【課題】ワーク内部にレーザー光線を集光して改質層を形成する加工装置において、厚さが規格外のワークが搬入されたことを加工前に検出する。
【解決手段】ワーク１を保持手段４０に搬入して保持した状態で、光学式の測定手段７０により、ワーク１の上面１ａの高さ位置を測定する第一の測定工程と基準面に設定した保護テープ１０の粘着面１０ａの高さ位置を測定する第二の測定工程とを行い、第一の測定工程と第二の測定工程とによって得られた値の差分によってワーク１の上面１ａから基準面までの距離を検出し、該距離に基づいて、搬入されたワーク１の厚さが規格外であるか否かを判断する。 （もっと読む）

【課題】変位計と測定対象物との間の相対移動に起因する誤差を適切に補正すること。
【解決手段】測定対象物の一次元形状を測定する変位計と測定対象物との間の相対位置をずらしながら測定対象物の平面度を測定する平面度測定装置は、第１方向の第１測定ラインに沿って被測定面の一次元形状を測る第１測定と、第１測定ラインと第１交差点Ｐ２で交差する第２方向の第２測定ラインに沿って被測定面の一次元形状を測る第２測定と、第２測定ラインおよび第１測定ラインとそれぞれ第２交差点Ｐ３および第３交差点Ｐ１で交差する第３方向の第３測定ラインに沿って被測定面の一次元形状を測る第３測定と、第１測定による第１の一次元形状を示す第１の測定値列ＤＬ１、第２測定による第２の一次元形状を示す第２の測定値列ＤＬ２、および第３測定による第３の一次元形状を示す第３の測定値列ＤＬ３を第１交差点Ｐ２乃至第３交差点Ｐ１においてそれぞれ一致させるように第１の測定値列ＤＬ１乃至第３の測定値列ＤＬ３を補正する補正処理と、を行う。 （もっと読む）

【課題】移動体の位置を高精度に制御しつつ、物体上の複数のマークの検出時間を短縮する。
【解決手段】 露光装置は、ウエハＷを保持してＸＹ平面内で移動するとともに、上面にＹ軸方向を周期方向とする格子を有する一対のＹスケール３９Ｙ_１、３９Ｙ_２が設けられたウエハステージＷＳＴと、Ｘ軸方向に関して検出領域の位置が異なる複数のアライメント系ＡＬ１、ＡＬ２_１〜ＡＬ２_４と、Ｘ軸方向に関して前記複数の検出領域の両外側に１つずつ配置される一対のＹヘッド６４ｙ_１、６４ｙ_２を含む複数のＹヘッド６４を有し、一対のＹスケールの少なくとも一方と対向するＹヘッドによって、ウエハステージＷＳＴのＹ軸方向の位置情報を計測するＹエンコーダと、を備えている。このため、ウエハステージＷＳＴのＹ軸方向の移動の際に、ウエハ上の複数のマークを複数のアライメント系で同時に計測可能になる。 （もっと読む）

【課題】本発明は画像処理装置における撮影画面中の計測範囲設定の調整を容易にすることを目的とする。
【解決手段】視野内に搬送された対象物を撮像して２次元画像を得る撮像手段と、２次元画像を画面に表示する表示手段と、得られた２次元画像から対象物の輪郭を表す輪郭線を抽出する形状抽出手段と、輪郭線上の複数の点の位置を抽出する点位置抽出手段と、複数の点から２次元画像上の対象物の搬送方向における輪郭線の位置を代表する代表点の位置を決定する代表位置決定手段と、少なくとも代表点の位置と２次元画像上の対象物の搬送方向において予め設定された計測幅とに基づいて輪郭線を含む計測領域を得られた２次元画像上に設定する計測領域設定手段と、を備える。 （もっと読む）

【課題】テーブル等の移動に伴う誤差を排除することができ、被測定物の形状を高精度に測定可能な手段を提供する。
【解決手段】形状測定装置ＬＭＳは、被測定物Ｗと第１、第２プローブ光とを相体移動させるワーク移動ユニット１０及びミラーユニット３０と、被測定物Ｗの測定面に照射位置が所定間隔離れた第１,第２プローブ光を照射するとともに、反射光の位置に応じた第１，第２受光信号を出力する光学入ニット２０と、これらの作動を制御する制御ユニット５０とを備える。制御ユニット５０は、測定面の測定部位を測定ラインに沿って前記所定間隔と同程度離間した位置に順次移動させ、各測定部位ごとに第１、第２プローブ光の照射位置の傾斜角度を算出させ、算出された複数の測定部位の傾斜角度情報に基づいて測定ラインに沿った測定面の形状を導出するように構成される。 （もっと読む）

【課題】同一パターンとなるように形成された２つのパターンの対応する領域の画像を比較して画像の不一致部を欠陥と判定するパターン検査装置において、膜厚の違いなどから生じるパターンの明るさむらの影響を低減して、高感度なパターン検査を実現する。また、多種多様な欠陥を顕在化でき，広範囲な工程への適用が可能なパターン検査装置を実現する。
【解決手段】同一パターンとなるように形成された２つのパターンの対応する領域の画像を比較して画像の不一致部を欠陥と判定するパターン検査装置を、複数の検出系とそれに対応する複数の画像比較処理方式を備えて構成し、又、異なる複数の処理単位で比較画像間の画像信号の階調を変換する手段を備えて構成し、画像間の同一パターンで明るさの違いが生じている場合であっても、正しく欠陥を検出できるようにした。 （もっと読む）

【課題】硬貨の表面の凹凸を高精度に評価すること。
【解決手段】硬貨１００を一枚ずつ搬送し、第1の色成分を透過する第１の領域と第２の色成分を透過する第２の領域とを交互に配置したスリットパターン１１３を透過したスリットパターン光を照射する。スリットパターン光が照射された硬貨の画像をカメラ１１５が撮像し、色分離部２１１が撮像結果を第１の色成分と第２の色成分に分離する。高さ計算部２１３は、第１の色成分の画像データにおけるスリットパターン形状の変化と、第２の色成分の画像データにおけるスリットパターン形状の変化からそれぞれ高さ評価データを作成し、硬貨の三次元測定データを得る。判定部２０６は、三次元測定データに基づいて硬貨の真偽、種別（金種）、正損を判定する。 （もっと読む）

【課題】搬送中の硬貨の表面の凹凸を高精度に評価可能な三次元測定データを得ること。
【解決手段】硬貨１００を一枚ずつ搬送し、第1の色成分を透過する第１の領域と第２の色成分を透過する第２の領域とを交互に配置したスリットパターン１１３を透過したスリットパターン光を照射する。スリットパターン光が照射された硬貨の画像をカメラ１１５が撮像し、色分離部２１１が撮像結果を第１の色成分と第２の色成分に分離する。高さ計算部２１３は、第１の色成分の画像データにおけるスリットパターン形状の変化と、第２の色成分の画像データにおけるスリットパターン形状の変化からそれぞれ高さ評価データを作成し、硬貨の三次元測定データを得る。 （もっと読む）

【課題】ウェーハ上の欠陥分布を検査する表面検査装置において、欠陥検査と同時進行でウェーハの厚さとフラットネスを測定できるようにする。
【解決手段】本発明は、ウェーハを固定し、回転及び直線移動を行う搬送系と、前記直線移動の経路上に配置されたウェーハ上の欠陥の位置とサイズを特定する散乱光学系と、前記直線移動の経路であって、前記散乱光学系よりも前に配置されたフラットネス測定系と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】位置合わせ測定の精度を向上する。
【解決手段】１つの実施形態によれば、位置合わせ測定方法では、測定光学系の測定領域内が２次元的に分割された複数の部分領域のそれぞれに位置合わせ測定用マークが位置するように前記位置合わせ測定用マークに対する前記測定領域の相対的な位置を順次にシフトさせながら前記位置合わせ測定用マークの位置合わせずれ量を予め測定して、前記測定光学系の特性ずれに関する装置要因誤差を前記複数の部分領域のそれぞれごとに求め、前記複数の部分領域ごとに求められた前記装置要因誤差に基づいて前記複数の部分領域のうち使用すべき部分領域を決定し、前記決定された前記使用すべき部分領域に前記位置合わせ測定用マークが位置するように前記位置合わせ測定用マークに対する前記測定領域の相対的な位置をシフトさせた状態で前記位置合わせ測定用マークの位置合わせずれ量を測定する。 （もっと読む）

【課題】コストを増加させずに処理の高速化と解像度の変更が可能な光電変換素子と、それを用いた欠陥検査装置及び欠陥検査方法を提供する。
【解決手段】複数のセンサ画素を有する光電変換素子１において、マルチプレクサ５と、複数の水平転送レジスタ３ａ〜３ｄとを有する。センサ画素は、水平転送レジスタ３ａ〜３ｄのそれぞれに対応するように、複数のブロック２ａ〜２ｄに分割される。複数のブロック２ａ〜２ｄの電荷が、対応するそれぞれの水平転送レジスタ３ａ〜３ｄを介してマルチプレクサ５に読み出され、マルチプレクサ５を介して出力されるように構成する。 （もっと読む）

【課題】 透過性膜の膜厚を算出する際に用いられる撮影データの最大値に関する信頼性を評価して、信頼性の高い膜厚測定が行えるようにする。
【解決手段】 固定長の焦点距離を備える撮影部２を種々の高さに位置させて、基材と透光性膜とを含む基板を撮影した際の撮影画像の合焦度を算出する合焦度算出部６ａと、撮影部２の位置に対する合焦度からなる合焦度曲線の極大値を検出する極大値検出部６ｂと、極大値の信頼度を算出して、極大値が適正値か否かを判断する信頼度算出判断部６ｃと、信頼度算出判断部６ｃにより適正と判断された極大値に対応する撮影部２の位置を境界位置として算出する境界位置算出部６ｄと、境界位置に基づき透光性膜の膜厚を算出する膜厚算出部６ｅと、を備える。 （もっと読む）

【課題】ウエハ検査装置でベアウエハ（鏡面ウエハ）を検査する場合、ウエハ上には何もマークがないため、ベアウエハを正しく位置決めできない。
【解決手段】本発明は、前記基板を移動する搬送系と、前記基板に光を照射する照明光学系と、前記基板からの光を検出する検出光学系と、前記検出光学系の検出結果に基づいて前記基板の欠陥を検出する第１の処理部と、前記検出光学系の検出結果に基づいて画像を取得する第２の処理部とを有し、前記第２の処理部は、前記基板の外周部の画像、及び前記基板のノッチ部の画像を取得し、前記外周部の画像に基づいて、前記基板の中心位置を計算し、前記中心位置、及び前記ノッチ部の画像に基づいて、前記基板の回転ずれを計算し、前記搬送系は、前記中心位置、及び前記基板の回転ずれに基づいて前記基板の位置決めを行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】製造した磁気ディスク用基板の全てについて、歩留まりを悪化させることなく高精度で内径測定を行うことができる円板状基板内径測定装置、円板状基板内径測定方法及び円板状基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】レーザ変位計（測定装置）１００は、ラインレーザ１１２を円板状基板２００の主表面に照射するラインレーザ光源１１０と、円板状基板２００を支持する基板ホルダ１３０と、ラインレーザ１１２が円板状基板２００の円孔２１０を通過するように基板ホルダ１３０を昇降させる昇降部１４０と、基板ホルダ１３０の昇降中、円板状基板２００を反射又は通過したラインレーザ１１２を受光し、該光量分布を取得するレーザセンサ１２０と、レーザセンサ１２０が取得した光量分布から円孔２１０の内径を測定する内径測定部１５０とを具備し、基板ホルダ１３０は、測定時の基板姿勢が、地面に対し鉛直から所定の角度の範囲に入るように円板状基板２００を支持する。 （もっと読む）

【課題】受光部における誤検出を防止可能なロータリスケールを具備する位置検出装置、ロータリスケール、および位置検出装置を備える液体吐出装置を提供すること。
【解決手段】被検出物の位置検出を行う位置検出装置であり、発光部６２および受光部６４を備え、これらの間に空間部６１３を備えるフォトセンサ６０と、空間部６１３の間に差し掛かるロータリスケール５１と、ロータリスケール５１に設けられ、第１透光部および第１遮光部が交互に形成される位置検出パターン５３と、ロータリスケール５１に設けられ、第２透光部および第２遮光部が交互に形成され、通過する光量が位置検出パターン５３を通過する光量よりも少なくなる汚れ検出パターン５４と、フォトセンサ６０を移動させて、位置検出パターン５３の検出状態と汚れ検出パターン５４の検出状態とを切り替えるセンサ位置切替機構７０と、を具備している。 （もっと読む）

【課題】センサ読み取り値のエラーのリスクを低減又は解消する。
【解決手段】第１のフロー特性を有する温度調整流体をセンサのビーム経路の少なくとも一部に提供する第１の出口と、第１の出口に関連付けられ、第１のフロー特性とは異なり、第１の出口から放出される温度調整流体の隣にある第２のフロー特性を有する温度調整流体を提供する第２の出口とを有するリソグラフィ装置。 （もっと読む）

【課題】 シート状細胞培養物の品質を、簡便迅速に判定する方法およびシステムを提供する。さらに、本方法に特に適したシート状細胞培養物を提供する。
【解決手段】 シート状細胞培養物を円形に製造し、シート状細胞培養物の輪郭を画像センサーで検出し、輪郭の真円度を求め、真円度によりシート状細胞培養物の品質の判定をおこなう。また、輪郭線を２つの同心の幾何学的円で挟んだとき、同心円の間隔が最小となる場合の、２円の半径の差を外側の同心円半径で除した値が、０．２０以下であるシート状細胞培養物を提供する。 （もっと読む）

【課題】
ヘッド先端部に接触センサを搭載し欠陥との接触によりこれを検出する方法によっては、欠陥検出時に欠陥を引きずりウエハ表面に傷をつける可能性がある。
【解決手段】
試料の表面に照明光を照射するプリスキャン照射工程と、散乱光を検出するプリスキャン検出工程と、該散乱光に基づき該試料の表面に存在する所定の欠陥の情報を得るプリスキャン欠陥情報収集工程と、を備えるプリスキャン欠陥検査工程と、該試料の表面と近接場ヘッドとの距離を調整して該試料の表面を照射する近接場照射工程と、近接場光応答を検出する近接場検出工程と、該近接場光に基づき所定の欠陥の情報を得る近接場欠陥情報収集工程と、を備える近接場欠陥検査工程と、該所定の欠陥の情報をマージして該試料の表面に存在する欠陥を検査するマージ工程と、を有する試料の表面の欠陥検査方法である。 （もっと読む）

【課題】保護テープが貼着された被加工物の厚みを正確に検出し、被加工面に傷を付けることがない厚み検出装置および厚み検出装置を装備した研削機を提供する。
【解決手段】チャックテーブルに保持され加工され厚みが減少する被加工物の厚みを検出する厚み検出装置であって、被加工物の上面および下面で反射する反射光を受光したイメージセンサーの検出信号に基づき分光干渉波形を求め、分光干渉波形と理論上の波形関数に基づき波形解析を実行し、被加工物の上面および下面で反射した反射光間の光路長差に基づき被加工物の厚みを求める第１の演算手段と、イメージセンサーの検出信号に基づき特定波長を通過する分光干渉波形の数をカウントする第２の演算手段とを備え、被加工物の厚みが所定の厚みに達するまでは第１の演算手段により被加工物の厚みを求め、被加工物の厚みが所定の厚みに達したならば第２の演算手段により被加工物の厚み減少量を求める。 （もっと読む）

【課題】可動基板上に改良された発光蛍光体構造を有する蛍光体点光源を提供する
【解決手段】蛍光体点光源素子は、基板と、基板上に配置された発光蛍光体粒子を備えることで、動作トラック領域の平坦な動作表面の近くに密集状態の粒子配置を有する円形の動作トラックを提供する。動作トラック領域は、高輝度点光源を提供する点において照射されながら回転される。密集状態の粒子配置は、キャビティ内の蛍光体粒子を回転させてキャビティ周辺の基板上で蛍光体を圧縮することにより、または他の機械的な圧縮方法により達成され得る。密集状態の粒子配置を、キャビティを囲む形成要素に当てて圧縮するか、機械加工することにより、平坦な動作表面を提供することができる。蛍光体粒子に浸透した接着結合剤を硬化させることで、密集状態の粒子配置を固定することができる。 （もっと読む）