説明

Fターム[2F065LL34]の内容

光学的手段による測長装置 (194,290) | 光学系 (17,149) | 偏光関連要素 (1,855) | 偏光器 (729) | 検光子として (184)

Fターム[2F065LL34]に分類される特許

1 - 20 / 184



【課題】被計測物を精度よく計測することができる3次元計測装置およびそれに用いられる照明装置を提供する。
【解決手段】3次元計測装置1は、被計測物8に円偏光を照射する照明手段2と、照明手段2を移動させる移動手段3とを備える。また、3次元計測装置1は、被計測物8の被照射面からの反射光を受けて上記被照射面を撮像する撮像手段4と、撮像手段4で撮像された撮像画像を用いて反射光の偏光状態を検出し、被計測物8の被照射面の向きを求める演算手段5とをさらに備える。照明手段2は、円偏光を被計測物8の一部に照射する。移動手段3は、被計測物8において被照射面の位置が変わるように照明手段2を移動させる。 (もっと読む)


【課題】微弱信号を増幅可能な増幅装置を提供する。
【解決手段】増幅装置は、被測定系の観測量^Aを測定する際に、測定器と、初期状態が事前選択された被測定系を相互作用させ、次に被測定系の終状態を事後選択し、測定器の波動関数ξ(p)を用いて物理量の測定を行う。被測定系の量子状態の事前選択状態、事後選択状態それぞれのベクトルを|i>、|f>とするとき、式(1)の弱値Aが既知であり、A=<f|^A|i>/<f|i>…(1)、測定器と被測定系の相互作用ハミルトニアンHが、測定器の運動量演算子^pおよび結合係数g(ただしg>0)を用いて式(2)で与えられ、H=g・δ(t−t)・^A・^p…(2)、^A=1のときに、測定器は、波動関数ξ(p)が運動量表示で実質的に式(3)となる。
(もっと読む)


【課題】空気によって少なくとも部分的に吸収される光を使用するよう設計され、かつ、より能率的なパージングシステムを有する、光学ツールのための方法を開発する。
【解決手段】試験体の測定のための方法において、該試験体の反射率測定データおよび分光偏光解析データを測定する工程と、該反射率測定データから、該試験体上に形成された窒化酸化物ゲート誘電体の厚さを判定する工程と、該厚さおよび該分光偏光解析データから、窒化酸化物ゲート誘電体の屈折率を判定する工程と、該屈折率から、該窒化酸化物ゲート誘電体の窒素濃度を判定する工程と、を含む。 (もっと読む)


【課題】画像処理の負担を軽減し、容易かつ正確に切断面を区別することのできる、新規の切断面の検出方法を提供する。
【解決手段】第1の偏光フィルタ2の偏光方向2aを所定の方向に向けて第1の偏光フィルタ2の偏光方向2aと第2の偏光フィルタ4の偏光方向4aを直交させ、照明光1を第1の偏光フィルタ2を透過させ試料3の切断面3b,3cで反射させてから第2の偏光フィルタ4を透過させデジタルカメラ5により撮影して第1の画像を取得し、第1の偏光フィルタ2の偏光方向2aを所定の方向から45度傾かせて第2の画像を取得し、第1の偏光フィルタ2の偏光方向2aと第2の偏光フィルタ4の偏光方向4aを平行にして第3の画像を取得し、第1、第2、第3の画像を加算する。 (もっと読む)


【課題】高感度の分光散乱計を提供する。
【解決手段】半導体ウェハ上の回折構造体からの回折の前に、必要な場合は、分光反射率計または分光エリプソメータを使って構造体の下に位置する膜の膜厚と屈折率とをまず測定する。そして、厳密なモデルを使って回折構造体の強度またはエリプソメトリックな署名を計算する。次に、偏光放射線および広帯域放射線を用いた分光散乱計を使って回折構造体を測定して回折構造体の強度またはエリプソメトリックな署名を得る。この署名をデータベース内の署名と適合させて構造体の格子型パラメータを判定する。 (もっと読む)


【課題】 エンコーダで位置を計測しつつ、移動体を所望の方向へ精度良く駆動する。
【解決手段】 駆動装置により、ウエハステージWSTのY軸方向の位置情報を計測するエンコーダ62Aの計測値とそのエンコーダによって計測されるスケール39Y1の平面度に関する情報とに基づいて、ウエハステージWSTがY軸方向に駆動される。この場合、駆動装置は、そのエンコーダの計測値に含まれるスケールの平面度に起因する計測誤差をスケールの平面度に関する情報に基づいて補正した補正後の計測値に基づいて、ウエハステージを所定方向に駆動することが可能である。従って、スケールの凹凸に影響を受けることなく、エンコーダを用いてウエハステージを精度良く所定方向に駆動することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】対象物が太陽光で照らされた屋外のように、多様性や変化に富んだ環境下において、画像中の対象物を10画素以下の少ない画素から、誤認することなく検出することができるマーカ、マーカ検出方法および装置を提供する。
【解決手段】対象物1の表面に取り付けたマーカ10であって、乱反射材からなる内層12と、内層の外側に取り付けられた偏光フィルムからなる外層14とを有し、外光2を乱反射し、地表に対し水平、垂直、又は斜めの偏光3に変換して放射する。 (もっと読む)


【課題】真空雰囲気中で測定対象物を精度良く測定でき、光ファイバを着脱しても、測定精度に影響の無いエリプソメータを提供する。
【構成】投光部13と受光部14を筺体11の内部に配置し、発光装置12を筺体11の外部に配置し、光配線装置18によって、発光装置12と投光部13とを光接続する。投光部13は入射光を偏光して測定光を生成し、測定対象物7に照射し、反射光を受光部14によって受光して筺体11の外部に配置された分析装置15へ送光すると、分析装置15で膜厚が求められる。測定対象物7を真空雰囲気中で測定でき、光配線装置18と投光部13とを着脱しても、相対的に同じ位置で仮固定され、着脱が測定精度に影響を与えない。 (もっと読む)


【課題】本発明は、実際の道路環境において、反射光(楕円偏光)の楕円軸が車両の車軸方向あるいは高さ方向に対して傾いている場合であっても、正確に路肩を検出することができる新規な車両運転支援装置を提供することを目的とする。
【解決手段】偏光撮像手段の画素毎に直交する2つの偏光方向をもつ偏光素子を設け、該偏光素子の偏光検出軸を所定の角度範囲で変更させながら、2つの偏光方向に対応する光強度の比を監視し、当該光強度比が最初の極値に達したときの光強度に基づいて偏光状態特徴量を算出する。この偏光状態特徴量が所定の閾値を超える領域を路肩として検出し、その位置情報に基づいて、操舵制御手段、走行速度制御手段、警告手段等を制御することによって車両の運転支援を行う。 (もっと読む)


【課題】測定対象物の断面積を精度良く測定する。
【解決手段】変位測定装置では、測定対象物が載置されている範囲を含む変位測定範囲の変位を測定し、測定された変位に平準化処理を実行して第1処理情報を生成し、第1処理情報から断面積測定範囲を決定する。変位測定装置は、断面積測定範囲における前記変位情報から測定対象物の断面積を検出する。第1処理情報から断面積測定範囲を決定することで、配線パターン等などによって生じるノイズを除去することができ、断面積測定範囲を正確に決定することができる。 (もっと読む)


【課題】測定対象物の変位情報を精度良く測定する。
【解決手段】変位測定装置では、ガラス板及び測定対象物に対して垂直方向に光を出射し、当該光と同軸方向に反射される反射光を複屈折性のクリスタル及び偏光板を用いて受光し、反射光に含まれる各反射光成分に応じた反射面の変位の複数個を、各反射光成分の反射強度に関連付けて検出する。変位測定装置では、検出される変位のうち、最も高い反射強度の得られた変位Z1と、変位Z1の次に高い反射強度の得られた変位Z2と、の差である差分変位をガラス板の同軸方向の厚さに設定された基準変位ZKと比較し、差分変位が基準変位ZKよりも小さい場合、変位Z1を測定対象物までの変位Zと判断し、差分変位が基準変位ZK以上である場合、変位Z1と変位Z2のうちの短いものを測定対象物までの変位Zと判断する。 (もっと読む)


【課題】同じ測定箇所で位相差値と厚みデータとを測定することで、複屈折や厚み方向位相差値Rthをより精度よく得ることができる光学測定装置を提供する。
【解決手段】光学測定装置Mは、光学フィルムSに光L1を入射する投光器30と、投光器30から光学フィルムSに入射された入射光L1を受光する受光器34と、受光器34によって受光された透過光L1から光学フィルムSの面内位相差値R0を算出する位相差R0算出部11と、位相差R0算出部11で面内位相差値R0を算出するのに用いた入射光L1と同じ入射光L1を用いて光学フィルムSの厚みデータdを算出する厚み算出部12とを備えている。受光器34は、2つのファイバ部8a,8bに分岐される光ファイバ8を含んでおり、一方のファイバ部8aが位相差R0算出部11に接続され、他方のファイバ部8bが厚み算出部12に接続されている。 (もっと読む)


【課題】検査装置の検査情報とレビュー装置で取得した観察情報とを用い、欠陥の高さ、屈折率、材質の情報を取得して欠陥材質・屈折率分析や、微細なパターン形状の三次元解析を行う方法、並びにこれを搭載した欠陥観察装置を提供する。
【解決手段】試料上の欠陥を観察する方法において、光が照射された試料からの反射・散乱光を受光した検出器からの検出信号を処理して検出した検査結果の情報を用いて観察対象の欠陥が存在する位置を走査電子顕微鏡で撮像して画像を取得し、この取得した観察対象の欠陥の像を用いて欠陥のモデルを作成し、作成された欠陥のモデルに対して光を照射したときに欠陥モデルから発生する反射・散乱光を検出器で受光した場合のこの検出器の検出値を算出し、この算出した検出値と実際に試料からの反射・散乱光を受光した検出器の検出値とを比較して観察対象の欠陥の高さ又は材質又は屈折率に関する情報を求めるようにした。 (もっと読む)


【課題】記録紙の種類を詳細に判別することのできる小型の光学センサを低コストで提供する。
【解決手段】第1の偏光方向の直線偏光の光を、記録媒体に照射する光照射系と、前記光照射系より照射された光のうち、前記記録媒体において正反射された光を検出する正反射光検出系と、前記光照射系より照射された光のうち、前記記録媒体において拡散反射された光を検出する前記第1の偏光方向に直交する第2の偏光方向の光を透過する光学素子を備えた拡散反射光検出系と、を有する測定系を複数有していることを特徴とする光学センサを提供することにより上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】光弾性を有する板状体の欠陥を良好に検出可能な欠陥検出装置を提供することができる。
【解決手段】欠陥検出装置は、光弾性を有する板状体Pに光を透過させることにより、該板状体Pの欠陥を検出する。欠陥検出装置は、板状体Pより前に光が透過する直線偏光子2と、板状体Pより後に光が透過する1/4波長板3aと、1/4波長板3aより後に光が入射し、透過軸が1/4波長板3aの遅相軸に対して45度傾いている直線偏光子3bと、を有する。 (もっと読む)


【課題】回折構造体の測定パラメータモデルを利用する分光散乱システムおよび方法を提供する。
【解決手段】モデルの固有値を事前計算し、記憶し、ある共通の特性をもつ他の構造体に対して後に再利用する。1つ以上のパラメータの値を求めるために用いられる散乱データは、下敷フィルム特性に対して感度が低くなる波長におけるデータだけに制限することが可能である。代表的な構造体をスラブ200’(i)のスタックにスライスし、各スラブの近似を行うため四角形ブロック210,212,214,216,218のアレイを作成することによって三次元グレーティングに対するモデルを構築することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】テクスチャ構造を有する対象物上に形成された薄膜の形状を容易かつ高精度に取得する。
【解決手段】膜形状取得装置1では、上面に複数のテクスチャ凸部を有する基板9上に形成されたシリコン膜の光学モデルにおいて、複数のテクスチャ凸部に一致する薄膜凹部およびその上方に位置する薄膜凸部が設定される。そして、薄膜凸部、薄膜凹部、および、薄膜凸部と薄膜凹部との間の中間部の形状を表すパラメータ群に含まれる各パラメータを有効膜厚にて表現し、有効膜厚を変更することにより各パラメータの値を変更して理論スペクトルの測定スペクトルに対するフィッティングが行われる。これにより、シリコン膜の形状を容易かつ高精度に取得することができる。 (もっと読む)


【課題】周囲の気体の屈折率変動の影響を低減させて、ステージの位置決め精度等を向上できる露光装置である。
【解決手段】投影光学系(PL)を介してウエハステージ(WST)上のウエハ(W)に露光用の照明光を照射して、ウエハ(W)に所定のパターンを形成する露光装置であって、ウエハステージ(WST)に設けられたスケールと、このスケールの位置情報を検出する複数のXヘッド(66)と、複数のXヘッド(66)を一体的に支持し、線膨張率がウエハステージ(WST)の本体部よりも小さい計測フレーム(21)と、複数のXヘッド(64)の検出結果からウエハステージ(WST)の変位情報を求める制御装置とを備える。 (もっと読む)


【課題】炭化珪素基板又は炭化珪素基板に形成されたエピタキシャル層に存在する欠陥を検出し、検出された欠陥を分類する検査装置を実現する。
【解決手段】本発明では、微分干渉光学系を含む走査装置を用いて、炭化珪素基板の表面又はエピタキシャル層の表面を走査する。炭化珪素基板からの反射光はリニアイメージセンサ(23)により受光され、その出力信号は信号処理装置(11)に供給する。信号処理装置は、炭化珪素基板表面の微分干渉画像を形成する2次元画像生成手段(32)を有する。基板表面の微分干渉画像は欠陥検出手段(34)に供給されて欠陥が検出される。検出された欠陥の画像は、欠陥分類手段(36)に供給され、欠陥画像の形状及び輝度分布に基づいて欠陥が分類される。欠陥分類手段は、特有の形状を有する欠陥像を識別する第1の分類手段(50)と、点状の低輝度欠陥像や明暗輝度の欠陥像を識別する第2の分類手段(51)とを有する。 (もっと読む)


1 - 20 / 184