所謂バックシューター方式のインクジェット記録ヘッドにおいて、インクの昇温を抑え、吐出量を安定させる構造を提供する。
【解決手段】ノズルプレート１１１の中の金属層１１５の一部を凸形状とし、これを放熱フィン１２０としてインクチャンネル１３０に配置した構造を持つインクジェット記録ヘッドである。 （もっと読む）

【課題】外気圧の変動に影響されることなく、常に所望の圧力が発生できる静電アクチュエータ、液滴の吐出を適切に行うことのできる静電式液体噴射装置を提案することにある。
【解決手段】静電式のインクジェットヘッド１は、インクノズル２１に連通した圧力室６と、大気開放された大気圧室１２を備え、圧力室６の底面には振動板５が形成され、この振動板５と個別電極４３の間に電圧を印加することにより、振動板５が静電気力により振動して、インク液滴の吐出が行われる。密閉室としての振動室４１は圧力補償室４９に連通しており、圧力補償室４９の底面は外気圧の変動に応じて面外方向に変位可能な変位板１６が形成されている。変位板１６が変位することにより、圧力補償室４９の容積が増減し、これに連通している各振動室４１の内圧が外気圧に一致するように調整される。 （もっと読む）

【課題】外気圧の変動に影響されることなく、常に所望の圧力が発生できる静電アクチュエータ、液滴の吐出を適切に行うことのできる静電式液体噴射装置を提案することにある。
【解決手段】静電式のインクジェットヘッド１は、インクノズル２１に連通した圧力室６と、大気開放された大気圧室１２を備え、圧力室６の底面には振動板５が形成され、この振動板５と個別電極４３の間に電圧を印加することにより、振動板５が静電気力により振動して、インク液滴の吐出が行われる。密閉室としての振動室４１は圧力補償室４９に連通しており、圧力補償室４９の底面は外気圧の変動に応じて面外方向に変位可能な変位板１６が形成されている。変位板１６が変位することにより、圧力補償室４９の容積が増減し、これに連通している各振動室４１の内圧が外気圧に一致するように調整される。 （もっと読む）

【課題】流路ユニットの小型化や吐出液体により形成される画像の解像度の向上を実現しつつ、圧電層を適切に形状変化させることが可能となる液体吐出装置の提供。
【解決手段】液体流路３０の途中に設けられた圧力室３３と、圧力室３３の容積を変化させる圧電層２０と、圧電層２０に電圧を印加する給電電極４６とを備え、圧電層２０は、印加電圧により変形可能であって一方の面が圧力室に対向するように設けられ、他方の面と給電電極４６との間が液状導電材５０により電気的に接続されており、更に圧電層２０の他方の面は、その厚み方向視で圧力室３３が占める領域３３ａ内に液状導電材５０との電気的接点となる接点領域を有している。 （もっと読む）

流体吐出デバイスの加熱要素（112/412/612）の実施形態が開示される。 （もっと読む）

【課題】インクジェットヘッドの多くの構成要素を一つの基板に形成することにより、工程を単純化することができ、製作収率を向上できる。
【解決手段】本発明は、インクを収容するチャンバと、チャンバに繋がり、チャンバにインクを提供するリザーバと、チャンバ及びリザーバに繋がり、インクの流れを調節するリストリクタと、チャンバに繋がり、インクを吐出するノズルと、ノズルとチャンバを連結させる流路と、を有するインクジェットヘッドを製造する方法であって、基板の一部をエッチングしてチャンバ、リザーバ、リストリクタ、及び流路を形成する段階Ｓ１０と、チャンバをカバーする段階Ｓ２０と、流路をカバーするように、ノズルが形成されたノズル板を基板に結合する段階Ｓ３０と、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

流体吐出装置の加熱素子（１１２／４１２／６１２／８１２／８２２）の態様を開示する。
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【課題】改良されたダイモジュールアレイの位置決め方法を提供する。
【解決手段】個別のシリコンダイモジュール上に物理的な参照基準面を直接形成するステップと、アライメントツールを含む仮ホールダを提供するステップと、前記アライメントツールに対して前記物理的な参照基準面を突合わせることによって、前記仮ホールダ上にダイを配置するステップと、前記仮ホールダ上に配置された前記ダイを仮固定するステップと、前記仮ホールダ上に配置された前記ダイに、永久基板を接着するステップと、を含むことを特徴とするダイモジュールアレイの位置決め方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】構造的クロストークを低減する。
【解決手段】アクチュエータユニット２０は、３枚の圧電シート４１〜４３と、圧電シート４１の上面に形成され圧力室１０と対向する複数の個別電極３５と、２枚の圧電シート４１，４２間に形成された共通電極３４と、個別電極３５の圧力室１０の外側領域と対向する部分に形成されたランド３６とを含んでいる。圧電シート４１の上面には、複数の空孔３２を有し且つ誘電率が圧電シート４１よりも小さい複数の電界遮断層３３が形成されている。電界遮断層３３は、圧電シート４１とランド３６とで挟まれる位置に配置されている。 （もっと読む）

【課題】デバイス用基板に異物が残留することを防止する。
【解決手段】本発明のデバイス用基板は、基板１０の第１面１０ａ上に導電膜パターン２０が設けられたデバイス用基板１であって、基板１０には、第１面１０ａとその裏面となる第２面１０ｂとに開口部を有する貫通孔３０が形成されており、第２面１０ｂ側の開口部の周縁部には、貫通孔３０の内壁３０ａが除去されてなる切欠部３５が形成されている。 （もっと読む）

複数の流体供給スロット（１３２）を含む流体吐出装置（１３０）のための流体マニホルド（１２０）が、第１の層（１４０）及び該第１の層に隣接する第２の層（１５０）と、第１の層及び第２の層を貫通してそれぞれが設けられている第１の流体送達路（１６０）及び第２の流体送達路（１７０）とを含む。流体吐出装置は、第２の層に支持されており、第１の流体送達路は流体供給スロットの１つと連通しており、第２の流体送達路は流体供給スロットの隣接する別の１つと連通している。第１の流体送達路及び第２の流体送達路の第１の層を通るピッチ（Ｄ３）は、流体供給スロットのピッチ（Ｄ１）より大きく、第１の流体送達路及び第２の流体送達路それぞれが、流体供給スロットに実質的に平行に配向された第１のチャネル（１６２／１７２）と、流体供給スロットに実質的に垂直に配向された第２のチャネル（１６６／１７６）とを含む。
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【課題】キャビティユニットと接しているアクチュエータユニットのセラミックス層に、クラックが存在している場合でも、液体による個別電極と共通電極との電気的な短絡を避けることができる液体吐出装置を提供する。
【解決手段】液体吐出装置１は、液体を吐出する複数のノズル１３とそのノズルに連通する圧力室１４とを有するキャビティユニット２と、圧力室１４に吐出圧を発生させるアクチュエータユニット３とを備える。アクチュエータユニット３は、積層した複数のセラミックス層２４間に、各圧力室に対向する個別電極２６と、全圧力室に共通する共通電極２５とを有する。アクチュエータユニット３におけるキャビティユニット２との接触面２７から同接触面２７に最も近い位置にある個別電極２６までの間で且つ接触面２７を除く位置に、液体を通さないバリア層２４ｂを積層する。 （もっと読む）

【課題】より信頼性が高く、効率的な製作工程を提供すること。
【解決手段】圧力チャンバ（１６）と、圧力チャンバを画定する可撓性薄膜（１８）と、薄膜に取り付けられる圧電アクチュエータ（２０）と、アクチュエータ（２０）を保持する薄膜（１８）の面に接着された剛性基板（２２）とを有する圧電インクジェットデバイスの製作方法であって、
少なくとも１つの面に電極（３２）を有する圧電アクチュエータ（２０）を用意するステップと、
その電極面でアクチュエータ（２０）をキャリアプレート（８０）に接着するステップと、
アクチュエータ（２０）を保持するキャリアプレート（８０）の面に剛性基板（２２）を接合するステップと、
アクチュエータ（２０）とは反対側の面でキャリアプレート（８０）から材料（８２）を除去し、次に薄膜（１８）を形成するキャリアプレートの薄層のみを残すステップとを含むことを特徴とする、方法。 （もっと読む）

【課題】より信頼性のある効率的な製造方法を提供する。
【解決手段】膜（18）上に、圧電アクチュエータの配列を形成する方法であって、連続する上部分により一体接続され、前記アクチュエータ（20）の圧電層（36）を形成することになる島部の配列を有する、圧電櫛状構造を調製するステップであって、前記島部は、底部側に電極（32）を有する、ステップと、その底部電極を有する前記櫛状構造を、前記膜（18）の表面に取り付けるステップと、前記櫛状構造の前記連続する上部分を除去するステップであって、これにより前記アクチュエータが相互に分離される、ステップと、前記アクチュエータの前記圧電層（36）の上部表面に、上部電極（34）を形成するステップと、を有ることを特徴とする方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】圧電素子の破壊を防止して、安定した変位特性を確保することが可能な液滴吐出ヘッド、及び液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】液体を吐出するノズルに連通し、かつ側壁１２Ａに囲まれてなるキャビティ１２ａを有するインク室基板１２と、キャビティ１２ａ及び側壁１２Ａに当接して形成された弾性膜１３と、弾性膜１３上に設けられた下部電極４、圧電体膜５、上部電極６からなる圧電素子１４と、を具備し、圧電体膜５の側端面が弾性膜１３に対して傾斜する傾斜面となっており、且つ圧電体膜５の上に形成される上部電極６が圧電体膜５の側端面の一部を覆って設けられている。 （もっと読む）

【課題】加工するときにシリコン基材を破損させることがなく、加工処理後にはノズル孔
内部に異物が侵入することがない、高歩留まりのノズル基板の製造方法等を提供する。
【解決手段】２段形状で連通されたノズル孔１１をエッチング加工によってシリコン基材
１００に形成する工程と、大径孔側の面１００ａとノズル孔１１の内壁に窒化シリコンよ
りなる無機酸化物保護膜５１を形成し、ＳＯＧよりなる無機酸化物５０を無機酸化物保護
膜５１を介してノズル孔１１に充填する工程と、大径側の面１００ａと支持基板１２０と
を貼り合わせる工程と、小径孔側の面１００ｂを薄板化して小径孔１１ａの先端部を開口
する工程と、小径孔側の面１００ｂを撥インク処理する工程と、支持基板１２０を剥離す
る工程と、無機酸化物５０と無機酸化物保護膜５１を溶解して除去する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】 インクジェット記録ヘッドにおいてＳｉ基板の膜応力による反りを緩和して反りによる不良を削減すると伴に異方性エッチング時の歩留まりを向上させる。
【解決手段】 １、メンブレン層が単層の場合は、何れかの犠牲層間で分離して膜応力を緩和する。
２、メンブレン層が多層構成の場合は、多層構成膜を同じ犠牲層間で分離して膜応力を緩和し、膜厚が厚くなることで異方性エッチンッグの歩留まりも向上させた、またはそれぞれ異なった犠牲層間で分離することで膜応力を緩和した時は、犠牲層間にもメンブレン層があることでより異方性エッチング時の歩留まりをさせる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、加工対象物の厚さ方向における集光部の位置によらず適切な改質領域を形成することが可能であって、加工対象物の厚さ方向の全面にわたって略均一な切断面が得られるレーザ加工方法、レーザ加工装置、基材の分割方法、電気光学装置の製造方法、半導体装置の製造方法、及び液滴吐出ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明によるレーザ加工方法は、加工対象物の内部にレーザ光を集光させて改質領域形成し、形成された改質領域を利用して、加工対象物を分割するレーザ加工方法であって、加工対象物へのレーザ光の入射面から集光部までの距離に応じて、集光部におけるレーザ光の集光状態を、予め規定されており、少なくとも当該集光部を含む領域に改質領域を形成可能な所定の集光状態に調整することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】シグナルに対する反応速度が高くなって周波数特性を向上させることができるインクジェットヘッド及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明はインク流路を通して流入されるインクをチャンバに収容し、チャンバの一面を区画する膜を加圧してノズルを通してインクを吐出させるインクジェットヘッドを製造する方法であって、第１基板の一面の一部をエッチングしてチャンバを形成する段階と、第１基板の他面の一部をエッチングしてチャンバに繋がるインク流路を形成する段階と、第１基板の一面にチャンバをカバーするように第２基板を接合する段階、とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】残存領域の変形を防ぐことを課題とする。
【解決手段】圧電素子４６のプレートに共通電極４８及び個別電極５０が形成された圧電体プレート５８が、残存領域４４を切り残されて各圧力室１４毎に個別化された圧電体４２を備えるインクジェット記録ヘッド７４において、圧電体４２を構成する圧電素子４６の連結片４６Ａが残存領域４４と連結され、残存領域４４の個別電極５０は一部又は全部が取り除かれている。 （もっと読む）