パターン形成装置、マーク検出装置、露光装置、パターン形成方法、露光方法及びデバイス製造方法
【課題】移動体の位置を高精度に制御しつつ、物体上の複数のマークの検出時間を短縮する。
【解決手段】 露光装置は、ウエハＷを保持してＸＹ平面内で移動するとともに、上面にＹ軸方向を周期方向とする格子を有する一対のＹスケール３９Ｙ１、３９Ｙ２が設けられたウエハステージＷＳＴと、Ｘ軸方向に関して検出領域の位置が異なる複数のアライメント系ＡＬ１、ＡＬ２１〜ＡＬ２４と、Ｘ軸方向に関して前記複数の検出領域の両外側に１つずつ配置される一対のＹヘッド６４ｙ１、６４ｙ２を含む複数のＹヘッド６４を有し、一対のＹスケールの少なくとも一方と対向するＹヘッドによって、ウエハステージＷＳＴのＹ軸方向の位置情報を計測するＹエンコーダと、を備えている。このため、ウエハステージＷＳＴのＹ軸方向の移動の際に、ウエハ上の複数のマークを複数のアライメント系で同時に計測可能になる。
【解決手段】 露光装置は、ウエハＷを保持してＸＹ平面内で移動するとともに、上面にＹ軸方向を周期方向とする格子を有する一対のＹスケール３９Ｙ１、３９Ｙ２が設けられたウエハステージＷＳＴと、Ｘ軸方向に関して検出領域の位置が異なる複数のアライメント系ＡＬ１、ＡＬ２１〜ＡＬ２４と、Ｘ軸方向に関して前記複数の検出領域の両外側に１つずつ配置される一対のＹヘッド６４ｙ１、６４ｙ２を含む複数のＹヘッド６４を有し、一対のＹスケールの少なくとも一方と対向するＹヘッドによって、ウエハステージＷＳＴのＹ軸方向の位置情報を計測するＹエンコーダと、を備えている。このため、ウエハステージＷＳＴのＹ軸方向の移動の際に、ウエハ上の複数のマークを複数のアライメント系で同時に計測可能になる。
Notice: Undefined index: DEJ in /mnt/www/gzt_disp.php on line 298
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物体上にパターンを形成するパターン形成装置であって、
前記物体を保持して第１軸及びこれと交差する第２軸を含む所定の平面内で移動するとともに、その一面に前記第１軸に平行な方向を周期方向とする格子を有する第１格子部が一対設けられた移動体と、
前記第２軸に平行な方向に関して検出領域の位置が異なる複数のマーク検出系と、
前記第２軸に平行な方向に関して前記複数の検出領域の両外側に１つずつ配置される一対の第１ヘッドを含む複数の第１ヘッドを有し、前記一対の第１格子部の少なくとも一方と対向する第１ヘッドによって、前記移動体の前記第１軸に平行な方向の位置情報を計測する第１軸エンコーダと、を備えるパターン形成装置。
【請求項２】
請求項１に記載のパターン形成装置において、
前記移動体の一面には、前記第２軸に平行な方向を周期方向とする格子を有する第２格子部がさらに設けられ、
前記第１軸に平行な方向に関して位置が異なる複数の第２ヘッドを有し、前記第２格子部と対向する第２ヘッドによって前記移動体の前記第２軸に平行な方向の位置情報を計測する第２軸エンコーダをさらに備えるパターン形成装置。
【請求項３】
請求項２に記載のパターン形成装置において、
前記複数のマーク検出系は、前記検出領域が固定の第１マーク検出系と、前記第２軸に平行な方向に関して前記第１マーク検出系の検出領域の両側にそれぞれ配置される前記検出領域の位置が前記第２軸に平行な方向に関して調整可能な少なくとも１対の第２マーク検出系とを含むパターン形成装置。
【請求項４】
請求項３に記載のパターン形成装置において、
前記複数の第２ヘッドの一部は、前記第１マーク検出系に取り付けられているパターン形成装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載のパターン形成装置において、
前記複数の第１ヘッドは、前記第１軸に平行な方向に関して前記一対の第１ヘッドと位置が異なり、かつ前記第２軸に平行な方向に関して位置が異なる第１及び第２群の第１ヘッドを含み、前記第１群の第１ヘッドはその少なくとも１つが前記一対の第１格子部の一方と対向し、前記第２群の第１ヘッドはその少なくとも１つが前記一対の第１格子部の他方と対向するパターン形成装置。
【請求項６】
物体上にパターンを形成するパターン形成装置であって、
前記物体を保持して第１軸及びこれと交差する第２軸を含む所定の平面内で移動するとともに、前記第１軸に平行な方向を周期方向とする格子を有する第１格子部と、前記第２軸に平行な方向を周期方向とする格子を有する第２格子部とがその一面に設けられた移動体と、
前記物体上のマークを検出する少なくとも１つのマーク検出系と、
前記第２軸に平行な方向に関して位置が異なる複数の第１ヘッドを有し、前記第１格子部と対向する第１ヘッドによって前記移動体の前記第１軸に平行な方向の位置情報を計測する第１軸エンコーダと、前記第１軸に平行な方向に関して位置が異なる複数の第２ヘッドを有し、前記第２格子部と対向する第２ヘッドによって前記移動体の前記第２軸に平行な方向の位置情報を計測する第２軸エンコーダと、を有する計測装置と、
前記計測装置による計測値に基づいて前記移動体の位置を制御しつつ、前記物体上のマークを前記マーク検出系を用いて検出する制御装置と、を備えるパターン形成装置。
【請求項７】
請求項６に記載のパターン形成装置において、
前記パターンの像を投影する光学系をさらに備え、
前記制御装置は、前記光学系による前記パターンの像の投影位置と前記マーク検出系の検出中心との位置関係を、前記移動体上の基準マークを用いて計測するときに、前記移動体の位置を、前記計測装置による計測値に基づいて制御するパターン形成装置。
【請求項８】
請求項７に記載のパターン形成装置において、
前記制御装置は、前記位置関係の計測動作を完了する前に、前記物体上のマークの検出動作を行うパターン形成装置。
【請求項９】
請求項７に記載のパターン形成装置において、
前記制御装置は、前記物体上で検出すべき複数のマークの検出動作を完了する前に、前記位置関係の計測動作を行うパターン形成装置。
【請求項１０】
請求項６〜９のいずれか一項に記載のパターン形成装置において、
前記マーク検出系は、固定されている第１マーク検出系と、該第１マーク検出系に対して相対的に位置調整可能な複数の第２マーク検出系とを含むパターン形成装置。
【請求項１１】
請求項３、４、１０のいずれか一項に記載のパターン形成装置において、
前記物体上の複数のマークの配置に基づいて、前記第２マーク検出系の位置を調整する位置調整装置をさらに備えるパターン形成装置。
【請求項１２】
請求項３、４、１０、１１のいずれか一項に記載のパターン形成装置において、
前記第２マーク検出系がその回動端部に取り付けられ、前記第１軸及び第２軸に直交する第３軸に平行な軸回りに回動するアーム部材を更に備えるパターン形成装置。
【請求項１３】
請求項３、４、１０〜１２のいずれか一項に記載のパターン形成装置において、
前記第２マーク検出系を、前記位置調整がなされた後で前記マークの検出動作を開始する前までに、その位置調整された状態を維持したまま固定する保持装置をさらに備えるパターン形成装置。
【請求項１４】
請求項３、４、１０〜１３のいずれか一項に記載のパターン形成装置において、
前記第１マーク検出系に対する前記第２マーク検出系の相対的な位置の計測動作を、前記移動体上の物体に対する露光を完了してから該物体を前記移動体上から搬出し、別の物体を搬入するまでの期間に行う計測制御装置をさらに備えるパターン形成装置。
【請求項１５】
請求項３、４、１０のいずれか一項に記載のパターン形成装置において、
前記平面内で前記移動体とは独立に移動する別の移動体と、
該別の移動体に搭載され、前記第２軸に平行な方向に離れて配置されかつ前記第１軸に平行な方向を周期方向とする一対の基準格子と、該一対の基準格子の間の領域に前記複数のマーク検出系によって同時に検出可能な複数の基準マークが形成された基準部材とをさらに備えるパターン形成装置。
【請求項１６】
請求項１５に記載のパターン形成装置において、
前記基準部材は、前記別の移動体にキネマティックに支持されているパターン形成装置。
【請求項１７】
請求項１５又は１６に記載のパターン形成装置において、
前記複数の基準マークを前記第１、第２マーク検出系で同時に検出することにより、前記第１マーク検出系に対する前記第２マーク検出系の相対的な位置計測が行われるパターン形成装置。
【請求項１８】
請求項１５又は１６に記載のパターン形成装置において、
前記移動体と前記別の移動体は、両者が所定距離以下に近接した第１状態と、両者が離間した第２状態とに切り換え可能であり、
前記パターンの像を投影する光学系と、
前記光学系による前記パターンの像の投影位置と前記第１マーク検出系の検出中心との位置関係の計測を、前記第１状態で開始し、かつ前記第２状態で終了する制御装置と、をさらに備えるパターン形成装置。
【請求項１９】
請求項１〜４、１０〜１８のいずれか一項に記載のパターン形成装置において、
前記複数のマーク検出系によるマークの同時計測は、前記物体上の複数のマークに対するフォーカス状態を同時に変更しつつ複数回行われるパターン形成装置。
【請求項２０】
請求項２〜１０のいずれか一項に記載のパターン形成装置において、
前記移動体上には、前記第１格子部が前記第２軸に平行な方向に関して所定間隔隔てて一対形成されるとともに、前記第２格子部が前記第１軸に平行な方向に関して所定間隔隔てて一対形成され、
前記一対の第１格子部にそれぞれ少なくとも１つが対向しかつ前記第２軸に平行な方向に関して位置が異なる複数の第１ヘッドを有する２つの第１軸エンコーダと、前記一対の第２格子部にそれぞれ少なくとも１つが対向しかつ前記第１軸に平行な方向に関して位置が異なる複数の第２ヘッドを有する２つの第２軸エンコーダとの計測値に基づいて、前記移動体の前記第１及び第２軸に平行な方向の位置情報、及び前記平面内の回転情報を計測する計測装置をさらに備えるパターン形成装置。
【請求項２１】
物体上にパターンを形成するパターン形成装置であって、
互いに異なる複数の位置にそれぞれマークが形成されている物体を保持して第１軸及びこれと交差する第２軸を含む所定の平面内で移動する移動体と、
前記第２軸に平行な方向に関して検出領域が異なる位置に配置され、前記物体上の互いに異なる位置のマークを同時に検出する複数のマーク検出系と、を備え、
前記移動体の前記平面内での位置によって、前記複数のマーク検出系により同時検出される前記物体上のマークの個数が異なるパターン形成装置。
【請求項２２】
請求項２１に記載のパターン形成装置において、
前記複数のマーク検出系はそれぞれ、前記移動体が前記第１軸に平行な方向に移動する動作と連動して、該各マーク検出系の検出領域内に順次配置される、前記第１軸と平行な方向に沿って配列された複数のマークを検出するパターン形成装置。
【請求項２３】
光学系を用いて物体上にパターンを形成するパターン形成装置であって、
前記物体を保持して第１軸及びこれと交差する第２軸を含む所定の平面内で移動する移動体と、
前記物体上に形成された複数のマークを検出するマーク検出系と、
前記光学系の光学特性を調整する調整装置と、
前記物体上に前記マーク検出系で検出すべきマークが残存している段階で、それまでに前記マーク検出系で検出された前記物体上の複数のマークの検出結果に基づいて、前記光学特性を調整するよう前記調整装置を制御する制御装置と、を備えるパターン形成装置。
【請求項２４】
請求項２３に記載のパターン形成装置において、
前記制御装置は、前記マーク検出系が前記物体上の検出すべきマークの半数を検出し終えた段階で、それらの検出結果に基づいて、前記光学特性を調整するように前記調整装置を制御するパターン形成装置。
【請求項２５】
パターンを光学系を用いて物体上に投影するパターン形成装置であって、
前記物体を保持して第１軸及びこれと交差する第２軸を含む所定の平面内で移動する移動体と、
前記移動体上に載置された前記物体上のマークを検出するマーク検出系と、
前記光学系による前記パターンの投影位置と前記マーク検出系の検出中心との位置関係を計測する動作を開始してから該動作を完了するまでの間に、前記物体上のマークの検出動作を行う制御装置と、を備えるパターン形成装置。
【請求項２６】
パターンを光学系を用いて物体上に投影するパターン形成装置であって、
前記物体を保持して第１軸及びこれと交差する第２軸を含む所定の平面内で移動する移動体と、
前記移動体上に載置された前記物体上のマークを検出するマーク検出系と、
前記物体上に形成された検出すべき複数のマークの検出動作を開始してから該動作を完了する前までに、前記光学系による前記パターンの投影位置と前記マーク検出系の検出中心との位置関係の計測動作を行う制御装置と、を備えるパターン形成装置。
【請求項２７】
物体上にパターンを形成するパターン形成装置であって、
前記物体を保持して第１軸及びこれと交差する第２軸を含む所定の平面内で移動する第１移動体と、
前記平面内で前記第１移動体とは独立に移動する第２移動体と、
前記第１移動体上に載置された前記物体上に形成されている検出すべき複数のマークを検出するマーク検出系と、
前記第１移動体と前記第２移動体とを所定距離以下に近接させる近接状態と、該両移動体を離間させる離間状態との間で状態切り換えを行わせるように、前記両移動体を制御する制御装置と、を備え、
前記制御装置は、前記物体上に形成された検出すべき複数のマークの検出動作が開始されてから該検出動作が完了する前までに、前記状態の切り換え動作を行うパターン形成装置。
【請求項２８】
請求項２７に記載のパターン形成装置において、
前記両移動体が前記近接状態にあるときに、前記マーク検出系による前記物体上の前記複数のマークの検出動作が開始され、
前記制御装置は、前記複数のマーク全ての検出動作が完了する前に、前記近接状態から前記離間状態となるように前記両移動体を制御するパターン形成装置。
【請求項２９】
物体上にパターンを形成するパターン形成装置であって、
互いに異なる複数の位置にそれぞれマークが形成されている物体を保持して第１軸及びこれと交差する第２軸を含む所定の平面内で移動する移動体と、
前記物体上の互いに異なる位置のマークをそれぞれ検出する複数のマーク検出系と、
前記複数のマーク検出系と前記移動体に載置されている前記物体との間の、前記平面に垂直な前記複数のマーク検出系の光軸方向における相対位置関係を、該複数のマーク検出系間で同時に変更するフォーカス位置変更装置と、
前記フォーカス位置変更装置で前記フォーカス方向の相対位置関係を変更しつつ、前記物体上の互いに異なる位置に形成されたマークそれぞれを、各マークに対応する複数のマーク検出系を用いて同時に検出する制御装置と、を備えるパターン形成装置。
【請求項３０】
請求項２１〜２９のいずれか一項に記載のパターン形成装置において、
前記平面とほぼ平行な前記移動体の一面に、前記第１軸及び前記第２軸に平行な方向に格子が周期的に配列される第１及び第２格子部が設けられ、
前記第２軸に平行な方向に関して位置が異なる複数の第１ヘッドを有し、前記第１格子部と対向する第１ヘッドによって前記第１軸に平行な方向に関する前記移動体の位置情報を計測する第１エンコーダと、前記第１軸に平行な方向に関して位置が異なる複数の第２ヘッドを有し、前記第２格子部と対向する第２ヘッドによって前記第２軸に平行な方向に関する前記移動体の位置情報を計測する第２エンコーダとを含む計測装置をさらに備えるパターン形成装置。
【請求項３１】
請求項３０に記載のパターン形成装置において、
前記第１及び第２格子部の少なくとも一方は、前記格子が周期的に配列される方向と直交する方向に離れて一対設けられ、
前記計測装置は、前記少なくとも一方の格子部に対応する前記第１及び第２エンコーダの少なくとも一方を一対含むパターン形成装置。
【請求項３２】
請求項１〜３１のいずれか一項に記載のパターン形成装置において、
前記物体をエネルギビームで露光することで、前記パターンが前記物体上に形成されるパターン形成装置。
【請求項３３】
物体をエネルギビームで露光する露光装置であって、
前記物体を保持して所定の平面内で第１及び第２方向に可動であり、かつ前記平面とほぼ平行な一面にそれぞれ前記第１方向に格子が周期的に配列される一対の第１格子部が設けられる移動体と、
前記第２方向に関して位置が異なる複数の検出領域を有するマーク検出系と、
前記第２方向に関して前記複数の検出領域を挟んで配置される一対の第１ヘッドを含む複数の第１ヘッドを有し、前記一対の第１格子部の少なくとも一方と対向する第１ヘッドによって前記移動体の前記第１方向の位置情報を計測する第１エンコーダを含む計測装置と、を備える露光装置。
【請求項３４】
請求項３３に記載の露光装置において、
前記移動体の一面に、前記第２方向に格子が周期的に配列される第２格子部が設けられ、
前記計測装置は、前記第１方向に関して位置が異なる複数の第２ヘッドを有し、前記第２格子部と対向する第２ヘッドによって前記移動体の前記第２方向の位置情報を計測する第２エンコーダを含む露光装置。
【請求項３５】
請求項３３又は３４に記載の露光装置において、
前記マーク検出系による検出動作時に、前記計測装置によって前記移動体の位置情報が計測される露光装置。
【請求項３６】
請求項３３〜３５のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記複数の第１ヘッドは、前記第１方向に関して前記一対の第１ヘッドと位置が異なるとともに、それぞれ前記第２方向に関して位置が異なる第１及び第２群の第１ヘッドを含み、前記第１群の第１ヘッドはその少なくとも１つが前記一対の第１格子部の一方と対向し、前記第２群の第１ヘッドはその少なくとも１つが前記一対の第１格子部の他方と対向する露光装置。
【請求項３７】
請求項３６に記載の露光装置において、
前記第１及び第２群の第１ヘッドは、前記第２方向に関して前記エネルギビームの照射位置を挟んで配置される露光装置。
【請求項３８】
請求項３３〜３７のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第２方向に離れて配置される一対の基準格子と、前記一対の基準格子の間に配置される複数の基準マークとを有する基準部材が一面に設けられる、前記移動体とは別の移動体をさらに備え、
前記一対の第１ヘッドによる前記一対の基準格子の検出、及び前記マーク検出系による前記複数の基準マークの検出が同時に実行可能である露光装置。
【請求項３９】
請求項３３〜３８のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記計測装置は、前記移動体の位置情報を計測する干渉計を含み、前記干渉計による前記移動体の位置情報の計測方向は、前記エンコーダによる前記移動体の位置情報の計測方向と異なる方向を含む露光装置。
【請求項４０】
請求項３９に記載の露光装置において、
前記干渉計は、前記平面内の方向と異なる方向に関して前記移動体の位置情報を計測する露光装置。
【請求項４１】
請求項３９又は４０に記載の露光装置において、
前記干渉計は、前記エンコーダによる前記移動体の位置情報の少なくとも１つの計測方向に関して前記移動体の位置情報を計測する露光装置。
【請求項４２】
請求項３３〜４１のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記計測装置は、前記移動体の位置情報を計測する干渉計を含み、
前記干渉計によって計測される位置情報を含む前記計測装置の計測情報に基づいて前記移動体の移動を制御する制御装置をさらに備える露光装置。
【請求項４３】
請求項４２に記載の露光装置において、
前記計測情報は、前記エンコーダによる前記移動体の位置情報の計測方向と異なる方向に関する、前記干渉計による前記移動体の位置情報を含む露光装置。
【請求項４４】
請求項３３〜４３のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記物体が対向して配置され、前記エネルギビームを射出する光学部材と、
前記移動体とは別の移動体と、
前記光学部材と前記物体の間を液体で満たして液浸領域を形成する液浸システムと、をさらに備え、
前記液浸領域は、前記移動体との交換で前記光学部材と対向して配置される前記別の移動体の一面との間に維持される露光装置。
【請求項４５】
請求項４４に記載の露光装置において、
前記複数の検出領域と前記液浸領域とは前記第１方向に離れて配置され、前記移動体の一面と前記別の移動体の一面との間で液浸領域を移動する露光装置。
【請求項４６】
請求項３３〜４５のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記エネルギビームによる前記物体の露光動作時に、前記計測装置によって前記移動体の位置情報が計測される露光装置。
【請求項４７】
請求項３３〜４６のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記マーク検出系は、少なくとも前記第２方向に関して前記複数の検出領域の相対位置が可変である露光装置。
【請求項４８】
請求項４７に記載の露光装置において、
前記マーク検出系は、前記検出領域を奇数個有し、前記奇数個の検出領域のうち、前記第２方向に関して中央に配置される検出領域を除く少なくとも１つが前記第２方向に可動である露光装置。
【請求項４９】
請求項４７又は４８に記載の露光装置において、
前記マーク検出系の一部を移動して、前記複数の検出領域の少なくとも１つの位置を調整する位置調整装置をさらに備える露光装置。
【請求項５０】
請求項３３〜４９のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記物体上で前記第１方向に関して位置が異なる複数群のマークを、前記移動体を前記第１方向に移動して前記群毎に前記マーク検出系で検出する制御装置をさらに備え、前記複数群のマークのうち少なくとも１群のマークは、前記第２方向に関して位置が異なる複数のマークを含む露光装置。
【請求項５１】
請求項３３〜５０のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記移動体を前記第１方向に移動して、前記物体上で前記第１方向の位置が異なるマークを前記マーク検出系で検出するとともに、前記物体の前記第１方向の位置によって、前記マーク検出系で検出するマークの個数が異なる露光装置。
【請求項５２】
物体をエネルギビームで露光する露光装置であって、
前記物体を保持して所定の平面内で第１及び第２方向に可動な移動体と、
前記第２方向に関して位置が異なる複数の検出領域を有し、前記物体上の複数のマークを同時に検出可能なマーク検出系と、を備え、
前記移動体を前記第１方向に移動して、前記物体上で前記第１方向の位置が異なるマークを前記マーク検出系で検出するとともに、前記物体の前記第１方向の位置によって、前記マーク検出系で検出するマークの個数が異なる露光装置。
【請求項５３】
請求項５１又は５２に記載の露光装置において、
前記マーク検出系は、前記第１方向に移動される前記物体上で前記第２方向の位置がほぼ同一の複数のマークを、前記複数の検出領域の１つで検出する露光装置。
【請求項５４】
請求項５１〜５３のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記マーク検出系は、前記第１方向に移動される前記物体上での前記マークの前記第２方向の位置に応じて、前記複数の検出領域の前記第２方向の相対位置が調整される露光装置。
【請求項５５】
物体をエネルギビームで露光する露光装置であって、
前記物体を保持して所定の平面内で第１及び第２方向に可動であるとともに、前記平面とほぼ平行な一面に格子が周期的に配列される格子部が設けられる移動体と、
前記物体上のマークを検出するマーク検出系と、
前記格子の配列方向と交差する方向に関して位置が異なる複数のヘッドを有し、前記マークの検出動作時に前記格子部と対向するヘッドによって前記配列方向に関する前記移動体の位置情報を計測するエンコーダを有する計測装置と、を備える露光装置。
【請求項５６】
請求項５５に記載の露光装置において、
前記格子部は、前記第１及び第２方向に前記格子が周期的に配置される第１及び第２格子部を含み、前記エンコーダは、前記第２方向に関して位置が異なる複数の第１ヘッドを有し、前記第１格子部と対向する第１ヘッドによって前記移動体の前記第１方向の位置情報を計測する第１エンコーダと、前記第１方向に関して位置が異なる複数の第２ヘッドを有し、前記第２格子部と対向する第２ヘッドによって前記移動体の前記第２方向の位置情報を計測する第２エンコーダとを含む露光装置。
【請求項５７】
請求項５６に記載の露光装置において、
前記第１格子部及び第２格子部の少なくとも一方に起因して生じる前記エンコーダの計測誤差を補正する補正装置をさらに備える露光装置。
【請求項５８】
請求項３３〜５７のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記エネルギビームで照明されるパターンを前記物体上に投影する光学系と、
前記光学系の光学特性を調整する調整装置と、
前記マーク検出系による前記物体上の複数のマークの検出動作の途中で、前記マーク検出系で検出された前記複数のマークの一部の検出結果に基づいて前記調整装置を制御する制御装置と、をさらに備える露光装置。
【請求項５９】
光学系を介して物体をエネルギビームで露光する露光装置であって、
前記物体を保持して所定の平面内で第１及び第２方向に可動な移動体と、
前記物体上のマークを検出するマーク検出系と、
前記光学系の光学特性を調整する調整装置と、
前記マーク検出系による前記物体上の複数のマークの検出動作の途中で、前記マーク検出系で検出された前記複数のマークの一部の検出結果に基づいて前記調整装置を制御する制御装置と、を備える露光装置。
【請求項６０】
請求項３３〜５７のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記エネルギビームで照明されるパターンを前記物体上に投影する光学系と、
前記パターンの投影位置と前記マーク検出系の検出中心との位置関係の計測動作、及び前記マーク検出系によるマークの検出動作の一方を、他方の動作の少なくとも一部と並行して行う制御装置と、をさらに備える露光装置。
【請求項６１】
エネルギビームで照明されるパターンで光学系を介して物体を露光する露光装置であって、
前記物体を保持して所定の平面内で第１及び第２方向に可動な移動体と、
前記物体上のマークを検出するマーク検出系と、
前記パターンの投影位置と前記マーク検出系の検出中心との位置関係の計測動作、及び前記マーク検出系によるマークの検出動作の一方を、他方の動作の少なくとも一部と並行して行う制御装置と、を備える露光装置。
【請求項６２】
請求項６０又は６１に記載の露光装置において、
前記制御装置は、前記位置関係の計測動作中に前記マークの検出動作を行う露光装置。
【請求項６３】
請求項６０又は６１に記載の露光装置において、
前記制御装置は、前記マークの検出動作中に前記位置関係の計測動作を行う露光装置。
【請求項６４】
請求項３３〜６３のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記移動体とは別の移動体をさらに備え、
前記移動体と前記別の移動体とを所定距離以下に近接させる第１状態と、前記両移動体を離間させる第２状態とを設定可能であり、前記マーク検出系によるマークの検出動作中に前記第１及び第２状態の切り換えを行う露光装置。
【請求項６５】
物体をエネルギビームで露光する露光装置であって、
前記物体を保持して所定の平面内で第１及び第２方向に可動な移動体と、
前記物体上のマークを検出するマーク検出系と、
前記移動体と該移動体とは異なる別の移動体とを所定距離以下に近接させる第１状態と、前記両移動体を離間させる第２状態とを設定可能であり、前記マーク検出系によるマークの検出動作中に前記第１及び第２状態の切り換えを行う制御装置と、を備える露光装置。
【請求項６６】
請求項６４又は６５に記載の露光装置において、
前記マークの検出動作は、前記両移動体が前記第１状態にあるときに開始され、前記制御装置は、前記マークの検出動作中に前記第１状態を前記第２状態に切り換える露光装置。
【請求項６７】
所定の平面内で第１及び第２方向に可動な移動体に保持された物体をエネルギビームで露光する露光装置であって、
前記第２方向に関して位置が異なる複数の検出領域を有するマーク検出系と、
前記マーク検出系によって同時に検出可能な複数の基準マークが形成され、前記エネルギビームの照射位置を挟んで、前記第１方向に関して前記複数の検出領域とは反対側から、前記複数の検出領域の位置まで移動可能な基準部材と、を備える露光装置。
【請求項６８】
請求項６７に記載の露光装置において、
前記基準部材は、前記移動体又は該移動体とは独立して前記平面内で移動する別の移動体に取付けられている露光装置。
【請求項６９】
請求項３３〜６８のいずれか一項に記載の露光装置を用いて物体を露光することと、
前記露光された物体を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【請求項７０】
物体上のマークを検出するマーク検出装置であって、
第１軸及びこれと交差する第２軸を含む所定の平面内で移動するとともに、前記第１軸に平行な方向を周期方向とする格子を有する第１格子部と、前記第２軸に平行な方向を周期方向とする格子を有する第２格子部とがその一面に設けられた移動体上に載置された物体上のマークを検出するマーク検出系と、
前記第２軸に平行な方向に関して位置が異なる複数の第１ヘッドを有し、前記第１格子部と対向する第１ヘッドによって前記移動体の前記第１軸に平行な方向の位置情報を計測する第１軸エンコーダと、前記第１軸に平行な方向に関して位置が異なる複数の第２ヘッドを有し、前記第２格子部と対向する第２ヘッドによって前記移動体の前記第２軸に平行な方向の位置情報を計測する第２軸エンコーダと、を有する計測装置と、
前記計測装置による計測値に基づいて前記移動体の位置を制御しつつ、前記物体上のマークを前記マーク検出系を用いて検出する制御装置と、を備えるマーク検出装置。
【請求項７１】
物体上のマークを検出するマーク検出装置であって、
互いに異なる複数の位置にそれぞれマークが形成されている物体を保持して第１軸及びこれと交差する第２軸を含む所定の平面内で移動する移動体と、
前記第２軸に平行な方向に関して位置が異なる複数の検出領域を有し、前記物体上の互いに異なる位置のマークを同時に検出可能な複数のマーク検出系と、を備え、
前記物体を載置した前記移動体の前記平面内での位置によって、前記複数のマーク検出系により同時検出される前記物体上のマークの個数が異なるマーク検出装置。
【請求項７２】
物体上のマークを検出するマーク検出装置であって、
互いに異なる複数の位置にそれぞれマークが形成されている物体を保持して第１軸及びこれと交差する第２軸を含む所定の平面内で移動する移動体と、
前記物体上の互いに異なる位置のマークをそれぞれ検出する複数のマーク検出系と、
前記複数のマーク検出系と前記移動体に載置されている前記物体との間の、前記平面に垂直な前記複数のマーク検出系の光軸方向における相対位置関係を、該複数のマーク検出系間で同時に変更するフォーカス位置変更装置と、
前記フォーカス位置変更装置で前記光軸方向の相対位置関係を変更しつつ、前記物体上の互いに異なる位置に形成されたマークそれぞれを、各マークに対応する複数のマーク検出系を用いて同時に検出する制御装置と、を備えるマーク検出装置。
【請求項７３】
物体上にパターンを形成するパターン形成方法であって、
第１軸及びこれと交差する第２軸を含む所定の平面内で移動するとともに、前記第１軸に平行な方向を周期方向とする格子を有する第１格子部と、前記第２軸に平行な方向を周期方向とする格子を有する第２格子部とがその一面に設けられた移動体上に載置された物体上のマークを、マーク検出系を用いて検出する検出工程を含み、
前記検出工程では、前記マークの検出に際して、前記第２軸に平行な方向に関して位置が異なる複数の第１ヘッドを有し、前記第１格子部と対向する第１ヘッドによって前記移動体の前記第１軸に平行な方向の位置情報を計測する第１軸エンコーダと、前記第１軸に平行な方向に関して位置が異なる複数の第２ヘッドを有し、前記第２格子部と対向する第２ヘッドによって前記移動体の前記第２軸に平行な方向の位置情報を計測する第２軸エンコーダと、を有する計測装置による計測値に基づいて、前記移動体の位置を制御するパターン形成方法。
【請求項７４】
請求項７３に記載のパターン形成方法において、
前記パターンの光学系による投影位置と前記マーク検出系の検出中心との位置関係を、前記移動体上に形成された基準マークを用いて計測する計測工程をさらに含み、
前記計測工程では、前記位置関係を計測するときに、前記移動体の位置を、前記計測装置による計測値に基づいて制御するパターン形成方法。
【請求項７５】
物体上にパターンを形成するパターン形成方法であって、
第１軸及びこれと交差する第２軸を含む所定の平面内で移動する移動体上に、互いに異なる複数の位置にそれぞれマークが形成されている前記物体を載置する工程と、
前記第２軸に平行な方向に関して検出領域が異なる位置に配置された複数のマーク検出系を用いて、前記物体上の互いに異なる位置のマークを同時に検出する工程と、を含み、
前記移動体の前記平面内での位置によって、前記複数のマーク検出系により同時検出される前記物体上のマークの個数が異なるパターン形成方法。
【請求項７６】
光学系を用いて物体上にパターンを形成するパターン形成方法であって、
第１軸及びこれと交差する第２軸を含む所定の平面内で移動する移動体上に、前記物体を載置する工程と、
前記物体上に形成された複数のマークを、マーク検出系を用いて検出する工程と、
前記物体上に前記マーク検出系で検出すべきマークが残存している段階で、それまでに前記マーク検出系で検出された前記物体上の複数のマークの検出結果に基づいて、前記光学系の光学特性を調整する工程と、を含むパターン形成方法。
【請求項７７】
パターンを光学系を用いて物体上に投影するパターン形成方法であって、
第１軸及びこれと交差する第２軸を含む所定の平面内で移動する移動体上に、前記物体を載置する工程と、
前記光学系による前記パターンの投影位置とマーク検出系の検出中心との位置関係を計測する動作を開始してから該動作を完了するまでの間に、前記物体上のマークの検出動作を行う工程と、を含むパターン形成方法。
【請求項７８】
パターンを光学系を用いて物体上に投影するパターン形成方法であって、
第１軸及びこれと交差する第２軸を含む所定の平面内で移動する移動体上に、前記物体を載置する工程と、
前記移動体上に載置された前記物体上に形成された検出すべき複数のマークをマーク検出系を用いて検出する動作を開始してから該動作を完了する前までに、前記光学系による前記パターンの投影位置と前記マーク検出系の検出中心との位置関係の計測動作を行う工程と、を含むパターン形成方法。
【請求項７９】
物体上にパターンを形成するパターン形成方法であって、
第１軸及びこれと交差する第２軸を含む所定の平面内で移動する第１移動体上に、前記物体を載置する工程と、
前記第１移動体と前記平面内で前記第１移動体とは独立に移動する第２移動体とが所定距離以下に近接する近接状態にあるときに、前記第１移動体上に載置された前記物体上に形成されている検出すべき複数のマークのマーク検出系による検出動作を開始し、前記複数のマークの全ての検出動作を完了する前に、前記近接状態から前記両移動体が相互に離間する離間状態に状態切り換えが行われるように該両移動体を制御する工程と、を含むパターン形成方法。
【請求項８０】
物体上にパターンを形成するパターン形成方法であって、
第１軸及びこれと交差する第２軸を含む所定の平面内で移動する移動体上に、互いに異なる複数の位置にそれぞれマークが形成されている前記物体を載置する工程と、
複数のマーク検出系と前記移動体に載置されている前記物体との間の、前記平面に垂直な前記複数のマーク検出系の光軸方向における相対位置関係を、該複数のマーク検出系間で同時に変更しつつ、前記物体上の互いに異なる位置に形成されたマークそれぞれを、各マークに対応する複数のマーク検出系を個別に用いて、同時に計測する工程と、を含むパターン形成方法。
【請求項８１】
請求項７３〜８０のいずれか一項に記載のパターン形成方法において、
前記物体をエネルギビームで露光して、前記パターンを前記物体上に形成する工程をさらに含むパターン形成方法。
【請求項８２】
請求項７３〜８１のいずれか一項に記載のパターン形成方法を用いて、物体上にパターンを形成する工程と、
該パターンが形成された物体に処理を施す工程と、を含むデバイス製造方法。
【請求項８３】
物体をエネルギビームで露光する露光方法であって、
前記物体を所定の平面内で第１及び第２方向に可動な移動体上に載置する第１工程と、
前記第２方向に関して位置が異なる複数の検出領域を有するマーク検出系を用いて前記物体上のマークを検出する際に、前記第２方向に関して前記複数の検出領域を挟んで配置される一対の第１ヘッドを含む複数の第１ヘッドを有する第１エンコーダを含む計測装置を用い、前記移動体の前記平面とほぼ平行な一面に設けられ、それぞれ前記第１方向に格子が周期的に配列される一対の第１格子部の少なくとも一方と対向する前記第１ヘッドによって前記移動体の前記第１方向の位置情報を計測する第２工程と、を含む露光方法。
【請求項８４】
請求項８３に記載の露光方法において、
前記計測装置は、前記第１方向に関して位置が異なる複数の第２ヘッドを有する第２エンコーダをさらに含み、
前記第２工程では、前記移動体の一面に、前記第２方向に格子が周期的に配列される第２格子部と対向する前記第２ヘッドによって前記移動体の前記第２方向の位置情報を計測する露光方法。
【請求項８５】
請求項８３又は８４に記載の露光方法において、
前記移動体とは別の移動体の一面に、前記第２方向に離れて配置される一対の基準格子と、前記一対の基準格子の間に配置される複数の基準マークとを有する基準部材が設けられ、
前記一対の第１ヘッドによる前記一対の基準格子の検出、及び前記マーク検出系による前記複数の基準マークの検出を同時に実行する工程をさらに含む露光方法。
【請求項８６】
請求項８３〜８５のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記エンコーダによる前記移動体の位置情報の計測方向と異なる方向を含む複数の計測方向に関して、干渉計を用いて前記移動体の位置情報をさらに計測する露光方法。
【請求項８７】
請求項８６に記載の露光方法において、
前記エンコーダによる前記移動体の位置情報の計測方向と異なる方向は、前記平面内の方向と異なる方向を含む露光方法。
【請求項８８】
請求項８６又は８７に記載の露光方法において、
前記干渉計は、前記エンコーダによる前記移動体の位置情報の少なくとも１つの計測方向に関して前記移動体の位置情報を計測する露光方法。
【請求項８９】
請求項８３〜８８のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記エネルギビームによる前記物体の露光動作時に、前記計測装置によって前記移動体の位置情報が計測される露光方法。
【請求項９０】
請求項８３〜８９のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記物体上で前記第１方向に関して位置が異なる複数群のマークを、前記移動体を前記第１方向に移動して前記群毎に前記マーク検出系を用いて検出する露光方法。
【請求項９１】
請求項９０に記載の露光方法において、
前記複数群のマークのうち少なくとも１群のマークは、前記第２方向に関して位置が異なる複数のマークを含む露光方法。
【請求項９２】
請求項８３〜９１のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記移動体を前記第１方向に移動して、前記物体上で前記第１方向の位置が異なるマークを前記マーク検出系で検出するとともに、前記物体の前記第１方向の位置によって、前記マーク検出系で検出するマークの個数が異なる露光方法。
【請求項９３】
物体をエネルギビームで露光する露光方法であって、
所定の平面内で第１及び第２方向に可動な移動体上に前記物体を載置する第１工程と、
前記移動体を前記第１方向に移動して、前記物体上で前記第１方向の位置が異なるマークを検出する際に、前記第２方向に関して位置が異なる複数の検出領域を有するマーク検出系を用いて、前記物体の前記第１方向の位置によって、異なる個数のマークを検出する第２工程と、を含む露光方法。
【請求項９４】
請求項９２又は９３に記載の露光方法において、
前記マーク検出系は、前記第１方向に移動される前記物体上で前記第２方向の位置がほぼ同一の複数のマークを、前記複数の検出領域の１つで検出する露光方法。
【請求項９５】
請求項９２〜９４のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記マーク検出系は、前記第１方向に移動される前記物体上での前記マークの前記第２方向の位置に応じて、前記複数の検出領域の前記第２方向の相対位置が調整される露光方法。
【請求項９６】
物体をエネルギビームで露光する露光方法であって、
所定の平面内で第１及び第２方向に可動であるとともに、前記平面とほぼ平行な一面に格子が周期的に配列される格子部が設けられる移動体上に前記物体を載置する工程と、
前記物体上のマークを検出するマーク検出系による前記マークの検出動作時に、前記格子の配列方向と交差する方向に関して位置が異なる複数のヘッドを有するエンコーダを含む計測装置を用い、前記格子部と対向するヘッドによって前記配列方向に関する前記移動体の位置情報を計測する工程と、を含む露光方法。
【請求項９７】
請求項９６に記載の露光方法において、
前記格子部は、前記第１及び第２方向に前記格子が周期的に配置される第１及び第２格子部を含み、
前記エンコーダは、前記第２方向に関して位置が異なる複数の第１ヘッドを有し、前記第１格子部と対向する第１ヘッドによって前記移動体の前記第１方向の位置情報を計測する第１エンコーダと、前記第１方向に関して位置が異なる複数の第２ヘッドを有し、前記第２格子部と対向する第２ヘッドによって前記移動体の前記第２方向の位置情報を計測する第２エンコーダとを含む露光方法。
【請求項９８】
請求項９７に記載の露光方法において、
前記第１格子部及び第２格子部の少なくとも一方に起因して生じる前記エンコーダの計測誤差を補正する工程をさらに含む露光方法。
【請求項９９】
請求項８３〜９８のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記マーク検出系による前記物体上の複数のマークの検出動作の途中で、前記マーク検出系で検出された前記複数のマークの一部の検出結果に基づいて、前記エネルギビームで照明されるパターンを前記物体上に投影する光学系の光学特性を調整する工程を、さらに含む露光方法。
【請求項１００】
光学系を介して物体をエネルギビームで露光する露光方法であって、
所定の平面内で第１及び第２方向に可動な移動体上に前記物体を載置する工程と、
前記物体上の複数のマークの検出動作の途中で、それまでに検出された前記複数のマークの一部の検出結果に基づいて前記光学系の光学特性を調整する調整装置を制御する工程と、を含む露光方法。
【請求項１０１】
エネルギビームで照明されるパターンで光学系を介して物体を露光する露光方法であって、
所定の平面内で第１及び第２方向に可動な移動体上に前記物体を載置する第１工程と、
前記パターンの投影位置と前記物体上のマークを検出するマーク検出系の検出中心との位置関係の計測動作、及び前記マーク検出系によるマークの検出動作の一方を、他方の動作の少なくとも一部と並行して行う第２工程と、を含む露光方法。
【請求項１０２】
請求項１０１に記載の露光方法において、
前記第２工程では、前記位置関係の計測動作中に前記マークの検出動作を行う露光方法。
【請求項１０３】
請求項１０１に記載の露光方法において、
前記第２工程では、前記マークの検出動作中に前記位置関係の計測動作を行う露光方法。
【請求項１０４】
請求項８３〜１０３のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記移動体と該移動体とは別の移動体とを所定距離以下に近接させる第１状態と、前記両移動体を離間させる第２状態とを設定可能であり、
前記マーク検出系によるマークの検出動作中に前記第１及び第２状態の切り換えを行う露光方法。
【請求項１０５】
物体をエネルギビームで露光する露光方法であって、
所定の平面内で第１及び第２方向に可動な移動体上に前記物体を載置する工程と、
前記移動体と該移動体とは別の移動体とを所定距離以下に近接させる第１状態と、前記両移動体を離間させる第２状態とを設定可能であり、
前記物体上のマークを検出するマーク検出系によるマークの検出動作中に前記第１及び第２状態の切り換えを行う工程と、を含む露光方法。
【請求項１０６】
請求項１０４又は１０５に記載の露光方法において、
前記マークの検出動作は、前記両移動体が前記第１状態にあるときに開始され、前記マークの検出動作中に前記第１状態から前記第２状態への切り換えが行われる露光方法。
【請求項１０７】
請求項８３〜１０６のいずれか一項に記載の露光方法を用いて物体を露光することと、
前記露光された物体を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【請求項１】
物体上にパターンを形成するパターン形成装置であって、
前記物体を保持して第１軸及びこれと交差する第２軸を含む所定の平面内で移動するとともに、その一面に前記第１軸に平行な方向を周期方向とする格子を有する第１格子部が一対設けられた移動体と、
前記第２軸に平行な方向に関して検出領域の位置が異なる複数のマーク検出系と、
前記第２軸に平行な方向に関して前記複数の検出領域の両外側に１つずつ配置される一対の第１ヘッドを含む複数の第１ヘッドを有し、前記一対の第１格子部の少なくとも一方と対向する第１ヘッドによって、前記移動体の前記第１軸に平行な方向の位置情報を計測する第１軸エンコーダと、を備えるパターン形成装置。
【請求項２】
請求項１に記載のパターン形成装置において、
前記移動体の一面には、前記第２軸に平行な方向を周期方向とする格子を有する第２格子部がさらに設けられ、
前記第１軸に平行な方向に関して位置が異なる複数の第２ヘッドを有し、前記第２格子部と対向する第２ヘッドによって前記移動体の前記第２軸に平行な方向の位置情報を計測する第２軸エンコーダをさらに備えるパターン形成装置。
【請求項３】
請求項２に記載のパターン形成装置において、
前記複数のマーク検出系は、前記検出領域が固定の第１マーク検出系と、前記第２軸に平行な方向に関して前記第１マーク検出系の検出領域の両側にそれぞれ配置される前記検出領域の位置が前記第２軸に平行な方向に関して調整可能な少なくとも１対の第２マーク検出系とを含むパターン形成装置。
【請求項４】
請求項３に記載のパターン形成装置において、
前記複数の第２ヘッドの一部は、前記第１マーク検出系に取り付けられているパターン形成装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載のパターン形成装置において、
前記複数の第１ヘッドは、前記第１軸に平行な方向に関して前記一対の第１ヘッドと位置が異なり、かつ前記第２軸に平行な方向に関して位置が異なる第１及び第２群の第１ヘッドを含み、前記第１群の第１ヘッドはその少なくとも１つが前記一対の第１格子部の一方と対向し、前記第２群の第１ヘッドはその少なくとも１つが前記一対の第１格子部の他方と対向するパターン形成装置。
【請求項６】
物体上にパターンを形成するパターン形成装置であって、
前記物体を保持して第１軸及びこれと交差する第２軸を含む所定の平面内で移動するとともに、前記第１軸に平行な方向を周期方向とする格子を有する第１格子部と、前記第２軸に平行な方向を周期方向とする格子を有する第２格子部とがその一面に設けられた移動体と、
前記物体上のマークを検出する少なくとも１つのマーク検出系と、
前記第２軸に平行な方向に関して位置が異なる複数の第１ヘッドを有し、前記第１格子部と対向する第１ヘッドによって前記移動体の前記第１軸に平行な方向の位置情報を計測する第１軸エンコーダと、前記第１軸に平行な方向に関して位置が異なる複数の第２ヘッドを有し、前記第２格子部と対向する第２ヘッドによって前記移動体の前記第２軸に平行な方向の位置情報を計測する第２軸エンコーダと、を有する計測装置と、
前記計測装置による計測値に基づいて前記移動体の位置を制御しつつ、前記物体上のマークを前記マーク検出系を用いて検出する制御装置と、を備えるパターン形成装置。
【請求項７】
請求項６に記載のパターン形成装置において、
前記パターンの像を投影する光学系をさらに備え、
前記制御装置は、前記光学系による前記パターンの像の投影位置と前記マーク検出系の検出中心との位置関係を、前記移動体上の基準マークを用いて計測するときに、前記移動体の位置を、前記計測装置による計測値に基づいて制御するパターン形成装置。
【請求項８】
請求項７に記載のパターン形成装置において、
前記制御装置は、前記位置関係の計測動作を完了する前に、前記物体上のマークの検出動作を行うパターン形成装置。
【請求項９】
請求項７に記載のパターン形成装置において、
前記制御装置は、前記物体上で検出すべき複数のマークの検出動作を完了する前に、前記位置関係の計測動作を行うパターン形成装置。
【請求項１０】
請求項６〜９のいずれか一項に記載のパターン形成装置において、
前記マーク検出系は、固定されている第１マーク検出系と、該第１マーク検出系に対して相対的に位置調整可能な複数の第２マーク検出系とを含むパターン形成装置。
【請求項１１】
請求項３、４、１０のいずれか一項に記載のパターン形成装置において、
前記物体上の複数のマークの配置に基づいて、前記第２マーク検出系の位置を調整する位置調整装置をさらに備えるパターン形成装置。
【請求項１２】
請求項３、４、１０、１１のいずれか一項に記載のパターン形成装置において、
前記第２マーク検出系がその回動端部に取り付けられ、前記第１軸及び第２軸に直交する第３軸に平行な軸回りに回動するアーム部材を更に備えるパターン形成装置。
【請求項１３】
請求項３、４、１０〜１２のいずれか一項に記載のパターン形成装置において、
前記第２マーク検出系を、前記位置調整がなされた後で前記マークの検出動作を開始する前までに、その位置調整された状態を維持したまま固定する保持装置をさらに備えるパターン形成装置。
【請求項１４】
請求項３、４、１０〜１３のいずれか一項に記載のパターン形成装置において、
前記第１マーク検出系に対する前記第２マーク検出系の相対的な位置の計測動作を、前記移動体上の物体に対する露光を完了してから該物体を前記移動体上から搬出し、別の物体を搬入するまでの期間に行う計測制御装置をさらに備えるパターン形成装置。
【請求項１５】
請求項３、４、１０のいずれか一項に記載のパターン形成装置において、
前記平面内で前記移動体とは独立に移動する別の移動体と、
該別の移動体に搭載され、前記第２軸に平行な方向に離れて配置されかつ前記第１軸に平行な方向を周期方向とする一対の基準格子と、該一対の基準格子の間の領域に前記複数のマーク検出系によって同時に検出可能な複数の基準マークが形成された基準部材とをさらに備えるパターン形成装置。
【請求項１６】
請求項１５に記載のパターン形成装置において、
前記基準部材は、前記別の移動体にキネマティックに支持されているパターン形成装置。
【請求項１７】
請求項１５又は１６に記載のパターン形成装置において、
前記複数の基準マークを前記第１、第２マーク検出系で同時に検出することにより、前記第１マーク検出系に対する前記第２マーク検出系の相対的な位置計測が行われるパターン形成装置。
【請求項１８】
請求項１５又は１６に記載のパターン形成装置において、
前記移動体と前記別の移動体は、両者が所定距離以下に近接した第１状態と、両者が離間した第２状態とに切り換え可能であり、
前記パターンの像を投影する光学系と、
前記光学系による前記パターンの像の投影位置と前記第１マーク検出系の検出中心との位置関係の計測を、前記第１状態で開始し、かつ前記第２状態で終了する制御装置と、をさらに備えるパターン形成装置。
【請求項１９】
請求項１〜４、１０〜１８のいずれか一項に記載のパターン形成装置において、
前記複数のマーク検出系によるマークの同時計測は、前記物体上の複数のマークに対するフォーカス状態を同時に変更しつつ複数回行われるパターン形成装置。
【請求項２０】
請求項２〜１０のいずれか一項に記載のパターン形成装置において、
前記移動体上には、前記第１格子部が前記第２軸に平行な方向に関して所定間隔隔てて一対形成されるとともに、前記第２格子部が前記第１軸に平行な方向に関して所定間隔隔てて一対形成され、
前記一対の第１格子部にそれぞれ少なくとも１つが対向しかつ前記第２軸に平行な方向に関して位置が異なる複数の第１ヘッドを有する２つの第１軸エンコーダと、前記一対の第２格子部にそれぞれ少なくとも１つが対向しかつ前記第１軸に平行な方向に関して位置が異なる複数の第２ヘッドを有する２つの第２軸エンコーダとの計測値に基づいて、前記移動体の前記第１及び第２軸に平行な方向の位置情報、及び前記平面内の回転情報を計測する計測装置をさらに備えるパターン形成装置。
【請求項２１】
物体上にパターンを形成するパターン形成装置であって、
互いに異なる複数の位置にそれぞれマークが形成されている物体を保持して第１軸及びこれと交差する第２軸を含む所定の平面内で移動する移動体と、
前記第２軸に平行な方向に関して検出領域が異なる位置に配置され、前記物体上の互いに異なる位置のマークを同時に検出する複数のマーク検出系と、を備え、
前記移動体の前記平面内での位置によって、前記複数のマーク検出系により同時検出される前記物体上のマークの個数が異なるパターン形成装置。
【請求項２２】
請求項２１に記載のパターン形成装置において、
前記複数のマーク検出系はそれぞれ、前記移動体が前記第１軸に平行な方向に移動する動作と連動して、該各マーク検出系の検出領域内に順次配置される、前記第１軸と平行な方向に沿って配列された複数のマークを検出するパターン形成装置。
【請求項２３】
光学系を用いて物体上にパターンを形成するパターン形成装置であって、
前記物体を保持して第１軸及びこれと交差する第２軸を含む所定の平面内で移動する移動体と、
前記物体上に形成された複数のマークを検出するマーク検出系と、
前記光学系の光学特性を調整する調整装置と、
前記物体上に前記マーク検出系で検出すべきマークが残存している段階で、それまでに前記マーク検出系で検出された前記物体上の複数のマークの検出結果に基づいて、前記光学特性を調整するよう前記調整装置を制御する制御装置と、を備えるパターン形成装置。
【請求項２４】
請求項２３に記載のパターン形成装置において、
前記制御装置は、前記マーク検出系が前記物体上の検出すべきマークの半数を検出し終えた段階で、それらの検出結果に基づいて、前記光学特性を調整するように前記調整装置を制御するパターン形成装置。
【請求項２５】
パターンを光学系を用いて物体上に投影するパターン形成装置であって、
前記物体を保持して第１軸及びこれと交差する第２軸を含む所定の平面内で移動する移動体と、
前記移動体上に載置された前記物体上のマークを検出するマーク検出系と、
前記光学系による前記パターンの投影位置と前記マーク検出系の検出中心との位置関係を計測する動作を開始してから該動作を完了するまでの間に、前記物体上のマークの検出動作を行う制御装置と、を備えるパターン形成装置。
【請求項２６】
パターンを光学系を用いて物体上に投影するパターン形成装置であって、
前記物体を保持して第１軸及びこれと交差する第２軸を含む所定の平面内で移動する移動体と、
前記移動体上に載置された前記物体上のマークを検出するマーク検出系と、
前記物体上に形成された検出すべき複数のマークの検出動作を開始してから該動作を完了する前までに、前記光学系による前記パターンの投影位置と前記マーク検出系の検出中心との位置関係の計測動作を行う制御装置と、を備えるパターン形成装置。
【請求項２７】
物体上にパターンを形成するパターン形成装置であって、
前記物体を保持して第１軸及びこれと交差する第２軸を含む所定の平面内で移動する第１移動体と、
前記平面内で前記第１移動体とは独立に移動する第２移動体と、
前記第１移動体上に載置された前記物体上に形成されている検出すべき複数のマークを検出するマーク検出系と、
前記第１移動体と前記第２移動体とを所定距離以下に近接させる近接状態と、該両移動体を離間させる離間状態との間で状態切り換えを行わせるように、前記両移動体を制御する制御装置と、を備え、
前記制御装置は、前記物体上に形成された検出すべき複数のマークの検出動作が開始されてから該検出動作が完了する前までに、前記状態の切り換え動作を行うパターン形成装置。
【請求項２８】
請求項２７に記載のパターン形成装置において、
前記両移動体が前記近接状態にあるときに、前記マーク検出系による前記物体上の前記複数のマークの検出動作が開始され、
前記制御装置は、前記複数のマーク全ての検出動作が完了する前に、前記近接状態から前記離間状態となるように前記両移動体を制御するパターン形成装置。
【請求項２９】
物体上にパターンを形成するパターン形成装置であって、
互いに異なる複数の位置にそれぞれマークが形成されている物体を保持して第１軸及びこれと交差する第２軸を含む所定の平面内で移動する移動体と、
前記物体上の互いに異なる位置のマークをそれぞれ検出する複数のマーク検出系と、
前記複数のマーク検出系と前記移動体に載置されている前記物体との間の、前記平面に垂直な前記複数のマーク検出系の光軸方向における相対位置関係を、該複数のマーク検出系間で同時に変更するフォーカス位置変更装置と、
前記フォーカス位置変更装置で前記フォーカス方向の相対位置関係を変更しつつ、前記物体上の互いに異なる位置に形成されたマークそれぞれを、各マークに対応する複数のマーク検出系を用いて同時に検出する制御装置と、を備えるパターン形成装置。
【請求項３０】
請求項２１〜２９のいずれか一項に記載のパターン形成装置において、
前記平面とほぼ平行な前記移動体の一面に、前記第１軸及び前記第２軸に平行な方向に格子が周期的に配列される第１及び第２格子部が設けられ、
前記第２軸に平行な方向に関して位置が異なる複数の第１ヘッドを有し、前記第１格子部と対向する第１ヘッドによって前記第１軸に平行な方向に関する前記移動体の位置情報を計測する第１エンコーダと、前記第１軸に平行な方向に関して位置が異なる複数の第２ヘッドを有し、前記第２格子部と対向する第２ヘッドによって前記第２軸に平行な方向に関する前記移動体の位置情報を計測する第２エンコーダとを含む計測装置をさらに備えるパターン形成装置。
【請求項３１】
請求項３０に記載のパターン形成装置において、
前記第１及び第２格子部の少なくとも一方は、前記格子が周期的に配列される方向と直交する方向に離れて一対設けられ、
前記計測装置は、前記少なくとも一方の格子部に対応する前記第１及び第２エンコーダの少なくとも一方を一対含むパターン形成装置。
【請求項３２】
請求項１〜３１のいずれか一項に記載のパターン形成装置において、
前記物体をエネルギビームで露光することで、前記パターンが前記物体上に形成されるパターン形成装置。
【請求項３３】
物体をエネルギビームで露光する露光装置であって、
前記物体を保持して所定の平面内で第１及び第２方向に可動であり、かつ前記平面とほぼ平行な一面にそれぞれ前記第１方向に格子が周期的に配列される一対の第１格子部が設けられる移動体と、
前記第２方向に関して位置が異なる複数の検出領域を有するマーク検出系と、
前記第２方向に関して前記複数の検出領域を挟んで配置される一対の第１ヘッドを含む複数の第１ヘッドを有し、前記一対の第１格子部の少なくとも一方と対向する第１ヘッドによって前記移動体の前記第１方向の位置情報を計測する第１エンコーダを含む計測装置と、を備える露光装置。
【請求項３４】
請求項３３に記載の露光装置において、
前記移動体の一面に、前記第２方向に格子が周期的に配列される第２格子部が設けられ、
前記計測装置は、前記第１方向に関して位置が異なる複数の第２ヘッドを有し、前記第２格子部と対向する第２ヘッドによって前記移動体の前記第２方向の位置情報を計測する第２エンコーダを含む露光装置。
【請求項３５】
請求項３３又は３４に記載の露光装置において、
前記マーク検出系による検出動作時に、前記計測装置によって前記移動体の位置情報が計測される露光装置。
【請求項３６】
請求項３３〜３５のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記複数の第１ヘッドは、前記第１方向に関して前記一対の第１ヘッドと位置が異なるとともに、それぞれ前記第２方向に関して位置が異なる第１及び第２群の第１ヘッドを含み、前記第１群の第１ヘッドはその少なくとも１つが前記一対の第１格子部の一方と対向し、前記第２群の第１ヘッドはその少なくとも１つが前記一対の第１格子部の他方と対向する露光装置。
【請求項３７】
請求項３６に記載の露光装置において、
前記第１及び第２群の第１ヘッドは、前記第２方向に関して前記エネルギビームの照射位置を挟んで配置される露光装置。
【請求項３８】
請求項３３〜３７のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第２方向に離れて配置される一対の基準格子と、前記一対の基準格子の間に配置される複数の基準マークとを有する基準部材が一面に設けられる、前記移動体とは別の移動体をさらに備え、
前記一対の第１ヘッドによる前記一対の基準格子の検出、及び前記マーク検出系による前記複数の基準マークの検出が同時に実行可能である露光装置。
【請求項３９】
請求項３３〜３８のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記計測装置は、前記移動体の位置情報を計測する干渉計を含み、前記干渉計による前記移動体の位置情報の計測方向は、前記エンコーダによる前記移動体の位置情報の計測方向と異なる方向を含む露光装置。
【請求項４０】
請求項３９に記載の露光装置において、
前記干渉計は、前記平面内の方向と異なる方向に関して前記移動体の位置情報を計測する露光装置。
【請求項４１】
請求項３９又は４０に記載の露光装置において、
前記干渉計は、前記エンコーダによる前記移動体の位置情報の少なくとも１つの計測方向に関して前記移動体の位置情報を計測する露光装置。
【請求項４２】
請求項３３〜４１のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記計測装置は、前記移動体の位置情報を計測する干渉計を含み、
前記干渉計によって計測される位置情報を含む前記計測装置の計測情報に基づいて前記移動体の移動を制御する制御装置をさらに備える露光装置。
【請求項４３】
請求項４２に記載の露光装置において、
前記計測情報は、前記エンコーダによる前記移動体の位置情報の計測方向と異なる方向に関する、前記干渉計による前記移動体の位置情報を含む露光装置。
【請求項４４】
請求項３３〜４３のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記物体が対向して配置され、前記エネルギビームを射出する光学部材と、
前記移動体とは別の移動体と、
前記光学部材と前記物体の間を液体で満たして液浸領域を形成する液浸システムと、をさらに備え、
前記液浸領域は、前記移動体との交換で前記光学部材と対向して配置される前記別の移動体の一面との間に維持される露光装置。
【請求項４５】
請求項４４に記載の露光装置において、
前記複数の検出領域と前記液浸領域とは前記第１方向に離れて配置され、前記移動体の一面と前記別の移動体の一面との間で液浸領域を移動する露光装置。
【請求項４６】
請求項３３〜４５のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記エネルギビームによる前記物体の露光動作時に、前記計測装置によって前記移動体の位置情報が計測される露光装置。
【請求項４７】
請求項３３〜４６のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記マーク検出系は、少なくとも前記第２方向に関して前記複数の検出領域の相対位置が可変である露光装置。
【請求項４８】
請求項４７に記載の露光装置において、
前記マーク検出系は、前記検出領域を奇数個有し、前記奇数個の検出領域のうち、前記第２方向に関して中央に配置される検出領域を除く少なくとも１つが前記第２方向に可動である露光装置。
【請求項４９】
請求項４７又は４８に記載の露光装置において、
前記マーク検出系の一部を移動して、前記複数の検出領域の少なくとも１つの位置を調整する位置調整装置をさらに備える露光装置。
【請求項５０】
請求項３３〜４９のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記物体上で前記第１方向に関して位置が異なる複数群のマークを、前記移動体を前記第１方向に移動して前記群毎に前記マーク検出系で検出する制御装置をさらに備え、前記複数群のマークのうち少なくとも１群のマークは、前記第２方向に関して位置が異なる複数のマークを含む露光装置。
【請求項５１】
請求項３３〜５０のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記移動体を前記第１方向に移動して、前記物体上で前記第１方向の位置が異なるマークを前記マーク検出系で検出するとともに、前記物体の前記第１方向の位置によって、前記マーク検出系で検出するマークの個数が異なる露光装置。
【請求項５２】
物体をエネルギビームで露光する露光装置であって、
前記物体を保持して所定の平面内で第１及び第２方向に可動な移動体と、
前記第２方向に関して位置が異なる複数の検出領域を有し、前記物体上の複数のマークを同時に検出可能なマーク検出系と、を備え、
前記移動体を前記第１方向に移動して、前記物体上で前記第１方向の位置が異なるマークを前記マーク検出系で検出するとともに、前記物体の前記第１方向の位置によって、前記マーク検出系で検出するマークの個数が異なる露光装置。
【請求項５３】
請求項５１又は５２に記載の露光装置において、
前記マーク検出系は、前記第１方向に移動される前記物体上で前記第２方向の位置がほぼ同一の複数のマークを、前記複数の検出領域の１つで検出する露光装置。
【請求項５４】
請求項５１〜５３のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記マーク検出系は、前記第１方向に移動される前記物体上での前記マークの前記第２方向の位置に応じて、前記複数の検出領域の前記第２方向の相対位置が調整される露光装置。
【請求項５５】
物体をエネルギビームで露光する露光装置であって、
前記物体を保持して所定の平面内で第１及び第２方向に可動であるとともに、前記平面とほぼ平行な一面に格子が周期的に配列される格子部が設けられる移動体と、
前記物体上のマークを検出するマーク検出系と、
前記格子の配列方向と交差する方向に関して位置が異なる複数のヘッドを有し、前記マークの検出動作時に前記格子部と対向するヘッドによって前記配列方向に関する前記移動体の位置情報を計測するエンコーダを有する計測装置と、を備える露光装置。
【請求項５６】
請求項５５に記載の露光装置において、
前記格子部は、前記第１及び第２方向に前記格子が周期的に配置される第１及び第２格子部を含み、前記エンコーダは、前記第２方向に関して位置が異なる複数の第１ヘッドを有し、前記第１格子部と対向する第１ヘッドによって前記移動体の前記第１方向の位置情報を計測する第１エンコーダと、前記第１方向に関して位置が異なる複数の第２ヘッドを有し、前記第２格子部と対向する第２ヘッドによって前記移動体の前記第２方向の位置情報を計測する第２エンコーダとを含む露光装置。
【請求項５７】
請求項５６に記載の露光装置において、
前記第１格子部及び第２格子部の少なくとも一方に起因して生じる前記エンコーダの計測誤差を補正する補正装置をさらに備える露光装置。
【請求項５８】
請求項３３〜５７のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記エネルギビームで照明されるパターンを前記物体上に投影する光学系と、
前記光学系の光学特性を調整する調整装置と、
前記マーク検出系による前記物体上の複数のマークの検出動作の途中で、前記マーク検出系で検出された前記複数のマークの一部の検出結果に基づいて前記調整装置を制御する制御装置と、をさらに備える露光装置。
【請求項５９】
光学系を介して物体をエネルギビームで露光する露光装置であって、
前記物体を保持して所定の平面内で第１及び第２方向に可動な移動体と、
前記物体上のマークを検出するマーク検出系と、
前記光学系の光学特性を調整する調整装置と、
前記マーク検出系による前記物体上の複数のマークの検出動作の途中で、前記マーク検出系で検出された前記複数のマークの一部の検出結果に基づいて前記調整装置を制御する制御装置と、を備える露光装置。
【請求項６０】
請求項３３〜５７のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記エネルギビームで照明されるパターンを前記物体上に投影する光学系と、
前記パターンの投影位置と前記マーク検出系の検出中心との位置関係の計測動作、及び前記マーク検出系によるマークの検出動作の一方を、他方の動作の少なくとも一部と並行して行う制御装置と、をさらに備える露光装置。
【請求項６１】
エネルギビームで照明されるパターンで光学系を介して物体を露光する露光装置であって、
前記物体を保持して所定の平面内で第１及び第２方向に可動な移動体と、
前記物体上のマークを検出するマーク検出系と、
前記パターンの投影位置と前記マーク検出系の検出中心との位置関係の計測動作、及び前記マーク検出系によるマークの検出動作の一方を、他方の動作の少なくとも一部と並行して行う制御装置と、を備える露光装置。
【請求項６２】
請求項６０又は６１に記載の露光装置において、
前記制御装置は、前記位置関係の計測動作中に前記マークの検出動作を行う露光装置。
【請求項６３】
請求項６０又は６１に記載の露光装置において、
前記制御装置は、前記マークの検出動作中に前記位置関係の計測動作を行う露光装置。
【請求項６４】
請求項３３〜６３のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記移動体とは別の移動体をさらに備え、
前記移動体と前記別の移動体とを所定距離以下に近接させる第１状態と、前記両移動体を離間させる第２状態とを設定可能であり、前記マーク検出系によるマークの検出動作中に前記第１及び第２状態の切り換えを行う露光装置。
【請求項６５】
物体をエネルギビームで露光する露光装置であって、
前記物体を保持して所定の平面内で第１及び第２方向に可動な移動体と、
前記物体上のマークを検出するマーク検出系と、
前記移動体と該移動体とは異なる別の移動体とを所定距離以下に近接させる第１状態と、前記両移動体を離間させる第２状態とを設定可能であり、前記マーク検出系によるマークの検出動作中に前記第１及び第２状態の切り換えを行う制御装置と、を備える露光装置。
【請求項６６】
請求項６４又は６５に記載の露光装置において、
前記マークの検出動作は、前記両移動体が前記第１状態にあるときに開始され、前記制御装置は、前記マークの検出動作中に前記第１状態を前記第２状態に切り換える露光装置。
【請求項６７】
所定の平面内で第１及び第２方向に可動な移動体に保持された物体をエネルギビームで露光する露光装置であって、
前記第２方向に関して位置が異なる複数の検出領域を有するマーク検出系と、
前記マーク検出系によって同時に検出可能な複数の基準マークが形成され、前記エネルギビームの照射位置を挟んで、前記第１方向に関して前記複数の検出領域とは反対側から、前記複数の検出領域の位置まで移動可能な基準部材と、を備える露光装置。
【請求項６８】
請求項６７に記載の露光装置において、
前記基準部材は、前記移動体又は該移動体とは独立して前記平面内で移動する別の移動体に取付けられている露光装置。
【請求項６９】
請求項３３〜６８のいずれか一項に記載の露光装置を用いて物体を露光することと、
前記露光された物体を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【請求項７０】
物体上のマークを検出するマーク検出装置であって、
第１軸及びこれと交差する第２軸を含む所定の平面内で移動するとともに、前記第１軸に平行な方向を周期方向とする格子を有する第１格子部と、前記第２軸に平行な方向を周期方向とする格子を有する第２格子部とがその一面に設けられた移動体上に載置された物体上のマークを検出するマーク検出系と、
前記第２軸に平行な方向に関して位置が異なる複数の第１ヘッドを有し、前記第１格子部と対向する第１ヘッドによって前記移動体の前記第１軸に平行な方向の位置情報を計測する第１軸エンコーダと、前記第１軸に平行な方向に関して位置が異なる複数の第２ヘッドを有し、前記第２格子部と対向する第２ヘッドによって前記移動体の前記第２軸に平行な方向の位置情報を計測する第２軸エンコーダと、を有する計測装置と、
前記計測装置による計測値に基づいて前記移動体の位置を制御しつつ、前記物体上のマークを前記マーク検出系を用いて検出する制御装置と、を備えるマーク検出装置。
【請求項７１】
物体上のマークを検出するマーク検出装置であって、
互いに異なる複数の位置にそれぞれマークが形成されている物体を保持して第１軸及びこれと交差する第２軸を含む所定の平面内で移動する移動体と、
前記第２軸に平行な方向に関して位置が異なる複数の検出領域を有し、前記物体上の互いに異なる位置のマークを同時に検出可能な複数のマーク検出系と、を備え、
前記物体を載置した前記移動体の前記平面内での位置によって、前記複数のマーク検出系により同時検出される前記物体上のマークの個数が異なるマーク検出装置。
【請求項７２】
物体上のマークを検出するマーク検出装置であって、
互いに異なる複数の位置にそれぞれマークが形成されている物体を保持して第１軸及びこれと交差する第２軸を含む所定の平面内で移動する移動体と、
前記物体上の互いに異なる位置のマークをそれぞれ検出する複数のマーク検出系と、
前記複数のマーク検出系と前記移動体に載置されている前記物体との間の、前記平面に垂直な前記複数のマーク検出系の光軸方向における相対位置関係を、該複数のマーク検出系間で同時に変更するフォーカス位置変更装置と、
前記フォーカス位置変更装置で前記光軸方向の相対位置関係を変更しつつ、前記物体上の互いに異なる位置に形成されたマークそれぞれを、各マークに対応する複数のマーク検出系を用いて同時に検出する制御装置と、を備えるマーク検出装置。
【請求項７３】
物体上にパターンを形成するパターン形成方法であって、
第１軸及びこれと交差する第２軸を含む所定の平面内で移動するとともに、前記第１軸に平行な方向を周期方向とする格子を有する第１格子部と、前記第２軸に平行な方向を周期方向とする格子を有する第２格子部とがその一面に設けられた移動体上に載置された物体上のマークを、マーク検出系を用いて検出する検出工程を含み、
前記検出工程では、前記マークの検出に際して、前記第２軸に平行な方向に関して位置が異なる複数の第１ヘッドを有し、前記第１格子部と対向する第１ヘッドによって前記移動体の前記第１軸に平行な方向の位置情報を計測する第１軸エンコーダと、前記第１軸に平行な方向に関して位置が異なる複数の第２ヘッドを有し、前記第２格子部と対向する第２ヘッドによって前記移動体の前記第２軸に平行な方向の位置情報を計測する第２軸エンコーダと、を有する計測装置による計測値に基づいて、前記移動体の位置を制御するパターン形成方法。
【請求項７４】
請求項７３に記載のパターン形成方法において、
前記パターンの光学系による投影位置と前記マーク検出系の検出中心との位置関係を、前記移動体上に形成された基準マークを用いて計測する計測工程をさらに含み、
前記計測工程では、前記位置関係を計測するときに、前記移動体の位置を、前記計測装置による計測値に基づいて制御するパターン形成方法。
【請求項７５】
物体上にパターンを形成するパターン形成方法であって、
第１軸及びこれと交差する第２軸を含む所定の平面内で移動する移動体上に、互いに異なる複数の位置にそれぞれマークが形成されている前記物体を載置する工程と、
前記第２軸に平行な方向に関して検出領域が異なる位置に配置された複数のマーク検出系を用いて、前記物体上の互いに異なる位置のマークを同時に検出する工程と、を含み、
前記移動体の前記平面内での位置によって、前記複数のマーク検出系により同時検出される前記物体上のマークの個数が異なるパターン形成方法。
【請求項７６】
光学系を用いて物体上にパターンを形成するパターン形成方法であって、
第１軸及びこれと交差する第２軸を含む所定の平面内で移動する移動体上に、前記物体を載置する工程と、
前記物体上に形成された複数のマークを、マーク検出系を用いて検出する工程と、
前記物体上に前記マーク検出系で検出すべきマークが残存している段階で、それまでに前記マーク検出系で検出された前記物体上の複数のマークの検出結果に基づいて、前記光学系の光学特性を調整する工程と、を含むパターン形成方法。
【請求項７７】
パターンを光学系を用いて物体上に投影するパターン形成方法であって、
第１軸及びこれと交差する第２軸を含む所定の平面内で移動する移動体上に、前記物体を載置する工程と、
前記光学系による前記パターンの投影位置とマーク検出系の検出中心との位置関係を計測する動作を開始してから該動作を完了するまでの間に、前記物体上のマークの検出動作を行う工程と、を含むパターン形成方法。
【請求項７８】
パターンを光学系を用いて物体上に投影するパターン形成方法であって、
第１軸及びこれと交差する第２軸を含む所定の平面内で移動する移動体上に、前記物体を載置する工程と、
前記移動体上に載置された前記物体上に形成された検出すべき複数のマークをマーク検出系を用いて検出する動作を開始してから該動作を完了する前までに、前記光学系による前記パターンの投影位置と前記マーク検出系の検出中心との位置関係の計測動作を行う工程と、を含むパターン形成方法。
【請求項７９】
物体上にパターンを形成するパターン形成方法であって、
第１軸及びこれと交差する第２軸を含む所定の平面内で移動する第１移動体上に、前記物体を載置する工程と、
前記第１移動体と前記平面内で前記第１移動体とは独立に移動する第２移動体とが所定距離以下に近接する近接状態にあるときに、前記第１移動体上に載置された前記物体上に形成されている検出すべき複数のマークのマーク検出系による検出動作を開始し、前記複数のマークの全ての検出動作を完了する前に、前記近接状態から前記両移動体が相互に離間する離間状態に状態切り換えが行われるように該両移動体を制御する工程と、を含むパターン形成方法。
【請求項８０】
物体上にパターンを形成するパターン形成方法であって、
第１軸及びこれと交差する第２軸を含む所定の平面内で移動する移動体上に、互いに異なる複数の位置にそれぞれマークが形成されている前記物体を載置する工程と、
複数のマーク検出系と前記移動体に載置されている前記物体との間の、前記平面に垂直な前記複数のマーク検出系の光軸方向における相対位置関係を、該複数のマーク検出系間で同時に変更しつつ、前記物体上の互いに異なる位置に形成されたマークそれぞれを、各マークに対応する複数のマーク検出系を個別に用いて、同時に計測する工程と、を含むパターン形成方法。
【請求項８１】
請求項７３〜８０のいずれか一項に記載のパターン形成方法において、
前記物体をエネルギビームで露光して、前記パターンを前記物体上に形成する工程をさらに含むパターン形成方法。
【請求項８２】
請求項７３〜８１のいずれか一項に記載のパターン形成方法を用いて、物体上にパターンを形成する工程と、
該パターンが形成された物体に処理を施す工程と、を含むデバイス製造方法。
【請求項８３】
物体をエネルギビームで露光する露光方法であって、
前記物体を所定の平面内で第１及び第２方向に可動な移動体上に載置する第１工程と、
前記第２方向に関して位置が異なる複数の検出領域を有するマーク検出系を用いて前記物体上のマークを検出する際に、前記第２方向に関して前記複数の検出領域を挟んで配置される一対の第１ヘッドを含む複数の第１ヘッドを有する第１エンコーダを含む計測装置を用い、前記移動体の前記平面とほぼ平行な一面に設けられ、それぞれ前記第１方向に格子が周期的に配列される一対の第１格子部の少なくとも一方と対向する前記第１ヘッドによって前記移動体の前記第１方向の位置情報を計測する第２工程と、を含む露光方法。
【請求項８４】
請求項８３に記載の露光方法において、
前記計測装置は、前記第１方向に関して位置が異なる複数の第２ヘッドを有する第２エンコーダをさらに含み、
前記第２工程では、前記移動体の一面に、前記第２方向に格子が周期的に配列される第２格子部と対向する前記第２ヘッドによって前記移動体の前記第２方向の位置情報を計測する露光方法。
【請求項８５】
請求項８３又は８４に記載の露光方法において、
前記移動体とは別の移動体の一面に、前記第２方向に離れて配置される一対の基準格子と、前記一対の基準格子の間に配置される複数の基準マークとを有する基準部材が設けられ、
前記一対の第１ヘッドによる前記一対の基準格子の検出、及び前記マーク検出系による前記複数の基準マークの検出を同時に実行する工程をさらに含む露光方法。
【請求項８６】
請求項８３〜８５のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記エンコーダによる前記移動体の位置情報の計測方向と異なる方向を含む複数の計測方向に関して、干渉計を用いて前記移動体の位置情報をさらに計測する露光方法。
【請求項８７】
請求項８６に記載の露光方法において、
前記エンコーダによる前記移動体の位置情報の計測方向と異なる方向は、前記平面内の方向と異なる方向を含む露光方法。
【請求項８８】
請求項８６又は８７に記載の露光方法において、
前記干渉計は、前記エンコーダによる前記移動体の位置情報の少なくとも１つの計測方向に関して前記移動体の位置情報を計測する露光方法。
【請求項８９】
請求項８３〜８８のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記エネルギビームによる前記物体の露光動作時に、前記計測装置によって前記移動体の位置情報が計測される露光方法。
【請求項９０】
請求項８３〜８９のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記物体上で前記第１方向に関して位置が異なる複数群のマークを、前記移動体を前記第１方向に移動して前記群毎に前記マーク検出系を用いて検出する露光方法。
【請求項９１】
請求項９０に記載の露光方法において、
前記複数群のマークのうち少なくとも１群のマークは、前記第２方向に関して位置が異なる複数のマークを含む露光方法。
【請求項９２】
請求項８３〜９１のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記移動体を前記第１方向に移動して、前記物体上で前記第１方向の位置が異なるマークを前記マーク検出系で検出するとともに、前記物体の前記第１方向の位置によって、前記マーク検出系で検出するマークの個数が異なる露光方法。
【請求項９３】
物体をエネルギビームで露光する露光方法であって、
所定の平面内で第１及び第２方向に可動な移動体上に前記物体を載置する第１工程と、
前記移動体を前記第１方向に移動して、前記物体上で前記第１方向の位置が異なるマークを検出する際に、前記第２方向に関して位置が異なる複数の検出領域を有するマーク検出系を用いて、前記物体の前記第１方向の位置によって、異なる個数のマークを検出する第２工程と、を含む露光方法。
【請求項９４】
請求項９２又は９３に記載の露光方法において、
前記マーク検出系は、前記第１方向に移動される前記物体上で前記第２方向の位置がほぼ同一の複数のマークを、前記複数の検出領域の１つで検出する露光方法。
【請求項９５】
請求項９２〜９４のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記マーク検出系は、前記第１方向に移動される前記物体上での前記マークの前記第２方向の位置に応じて、前記複数の検出領域の前記第２方向の相対位置が調整される露光方法。
【請求項９６】
物体をエネルギビームで露光する露光方法であって、
所定の平面内で第１及び第２方向に可動であるとともに、前記平面とほぼ平行な一面に格子が周期的に配列される格子部が設けられる移動体上に前記物体を載置する工程と、
前記物体上のマークを検出するマーク検出系による前記マークの検出動作時に、前記格子の配列方向と交差する方向に関して位置が異なる複数のヘッドを有するエンコーダを含む計測装置を用い、前記格子部と対向するヘッドによって前記配列方向に関する前記移動体の位置情報を計測する工程と、を含む露光方法。
【請求項９７】
請求項９６に記載の露光方法において、
前記格子部は、前記第１及び第２方向に前記格子が周期的に配置される第１及び第２格子部を含み、
前記エンコーダは、前記第２方向に関して位置が異なる複数の第１ヘッドを有し、前記第１格子部と対向する第１ヘッドによって前記移動体の前記第１方向の位置情報を計測する第１エンコーダと、前記第１方向に関して位置が異なる複数の第２ヘッドを有し、前記第２格子部と対向する第２ヘッドによって前記移動体の前記第２方向の位置情報を計測する第２エンコーダとを含む露光方法。
【請求項９８】
請求項９７に記載の露光方法において、
前記第１格子部及び第２格子部の少なくとも一方に起因して生じる前記エンコーダの計測誤差を補正する工程をさらに含む露光方法。
【請求項９９】
請求項８３〜９８のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記マーク検出系による前記物体上の複数のマークの検出動作の途中で、前記マーク検出系で検出された前記複数のマークの一部の検出結果に基づいて、前記エネルギビームで照明されるパターンを前記物体上に投影する光学系の光学特性を調整する工程を、さらに含む露光方法。
【請求項１００】
光学系を介して物体をエネルギビームで露光する露光方法であって、
所定の平面内で第１及び第２方向に可動な移動体上に前記物体を載置する工程と、
前記物体上の複数のマークの検出動作の途中で、それまでに検出された前記複数のマークの一部の検出結果に基づいて前記光学系の光学特性を調整する調整装置を制御する工程と、を含む露光方法。
【請求項１０１】
エネルギビームで照明されるパターンで光学系を介して物体を露光する露光方法であって、
所定の平面内で第１及び第２方向に可動な移動体上に前記物体を載置する第１工程と、
前記パターンの投影位置と前記物体上のマークを検出するマーク検出系の検出中心との位置関係の計測動作、及び前記マーク検出系によるマークの検出動作の一方を、他方の動作の少なくとも一部と並行して行う第２工程と、を含む露光方法。
【請求項１０２】
請求項１０１に記載の露光方法において、
前記第２工程では、前記位置関係の計測動作中に前記マークの検出動作を行う露光方法。
【請求項１０３】
請求項１０１に記載の露光方法において、
前記第２工程では、前記マークの検出動作中に前記位置関係の計測動作を行う露光方法。
【請求項１０４】
請求項８３〜１０３のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記移動体と該移動体とは別の移動体とを所定距離以下に近接させる第１状態と、前記両移動体を離間させる第２状態とを設定可能であり、
前記マーク検出系によるマークの検出動作中に前記第１及び第２状態の切り換えを行う露光方法。
【請求項１０５】
物体をエネルギビームで露光する露光方法であって、
所定の平面内で第１及び第２方向に可動な移動体上に前記物体を載置する工程と、
前記移動体と該移動体とは別の移動体とを所定距離以下に近接させる第１状態と、前記両移動体を離間させる第２状態とを設定可能であり、
前記物体上のマークを検出するマーク検出系によるマークの検出動作中に前記第１及び第２状態の切り換えを行う工程と、を含む露光方法。
【請求項１０６】
請求項１０４又は１０５に記載の露光方法において、
前記マークの検出動作は、前記両移動体が前記第１状態にあるときに開始され、前記マークの検出動作中に前記第１状態から前記第２状態への切り換えが行われる露光方法。
【請求項１０７】
請求項８３〜１０６のいずれか一項に記載の露光方法を用いて物体を露光することと、
前記露光された物体を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【図２６】
【図２７】
【図２８】
【図２９】
【図３０】
【図３１】
【図３２】
【図３３】
【図３４】
【図３５】
【図３６】
【図３７】
【図３８】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【図２６】
【図２７】
【図２８】
【図２９】
【図３０】
【図３１】
【図３２】
【図３３】
【図３４】
【図３５】
【図３６】
【図３７】
【図３８】
【公開番号】特開２０１２−１１９７０５（Ｐ２０１２−１１９７０５Ａ）
【公開日】平成２４年６月２１日（２０１２．６．２１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１２−７３３５（Ｐ２０１２−７３３５）
【出願日】平成２４年１月１７日（２０１２．１．１７）
【分割の表示】特願２００８−５０１７４４（Ｐ２００８−５０１７４４）の分割
【原出願日】平成１９年２月２１日（２００７．２．２１）
【出願人】（０００００４１１２）株式会社ニコン (12,601)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年６月２１日（２０１２．６．２１）
【国際特許分類】
【出願日】平成２４年１月１７日（２０１２．１．１７）
【分割の表示】特願２００８−５０１７４４（Ｐ２００８−５０１７４４）の分割
【原出願日】平成１９年２月２１日（２００７．２．２１）
【出願人】（０００００４１１２）株式会社ニコン (12,601)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]