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Fターム[2F065BB03]の内容

光学的手段による測長装置 (194,290) | 対象物−形態;性質 (11,481) | 平面平板(長手方向を特定できない) (2,611) | 円盤(磁気ディスク、半導体ウエハ等) (357)

Fターム[2F065BB03]に分類される特許

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【課題】精度と信頼性の高い潤滑剤の塗膜状態の測定を行う潤滑剤塗膜計測装置を提供する。
【解決手段】光を一対の物体の接触部分に照射して干渉縞を発生させる光源40と、干渉縞の分光像を発生させる分光器36と、この分光器で発生した分光像を拡大する顕微鏡38と、顕微鏡で拡大された分光像を高速撮影する高速度カメラ34と、高速度カメラを接触部分に沿って移動させる高速度カメラ移動手段46と、高速度カメラから得た高速撮影データに基づいて油膜の状態を計測する演算手段50とを備えている。 (もっと読む)


【課題】 サーボ信号に基づく評価値を用いて光ディスクの光透過層の表面の評価を行う際に、サーボ残差とデータ復号エラーの発生量との相関関係が低いために評価の精度が低いという課題を解決する。
【解決手段】 フォーカスまたはトラッキングのサーボ信号を検出し、検出された前記サーボ信号とその検出時間から前記サーボ信号の推移を検出し、前記サーボ信号の推移から得られたピークのうち、所定の閾値を超えた部分について、前記所定の閾値からのピーク高さをその継続時間と線速度との積で算出される距離で積分し、積分によって得られた積分値を合計して評価値を算出し、該評価値とデータ復号エラーの発生量との相関関係に基づいて、前記光ディスクの光透過層の表面の凹凸を評価する。 (もっと読む)


【課題】半導体ウェーハなどの円盤状の測定対象物の端面の形状をその投影像に基づいて測定する場合に,その端面に付着した異物の影響を除去して正しい形状測定を行うことができること。
【解決手段】カメラによる撮像画像に対する画像処理によって前記測定部の輪郭位置の分布情報(元の輪郭形状情報)を導出し(S4),その輪郭形状情報に対する近似曲線を算出し(S5),前記元の輪郭形状情報の中から,前記に対する残差が予め定められた許容範囲内であるものを真の輪郭形状情報として抽出する(S6)。 (もっと読む)


【課題】本発明は、ガラス基板の製造工程で生じる内包物と表面に含まれる凹欠陥および凸欠陥とを区別することで、ガラス基板の歩留まりを向上させることが可能な、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスクを提供することを目的としている。
【解決手段】本発明にかかる磁気ディスク用ガラス基板100の製造方法は、基板状態測定工程S200と、欠陥面内位置特定工程S202と、面内位置を特定した欠陥が磁気ディスク用ガラス基板100の表面にあるか否かを、結像手段が面内位置で結像する像の数に基づいて判断する表面欠陥判断工程S204と、表面欠陥判断工程S204の結果に基づいて磁気ディスク用ガラス基板100を良品であるか否かを判定する良品判定工程S206と、を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】半導体ウェーハなどの円盤状の測定対象物の端面の形状をその投影像に基づいて測定する場合に,測定対象物の投影像に画像ボケが生じても正しい形状測定を行うことができること。
【解決手段】厚み計測センサ20により,測定部における基準位置Poの厚みを計測し,画像処理装置10により,測定部の投影像に対する画像処理によって測定部の第1の輪郭形状情報を導出し,さらに,厚み計測センサ20により計測された厚みと測定部の投光方向R1における寸法とに基づいて,前記第1の輪郭形状情報から特定される厚み分布を補正することにより,前記第1の輪郭形状情報を補正して補正後の第2の輪郭形状情報を出力する。 (もっと読む)


【課題】ロボットに備えられたアームの絶対角度をより容易かつ高精度に検出することの
できる回転角度検出装置、及び該回転角度検出装置を備えるロボットのアーム回動機構、
及び該アーム回動機構を採用したロボットを提供する。
【解決手段】基台11の上面11Aには基台11内のモータにより回動される回転軸AX
1に固定される回転体としての連結軸12が設けられている。基台11の上面11Aには
反射型光センサ21を配設し、連結軸12の下面12Aには中心が軸心C1に一致する有
底円筒形状の反射体20を固定する。反射体20の円筒側壁20Bの下面には、その底部
20Aに対して傾斜を有する反射面20sが形成されている。反射型光センサ21から発
せられる光L1の反射面20sによる反射光L2の光量が、反射面20sと反射型光セン
サ21との対向距離Dにより変化することを利用して、基台11に対する連結軸12の回
転角度を絶対角度として得る。 (もっと読む)


【課題】高いパターン欠陥検出精度を有する表面検査装置を提供すること。
【解決手段】被検査基板14に所定の方向に偏光された光を照射する照明光源装置11と、前記被検査基板で反射された光により、前記被検査基板の表面像を検出する撮像素子19と、前記撮像素子の光入射側に配置され前記所定の方向と略直交する方向の偏光を透過する検光子17と、前記照明光源装置と前記検光子との間に配置された反射鏡13、15とを有し、前記反射鏡の有効光束に対するFナンバーが4.5以上である表面検査装置100。 (もっと読む)


【課題】パターンドメディアの検査方法において、ナノインプリントのプロセス管理を目的とした場合には、パターンの正確な形状を計測する必要があり、製品の品質管理が目的の場合には、製品全数を検査する必要があるが、SEMやAFMを用いた方法では、これらの要求を満たすことができない。
【解決手段】磁性体のパターンが形成されたハードディスクメディア表面に複数の波長を含む光を照射し、ハードディスクメディアからの反射光の強度を波長毎に検出する(S102)。次に、検出した反射光の強度から分光反射率を算出し(S104)、算出した分光反射率に基づいてハードディスクメディア上に形成されたパターンの形状を検出する(S110)。 (もっと読む)


【課題】円盤状の測定対象物の端部の形状をその投影像に基づいて測定する場合に,投光方向と測定対象物とを平行な状態に調節して正しい形状測定を行えること。
【解決手段】測定対象物1の端部に対し平行光を投光する投光部と投光方向R1に対向する方向R2から測定対象物の端部の投影像を撮像するカメラとを光学系保持部材20で保持し,投光方向R1に対する測定対象物の傾き度合いの指標の検出結果に応じて,投光方向R1に直交する支持軸31で軸支された光学系保持部材20を回動駆動させて前記光学系保持部材20の傾きを調節する。 (もっと読む)


【課題】円盤状の測定対象物の端面の形状をその投影像に基づいて測定する場合に,測定対象物に投光される光束に非平行光成分が極力含まれないようにし,さらに,投光方向と測定対象物の表裏各面との平行状態を確保して正しい形状測定を行うことができること。
【解決手段】点光源2の出射光を通過させつつ投光方向R1においてコリメートするコリメータレンズ3と,コリメータレンズ3から測定対象物1側へ向かう光束のうち,投光方向R1から見たカメラのの撮像範囲の外側の範囲の光,又はその撮像範囲の内側かつ投光方向R1における測定部の投影像の外側の範囲に位置する境界線の外側の範囲の光の通過を遮断する1又は複数のアパーチャ8とを備える。さらに,中央吸着支持機構9により支持された測定対象物1における測定部に対し中央側の位置で測定対象物1の一方の面を投光方向R1に対して平行に支持する平行支持部21を備える。 (もっと読む)


【課題】センサー劣化やウエハカセットステージ駆動系の性能劣化及び動作不良を検知し、搬送異常が発生する前に復旧作業を可能とする。
【解決手段】カセットステージ3はウエハカセット搬送位置より垂直方向の上方へ駆動し、センサー発光部4及びセンサー受光部5によりウエハカセット2内のウエハ枚数とスロット位置を計測する。このとき、センサー発光部4から投光した光はセンサー受光部5で受光し電気信号へ変換され、センサー強度信号を電圧で出力する。基板搬送制御部8は、センサー受光部5より出力された電圧と、カセットステージ駆動量からウエハカセット2内のウエハ枚数とスロット位置を計測し、その結果をCIM7内のデータと照合する。CIM7はデータ照合の結果、CIMデータと不一致の場合は、CIM7への通信、装置操作パネルでの異常表示などの異常発報を行う。 (もっと読む)


【課題】ウエハ端面部の画像取得において、複数の場所の像の向きがそろう光学系の装置の提供。
【解決手段】結像光学系は、集光レンズ2、視野絞り4、リレーレンズ5、ロンボイドプリズム6A、および落射照明ユニット10から構成され、ウエハ1の端面部である、上側周辺部+上ベベル部、下側周辺部+下ベベル部の像の偏向後の光が1つに合成されるように複数配置される。このとき、複数の結像光学系のそれぞれにおける光を偏向する回数は、偶数回または奇数回でそろっており、撮像素子7は、複数の結像光学系のそれぞれによる、偏向後の端部の各部位の像を同一の面で撮像する。 (もっと読む)


【課題】円盤状基板の表面に形成された膜層の状態を検査するに際して、精度を犠牲にすることなく、より効率的に処理することのできる円盤状基板の検査装置を提供するこ。
【解決手段】表示ユニットに表示された撮影画像上に検査エリアを設定し(S21)、撮影画像データから、撮影画像上の前記検査エリア内における膜層画像部分の縁線を検出して、当該検査エリアZ1内における該縁線の前記周方向の各位置でのエリア内縦方向位置情報を生成し(S22〜S27)、前記膜層画像部分のエリア内縦方向位置情報と、前記検査エリアの前記撮影画像上での設定位置を表すエリア縦方向位置情報と、基準縦方向位置情報Ysとに基づいて、基準部分を基準とした前記撮影画像上における前記膜層画像部分の縁線の膜層縁位置情報を生成し(S28)、該膜層縁位置情報に基づいて前記膜層についての評価情報を生成するように構成される。 (もっと読む)


【課題】円板体の外周部が水平方向や垂直方向に急速に変位しても、光照射装置からの照射光の焦点が外周部の表面やその内部の位置に合った状態を維持することが可能な光照射装置を提供する。
【解決手段】円板体Wの外周部の表面Wsに光を照射する光源2を備える光照射装置1において、表面Wsの円板体Wの径方向への変位量ΔXと円板体Wの円板面Swに直交する方向への変位量ΔYとを検出する変位量検出装置5と、第1ミラー31で反射された照射光Laの反射光を照射光Laの光軸に平行逆向きに反射する第2ミラー32を備えるミラー部3と、照射光Laを表面Wsに角度θ(下向き正)方向から照射する場合、ミラー部3を照射光Laの光軸方向及び直交方向に夫々(ΔX×cosθ−ΔY×sinθ)/2及び(ΔX×sinθ+ΔY×cosθ)/2だけ移動させるアクチュエータ4とを備える。 (もっと読む)


【課題】板状基板の外周部分を撮影して得られた撮影画像上の点の前記板状基板の周方向を横切る方向の位置を把握し易い板状基板のエッジ検査装置を提供することである。
【解決手段】予め設定された原点に向けて延びる撮影軸Axbを有し、板状基板10の外周部分10Eにおける所定面12Aを撮影視野範囲に含み、該所定面を前記板状基板10の周方向に順次撮影して画像信号を出力する撮影部130b(131b)を備え、前記画像信号から生成される撮影画像データにて表される撮影画像上の点及び前記撮影軸Axbに対応した基準点それぞれの前記周方向を横切る方向における位置tAに基づいて、前記撮影画像上の当該点に対応する擬似的な撮影角度αAを表す擬似撮影角度情報を生成し、撮影画像及び前記擬似撮影角度情報に基づいた撮影角度に関するユーザインタフェース情報を前記表示ユニットに表示させるようにした。 (もっと読む)


【課題】エッジ部分の形状やウェハ自身の反りなどに対応可能な観察装置を提供すること。
【解決手段】被観察物(半導体ウェハ10のエッジ部分11)を観察する観察部20a、20b、20cと、前記観察部を支持する支持部材(ドーム30、ボックス40)と、前記観察部を、観察中心Aを中心とした円弧に沿って移動させる駆動部(Θ軸モータ50、Φ軸モータ60、自走駆動機構21a、21b、21c)と、を備える。 (もっと読む)


【課題】構造が簡単であり、ラインセンサを不要とした硬貨径検出装置を提供すること。
【解決手段】硬貨搬送路面の下方に配置され、硬貨搬送路面に設けられた光通過部を通して搬送される硬貨に光を照射する光照射手段と、硬貨搬送路面の上方に配置され、光通過部を通過した光のうち、搬送される硬貨によって遮光されなかった光を受光する受光手段と、硬貨が通過しないときの最大受光量と、硬貨が光通過部を通過したときの最小受光量との関係に基づいて硬貨の径を判定する制御部とを備えた硬貨径検出装置において、光通過部は、硬貨搬送路面の幅方向に対して所定の角度をもって、硬貨搬送路面の側端から内側に向かって両側に切り欠きで設けられており、光照射手段は、放物面鏡と、該放物面鏡の焦点に配置された光源とで構成されて光通過部に平行光を照射し、受光手段は、放物面鏡とそれぞれの放物面鏡の焦点に配置された受光センサとで構成され、光通過部を通過した平行光を各放物面鏡の焦点に集めて受光することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】半導体ウェハの検査工程を効率化することのできる半導体ウェハの表面検査装置を提供すること。
【解決手段】光照射手段2、受光手段、光電変換手段6、信号増幅手段26、計測手段22、及び計数手段23を備えた半導体ウェハの表面検査装置は、信号増幅手段26による増幅倍率を固定したときに、予め標本測定により算出された半導体ウェハ表面の異物又は欠陥の大きさに応じて設定された信頼区間幅が格納された信頼区間幅格納手段25と、信号増幅手段26による増幅倍率を固定して、異物又は欠陥の大きさに応じた信頼区間幅に基づいて、計測手段22により計測された半導体ウェハ表面の異物又は欠陥の大きさを算出し、該半導体ウェハ表面の異物又は欠陥の大きさに応じた計数値から、半導体ウェハ表面の良否判定を行う良否判定手段24とを備えている。 (もっと読む)


【課題】検査時にウェーハが水平方向や垂直方向に急速に変位しても、受光装置のフォーカス位置が合い、受光装置のフォーカス位置がずれることなく観測ポイントが視野中心に合った状態を維持することが可能な円板体外周検査装置を提供する。
【解決手段】円板体外周検査装置1は、円板体Wの径方向と円板面Swとの直交方向への変位量ΔX、ΔYを検出する変位量検出装置3と、該表面Wsでの散乱光Lを反射する第1ミラーとその反射光を散乱光Lの光軸に平行で逆向きに反射する第2ミラー42とを備えるミラー部4と、ミラー部4を光軸方向とそれとの直交方向に夫々移動させるアクチュエータ5とを備え、散乱光Lが該表面Wsで角度θ(下向き正)方向に散乱される場合、アクチュエータ5は、ミラー部4を、該表面Wsでの散乱光Lの光軸方向及びそれとの直交方向にそれぞれ(ΔXcosθ−ΔYsinθ)/2及び(ΔXsinθ+ΔYcosθ)/2だけ移動させる。 (もっと読む)


【課題】透明性を有する材料によって形成された被加工物であってもチャックテーブルに保持された被加工物の上面高さ位置を確実に検出する。
【解決手段】レーザー光線発振手段と、レーザー光線のスポット形状を環状に形成する環状スポット形成手段と、環状に形成されたレーザー光線を第1の経路に導く第1のビームスプリッターと、集光して被加工物に照射する集光器と、被加工物で反射したレーザー光線が第1のビームスプリッターによって分光される第2の経路に配設されたピンホールマスクと、ピンホールマスクを通過した反射光を第3の経路と第4の経路に分光する第2のビームスプリッターと、第3の経路に分光された反射光を受光する第1の受光素子と、第4の経路に分光された反射光の受光領域を規制する手段と第2の受光素子とを備え、第1の受光素子が受光した光量と第2の受光素子が受光した光量との比に基いて被加工物の上面高さ位置を求める。 (もっと読む)


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