【課題】本発明は、比較的短時間であってｎｍオーダで、より高精度に、測定対象物の表面形状を測定し得る表面形状測定装置および該方法を提供する。
【解決手段】本発明の表面形状測定装置ＳＡは、１つの測定箇所ＭＰに対し測定対象物Ｏｂの３つ以上、例えば３つの測定点Ｐ１〜Ｐ３に測定光ＭＬをそれぞれ照射するべく、測定光生成部１Ａで生成された測定光ＭＬを測定部２Ａで３つに分け、この分けられた３つの測定光ＭＬ１〜ＭＬ３を測定対象物Ｏｂの前記３つの測定点Ｐ１〜Ｐ３にそれぞれ照射し、それら３つの測定光ＭＬ１、ＭＬ２、ＭＬ３に対応する３つの反射光ＲＬ１、ＲＬ２、ＲＬにおいて、互いに共通な反射光ＲＬ２を用いるように、一対の反射光ＲＬ１、ＲＬ２および一対の反射光ＲＬ２、ＲＬ３を光干渉させ、この光干渉によって得られた第１および第２干渉光ＩＬ１、ＩＬ２に基づいて測定対象物Ｏｂの表面形状を求めるものである。 （もっと読む）

【課題】半導体処理中のオンザフライ自動検出分類（ＡＤＣ）システムおよび方法を提供する。
【解決手段】このシステムの一実施形態において、光源、例えば、レーザ（２１）が検査を受けるウェーハ（２２）の狭い領域を照明する。４つの均等に配置した暗視野検出器、例えば、光電子増倍管またはＣＣＤ（２６〜２９）が、それぞれの視野が重複して検出ゾーンを形成するようにウェーハの縁に載置される。１以上の検出器（２６〜２９）の方向に散乱された光が集光され、アナライザモジュール（３４）に伝送される電気信号に変換される。アナライザモジュール（３４）は、ウェーハにある欠陥を検出し、それらを異なる欠陥タイプに分類するように作用する。任意に、システムは、暗視野検出器も含む。 （もっと読む）

【課題】可動基板上に改良された発光蛍光体構造を有する蛍光体点光源を提供する
【解決手段】蛍光体点光源素子は、基板と、基板上に配置された発光蛍光体粒子を備えることで、動作トラック領域の平坦な動作表面の近くに密集状態の粒子配置を有する円形の動作トラックを提供する。動作トラック領域は、高輝度点光源を提供する点において照射されながら回転される。密集状態の粒子配置は、キャビティ内の蛍光体粒子を回転させてキャビティ周辺の基板上で蛍光体を圧縮することにより、または他の機械的な圧縮方法により達成され得る。密集状態の粒子配置を、キャビティを囲む形成要素に当てて圧縮するか、機械加工することにより、平坦な動作表面を提供することができる。蛍光体粒子に浸透した接着結合剤を硬化させることで、密集状態の粒子配置を固定することができる。 （もっと読む）

【課題】欠陥検査装置では検出倍率を上げて微細欠陥検出感度を向上させるため、焦点深
度が浅くなり、環境変動によって結像位置がずれ、欠陥検出感度が不安定になる課題があ
る。
【解決手段】被検査基板を搭載して所定方向に走査するＸＹステージと、被検査基板上の
欠陥を斜めから照明し、その欠陥を上方に配した検出光学系で検出する方式で、この結像
状態を最良の状態に保つために、温度及び気圧の変化に対して、結像位置変化を補正する
機構を備えたことを特徴とする欠陥検査装置。 （もっと読む）

【課題】円板状の２組の基板を上下に積層して成る貼合わせ基板において、素子形成などにあたって、基板中心位置のズレ量を一括して求められるようにする。
【解決手段】輪郭測定手段３によって、貼合わせ基板２の厚み方向の投影像から２組の基板２１，２２を合わせた輪郭形状を検出する一方、エッジ形状測定手段４によって、周方向の複数点において、貼合わせ基板２の接線方向の投影像から２組の基板２１，２２それぞれのエッジ形状を検出する。そして、演算手段６が、輪郭測定手段３の検出結果から、いずれか一方の組の基板の形状データを検出し、直径および中心位置を求める一方、他方の組の基板については、その一方の組の基板の形状データを基準に、エッジ形状測定手段４で検出された２組の基板間の相対的な位置関係から、形状データを求め、直径および中心位置を求める。その後、２組の基板間の中心位置の距離から、前記ズレ量を求める。 （もっと読む）

【課題】光を用いて物体までの距離を測定した測定結果において、所定の対象物に関する測定結果を特定することを可能とすること。
【解決手段】物体までの距離を光の照射によって測定点毎に測定する測定装置であって、測定点毎の距離を表す距離情報と、測定点毎の受光量を表す受光量情報と、を取得する光学式距離測定部と、受光量情報において、光量が閾値を超える測定点を、光源方向に対して多くの入射光を反射する反射面を有する対象物に対応する測定点であると判定する対象判定部と、対象判定部によって判定された測定点の距離に基づいて、自装置の基準点を原点とするローカル座標系における対象物の位置を算出し、当該ローカル座標系における位置と、同一の対象物のグローバル座標系における位置とに基づいて、較正を行う較正ステップと、を備える。 （もっと読む）

【課題】 真空チャンバー内に配置される計測装置において計測光学系等を好適に使用することを目的とする。
【解決手段】 真空チャンバー内に配置される計測装置であって、
真空チャンバーの内部に配置され、基板の位置または高さを計測する計測光学系と、
計測光学系の少なくとも一部を密封して覆うカバーと、カバー内に気体を供給および排出するための配管と、
配管を介してカバー内に供給または排出される気体の量を制御することによってカバー内の圧力を制御する圧力制御手段と、
を備え、カバーには透明板が設けられ、
圧力制御手段は、カバー内の圧力変動を抑え、かつ、カバー内外に所定の圧力差が生じるように気体の量を制御し、
計測光学系は、圧力差によって透明板が変形することによって生じる収差を補正するように構成されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の形状測定の精度と測定の作業効率を向上させることができる、ガラス基板の形状測定装置を提供すること。
【解決手段】ガラス基板Ｗを載置可能な載置部１１と、ガラス基板Ｗの被測定部位Ｗａの測定基準となる基準形状１２ａが形成された基部１２と、被測定部位Ｗａと基準形状１２ａを被写体とするカメラ１４と、カメラ１４による被写体の撮像画像に基づいて、基準形状１２ａに対する被測定部位Ｗａの相対位置を検出する相対位置検出部３１と、基準形状１２ａの絶対位置と相対位置検出部３１によって検出された相対位置とに基づいて、被測定部位Ｗａの絶対位置を検出する絶対位置検出部３２とを備える、ガラス基板の形状測定装置。 （もっと読む）

【課題】レーザ干渉計の計測精度を改善する。
【解決手段】露光装置は、投影光学系ＵＬと、原版Ｒまたは基板Ｗを保持して移動可能なステージ１ｒ、１ｗと、ステージを支持する定盤４と、原版または基板の表面の高さ及び傾きを検出する検出手段７と、投影光学系と検出手段とを支持する架台８と、定盤と架台との間における、ステージを含む空間の空調を行う空調手段と、該空間内に光路を有してステージの位置を計測するレーザ干渉計６と、を有する。上記検出手段は、光電検出手段２７と、パターンを投影する投光光学系と、原版または基板上に投影された上記パターンの像を光電検出手段に再結像させる受光光学系とを有する。光電検出手段を含む検出手段の第１の部分は、上記空間の外において架台に支持され、検出手段の第２の部分は、上記空間内において架台に支持され、第１の部分と第２の部分とは、受光光学系の瞳面と像面との間で分割されている。 （もっと読む）

【課題】自公転する回転台の上に置かれた被測定物の形状を精度良く測定することができる形状計測装置を提供する。
【解決手段】形状計測装置１は、回転台と、変位計測器３と、被測定物検出器４と、演算処理部５とを備え、演算処理部５は、高さ変位から、被測定物通過情報に基づいて、被測定物の高さ変位を抽出する被測定物変位抽出部６と、被測定物通過情報と、変位計測器３による被測定物上の計測点の軌道と、被測定物通過情報に基づく経過時間とに基づいて、変位計測器３による被測定物上の計測点を表す座標値を供給する座標供給部７と、被測定物変位抽出部６により抽出された被測定物の高さ変位と、座標供給部７により供給される座標値とを対応付けて記録する座標変位記録部８と、座標変位記録部９によって記録された被測定物の高さ変位から、回転台の機構に起因する回転台変位を分離して被測定物の形状を演算する形状演算部９とを含む。 （もっと読む）

【課題】非接触式のＩＤ計測方式において、高精度な内径測定が可能となる基板の内径測
定装置及び内径測定方法を提供することを目的の一とする。
【解決手段】ガラス基板搬送装置とレーザ変位計とを組み合わせた非接触式のＩＤ計測方
式において、測定時にガラス基板を固定する基板ホルダを保持して、ラインレーザ光源を
昇降させてガラス基板の主表面にラインレーザを照射して測定することにより、測定時に
測定対象であるガラス基板が揺動することにより測定精度が低下することを抑制する。 （もっと読む）

【課題】安価で狭い視野のレンズ系でウエハの反りを測定可能にする。
【解決手段】ウエハ１０を回転テーブル１２上で回転させながら、レーザー距離計２８によりウエハ１０のエッジとレーザー距離計２８との距離を非接触で測定する。次に、この距離の最大値と最小値との差をウエハ１０の反り量として計算する。これにより、従来の測定方法のようにウエハ１０の全面を測定することなく、ウエハ１０の反り量を測定する。 （もっと読む）

【課題】基板を汚染することなく非接触で保持する基板保持装置では、基板の自重によるたわみが発生したり、使用条件の中で回転動作の風圧による基板のたわみが発生するために、各種処理の障害になっている。
【解決手段】基板の上面を所望の面高さに保持したり、あるいは平面度を保持したりするために、基板上面に基板面の高さを測る非接触の変位センサを設置し、また、載せ台上面には複数の溝と障壁を設け、基板と乗せ台の間にエアーを供給してその圧力によって基板の変位を可能として、さらに、変位センサの出力をフィードバックすることで基板を任意の凸，凹形状に変形したり、平面化することを可能とする構造を持つ基板搭載装置。 （もっと読む）

【課題】操舵角計測装置を改善することにより、ステアリングホイールの操舵角を作業効率を向上しつつ精度よく計測し得る操舵角計測装置に関する。
【解決手段】ステアリングホイール側に取り付けられかつステアリングホイール３とともに回転する反射面５を有する反射板４と、車体側に固定されかつ反射板４の反射面５にレーザー光６を照射してその反射光６ａを受信することで反射面５との距離Ｌに基づいた信号ｐを出力する少なくとも１台のレーザー変位計７とを含む。反射面５は、ステアリングホイール３の操舵角θに基づいてレーザー変位計７との距離Ｌが変化する。 （もっと読む）

【課題】 回路パターンからの散乱光の影響を抑えた方向から照明光の照射を行うことで、基板の端部近傍の欠陥検査をより正確に行うことができる検査装置を提供する。
【解決手段】 表面に回路パターンが形成されたウェハ１０の端部近傍に対して、複数の方向から照明光の照射が可能な照明部３０と、前記照明光が照射されたウェハ１０の端部近傍の前記回路パターンからの散乱光を検出する撮像部４０と、撮像部４０を用いて検出された前記回路パターンからの散乱光に基づき、ウェハ１０の端部近傍の検査を行う検査部８０と、各種制御を行う制御部６０とを有し、制御部６０は検査時に前記回路パターンに対して照明部３０により照射する照明光の照射方向を照射可能な複数の方向から選択する。 （もっと読む）

【課題】透明体からなる板状物であっても輪郭を明確に特定する形状認識装置を提供する。
【解決手段】板状物１０の輪郭を検出する形状認識装置６であって、板状物１０を保持する保持テーブル３と、保持テーブル３上に保持され板状物１０を撮像する撮像手段６１と、撮像手段６１下側に配設された照明手段６２と、照明手段６２によって照射され保持テーブル３上に保持された板状物１０で反射した反射光のうち撮像手段６１による撮像領域の正反射光を遮蔽する遮蔽手段６３とを具備している。 （もっと読む）

【課題】エッジ検出動作（装置の稼動）を中断することなく、貼り合わせウエハの製造プロセス全体にわたって必要とされるエッジ検出精度を確保することが可能なウエハアライメント装置を提供する。
【解決手段】このウエハアライメント装置１００は、シリコンウエハ１１１とウエハ支持ガラス基板１１２とを含む貼り合わせウエハ１１０のエッジを検出するとともに、開始端２１ａが貼り合わせウエハ１１０の中心側に設定されたラインセンサ２１と、ラインセンサ２１に対向する光源２２と、貼り合わせウエハ１１０のエッジの検出時に、ラインセンサ２１を貼り合わせウエハ１１０の中心側からエッジ側に向かって走査するとともに、所定の場合に、シリコンウエハ１１１のエッジ検出と、ウエハ支持ガラス基板１１２のエッジ検出とを切り替えるように制御するコントローラ４０とを備える。 （もっと読む）

【課題】本発明は、分光反射強度に含まれる迷光成分を低減し、パターンドディスク表面のパターン形状を精度よくまたはパターン欠陥を確実に検出できるハードディスクメディアの検査装置または検査方法を提供することである。
【解決手段】本発明は、パターンが形成されたハードディスクメディアの表面に複数の波長を含む光を照射し、波長毎に検出される反射光の強度を前記ハードディスクメディアからの反射光を検出する検出器に発生する迷光成分の強度で補正し、前記補正された反射光の強度から分光反射率を算出することを第１の特徴とする。前記補正は、前記ハードディスクメディアからの反射光の強度を前記反射光の短波長領域をカットした状態とカットしない状態で波長毎に検出し、両者の前記反射光の強度との差に基づいて行なうことを第２の特徴とする （もっと読む）

【課題】
単一の統合条件においては複数の欠陥種を同時に検出することは困難であり、また、多次元の特徴量として扱って複数の欠陥を検出すると、信号処理にかかる計算コストが検出器の増加とともに増大するという問題が発生する。
【解決手段】
被検査対象物に照明光を照射する照明光学部と、前記照明光学部により照射され該被検査対象物から該被検査対象物の表面に対してそれぞれ異なる方位角方向および仰角方向に散乱する散乱光をそれぞれ検出する複数の検出器を備えた検出光学部と、前記複数の検出器により検出した該被検査対象物からの散乱光に基づく複数の信号のそれぞれについて、ゲイン調整および閾値判別に基づく欠陥判別を並列に行い、前記ゲイン調整および欠陥判別された結果に基づき欠陥を抽出する信号処理部と、を有する欠陥検査装置である。 （もっと読む）

【課題】円形標本の観察位置を高精度に再現する。
【解決手段】顕微鏡装置は、円形標本１０３の撮像画像に基づいて当該円形標本１０３の中心位置の座標を算出する中心位置算出部２０１と、円形標本１０３の撮像画像から、当該円形標本１０３の中心位置の座標に基づいて所定領域のパターン画像を認識するパターン認識部２０２と、第１の期間に得られた円形標本１０３の撮像画像からパターン認識部２０２により認識された第１のパターン画像と第１の期間よりも後の第２の期間に得られた円形標本１０３の撮像画像からパターン認識部２０２により認識された第２のパターン画像との間の回転ずれ角を算出する回転ずれ角算出部２０４と、回転ずれ角に基づいて円形標本１０３の回転ずれを補正し、第１の期間における円形標本１０３の位置を再現する位置再現部２０５とを備える。 （もっと読む）