人の眼の軸長を測定する装置であって、本装置は、低コヒーレンス光源と、ビームスプリッターと、干渉計の基準アームの範囲で迅速に経路長を変える高速変位モジュールと、前記低コヒーレンス光源からの光と共に伝播するレーザビームを前記変位モジュールに向けるレーザとを含む。 （もっと読む）

【課題】被測定面の面粗度の影響による誤差を緩和させると共に、測定目的に応じた最適な精度で被測定面の変位を検出する。
【解決手段】光源１０２から射出された射出光Ｌは光調整部材１３０Ａに入射され、光調整部材１３０Ａにより射出光Ｌの解像度が調整される。光調整部材１３０Ａでは、射出光Ｌの近軸光線が遮光されて、射出光Ｌの解像度が低下するように調整される。解像度が調整された射出光Ｌは、第１の対物レンズ１１４により被測定面ＴＧに集光される。被測定面ＴＧにはビーム径が広がった状態の射出光Ｌが集光される。被測定面ＴＧに集光された射出光Ｌは被測定面ＴＧで反射され、反射された反射光Ｌrが受光素子１２０によって受光される。これにより、非接触センサ１００Ａの分解能を低下させることができ、被測定面ＴＧの面粗さの影響による測定誤差を緩和させて、より正確に被測定面ＴＧの変位を検出することができる。 （もっと読む）

【課題】散乱媒体の厚さを算出することができる光学システムを提供すること。
【解決手段】光学システムであって、光を散乱する散乱媒体、および散乱媒体の下部にあり、光が入射された場合に偏光された光を入射側に戻す下部媒体を有する物体に向けて、光を照射する光照射部と、光照射部から照射されて散乱媒体によって散乱された光、および下部媒体からの光を受光する受光部と、受光部が受光した光の非偏光成分および偏光成分の少なくとも一方に基づいて、下部媒体までの散乱媒体の厚さを算出する厚さ算出部とを備える。 （もっと読む）

【課題】ゴミの付着部や傷の生じた部分等の特異部が一部に存在する被測定物についても，光干渉計により得られる位相データに基づく位相接続処理を行うことによって高精度で形状を測定できること。
【解決手段】被測定物１の表面上で物体光を照射する光干渉計による測定点を変化させつつ，干渉光の強度信号の位相を検出して得られる複数の位相データを，その位相データに対応する干渉光強度信号の振幅が振幅許容範囲内である処理対象データとそれ以外の非処理対象データとに区分し，１本の走査線に沿って，測定点が隣り合う２つの処理対象データに基づく位相接続処理を順次実行するとともに，一本の走査線に沿って非処理対象データの測定点と処理対象データの測定点とが隣り合う場合，その処理対象データとその処理対象データに対して測定点が前記一本の走査線と交差する方向において隣り合う他の処理対象データとに基づく位相接続処理を実行する。 （もっと読む）

方法及び装置は、ウェハスクライブシステムのためのリアルタイムのオートフォーカスを実行する。方法及び装置は、スクライブレーザビームのための対物レンズ（２６）の真下のウェハ（１０）の表面（５０）に、グレージング角で方向付けられた偏光光（４２）を用いる。ウェハから反射した光は、フィルタリング（５６）され、スクライブレーザビームからの光が除外され、位置敏感型検出器（５８）に集光され、対物レンズからウェハ表面までの距離が測定される。 （もっと読む）

【課題】回折スペクトルの情報を失わずにオーバレイを測定するために、より小さいターゲットで使用することができる放射を提供する放射源を提供する。
【解決手段】放射が基板で反射した結果としての角度分解スペクトルを高開口数のレンズの瞳面で測定することによって、基板の特性を割り出す装置及び方法。特性は、角度及び波長に依存してよい。基板で反射する放射は、放射状に偏光する。 （もっと読む）

【課題】薄膜の微小構造を高いコントラストで観測でき、かつ膜厚を定量的に測定することができる膜厚分布測定装置を提供すること。
【解決手段】本実施形態のエリプソメトリー顕微鏡１は、光源２と偏光子５と位相補償子６と対物レンズ８とを備え試料Ｓを所定角で照明する斜め照明系と、対物レンズ８と結像レンズ１５と検光子１６とにより試料Ｓを撮像装置１７の検出面１８に検出する結像系とを備え、結像レンズ１５の前側焦点面を対物レンズ８の後側焦点面に一致させるとともに、結像レンズ１５の後側焦点面を検出面１８に一致させ平行光として投射するとともに、結像系により検出面１８に試料Ｓの散乱光による像を結像させ、高倍率でかつコントラストの高い膜厚分布の差を測定できる。 （もっと読む）

【課題】半導体ウエハを撮像装置で走査して表面画像を取得し、ダイ毎にイメージ比較を行い欠陥を検出する外観検査において、半導体ウエハの表面上の十字形状領域における外観検査の検査速度を向上させる方法の提供。
【解決手段】外観検査装置１は、半導体ウエハ２を載置するための回転可能な試料台１２と、半導体ウエハ２を少なくともＸ方向に移動可能なステージ１１と、を備え、試料台１２を９０度回転させる前後のそれぞれにおいて、ステージ１１をＸ方向へ移動させて撮像部１４で半導体ウエハ２を走査することによって、半導体ウエハ２上の十字形状領域の画像を取得し、十字形状領域においてイメージ比較を行う検査モードを有する。 （もっと読む）

【課題】画像データの高コントラストフレームを生成しながら、システムの体積を最小化できるようにする。
【解決手段】光ナビゲーションを実行するためのシステムと方法は、目標面に関する変位を推定するための画像データのフレームを生成するために散乱光を使用する。散乱光は、第１の光軸に沿って目標面へと放射された照明光ビーム（ＯＩ）から生成される。照明光ビーム（ＯＩ）は、第２の光軸に沿った鏡面反射光ビーム（ＯＲ）も生成する。第２の光軸に対して予め決められた角度θだけオフセットされた第３の光軸の周りの散乱光（ＯＣ）は、画像のいくつかのフレームを生成するために、画像センサアレイ２１８により受けられる。 （もっと読む）

【課題】フィゾー型干渉計を用いた装置を用いて、微小径略半球レンズの面精度測定とレンズ表面の欠陥観察とを高精度に行うことの可能な面精度測定及び表面欠陥観察装置、並びに面精度測定及び表面欠陥観察方法を提供する。
【解決手段】フィゾー型の干渉計光学系を用いた、被検レンズ７の被検面の面精度測定と被検面の欠陥観察をする装置である。被検レンズ７の位置調整に際し、被検レンズ７の位置を確認可能に構成された第一の光束制御板８_１と、中心に開口部８_２ａ、周囲に遮蔽部８_２ｂを有する第二の光束制御板８_２と、中心に遮蔽部８_３ａ、周囲に開口部８_３ｂを有する第三の光束制御板８_３とを有し、これらの光束制御板のうち所望の光束制御板を干渉計光学系の参照面５ａからの反射光の集光点Ｐ_１を含む干渉計光学系の光軸Ｚ_１に対して垂直な仮想平面上に挿脱可能な光束制御手段８を備える。 （もっと読む）

方法は、試験対象物をモデル化するための異なるモデルパラメータに対応した複数のモデル信号の各々と、試験対象物の位置に対して得られた走査干渉法信号とを比較することを有する。各モデル信号に対して、比較することは、走査干渉法信号とモデル信号の間の相関関数を算出し、走査干渉法信号とモデル信号の間の表面高さオフセットを特定すること、および、特定した表面高さオフセットに基づいて、共通の表面高さに対する、走査干渉法信号とモデル信号の間の類似点を表わす高さオフセット補正済メリット値を算出することを有する。本方法は、異なるモデル信号に対する各々のメリット値に基づいて、試験対象物の位置での試験対象物パラメータを判定することをさらに有する。
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【課題】 歯車の歯面に沿って移動しながら歯面粗さの測定を行うことができる粗さ測定装置を提供する。
【解決手段】 歯車における歯面の粗さおよび前記歯面との間の距離の変動の和を測定する測定光学系１２Ｓと、歯面と測定光学系１２Ｓとの間の距離の変動を検出する変動検出光学系１２Ｄと、測定光学系１２Ｓおよび変動検出光学系１２Ｄを、歯面に沿って導くガイド部１５と、が設けられたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
被計測物の位置を高精度に計測する計測装置を提供する。
【解決手段】
本発明の計測装置は、被計測物の位置を表す複数の信号を用いて被計測物の位置を計測する計測装置１００であって、複数の信号のそれぞれを既知の値と比較することによって歪み係数を演算する歪み係数演算装置１１と、歪み係数を用いて複数の信号を補正することにより複数の補正信号を生成する歪み補正部２と、歪み補正部２にて生成された複数の補正信号の二乗和平方根を算出する二乗和平方根演算装置３と、複数の補正信号のそれぞれを二乗和平方根で除すことにより複数の第一の正規化信号を生成する第一の正規化手段と、第一の正規化手段にて算出された複数の第一の正規化信号に基づいて、被計測物の位置を算出する位相演算装置６とを有する。 （もっと読む）

【課題】ウエハ端面部の画像取得において、複数の場所の像の向きがそろう光学系の装置の提供。
【解決手段】結像光学系は、集光レンズ２、視野絞り４、リレーレンズ５、ロンボイドプリズム６Ａ、および落射照明ユニット１０から構成され、ウエハ１の端面部である、上側周辺部＋上ベベル部、下側周辺部＋下ベベル部の像の偏向後の光が１つに合成されるように複数配置される。このとき、複数の結像光学系のそれぞれにおける光を偏向する回数は、偶数回または奇数回でそろっており、撮像素子７は、複数の結像光学系のそれぞれによる、偏向後の端部の各部位の像を同一の面で撮像する。 （もっと読む）

本開示の一態様の方法は、顕微鏡を用いて、直交偏光状態を有する複数の成分を含む光を試験対象物に向けるとともに試験対象物から反射された光を検出器に向けること、光の成分間の光路長差（ＯＰＤ）を変化させること、成分間のＯＰＤを変化させながら検出器から干渉信号を収集すること、収集された干渉信号に基づいて試験対象物に関する情報を決定することを備える。 （もっと読む）

【課題】ヘテロダイン干渉法により物体光と参照光との位相差を測定する際，測定光の伝播経路の状態変動に起因する誤差と，測定光のクロストークに起因する誤差とを除去して高精度で位相差測定を行うこと。
【解決手段】干渉計Ｑ１により測定光Ｐ１，Ｐ２を干渉させてその干渉光のビート信号Ｓｇ１を検出し，測定光Ｐ１，Ｐ２を干渉計Ｑ１から測定部位１ａの付近へ導く光ファイバ２０で導き，その測定光Ｐ１，Ｐ２を干渉計Ｑ２で干渉させてその干渉光のビート信号Ｓｇ２を検出し，その後段で測定光Ｐ１，Ｐ２を物体光及び参照光として干渉させてその干渉光のビート信号Ｓｇ３を検出し，ビート信号Ｓｇ１，Ｓｇ２の位相差Δθ₁及びビート信号Ｓｇ１，Ｓｇ２の位相差Δθ₂に基づいて，クロストークノイズ成分が除かれた物体光と参照光との位相差を算出する。 （もっと読む）

【課題】製造した透明基板の板厚のむらを容易に確認できるようにする透明基板の検査方法を提供する。
【解決手段】板厚分布の状況が既知である第一の透明基板と、検査対象となる第二の透明基板とを準備し、第一の透明基板と第二の透明基板の平均板厚の差を５０μｍ以内とする。第一の基板と第二の基板の基板間隙を０．１ｍｍ以上とする。ピーク輝度に対する半値幅が５ｎｍ以上である光を照射する。第一の透明基板および第二の透明基板を通過する光の干渉強度分布によって、第二の透明基板の板厚分布の程度を判断する。 （もっと読む）

【課題】微小機械-電気構造から構成された振動型発電装置の開発や保守管理に用いるのに適した振動変位計測装置を提供する。
【解決手段】先端にレンズなどの集光機能が付加され、振動緩衝のため粘弾性材料が使用されている、最大群遅延差が1ナノ秒／メートル以下のマルチモードファイバーを用いた光ファイバーケーブルによるプローブ部１と、連続発振するレーザー光源２−１による光源部２と、フォトダイオードによる光電変換部３と、光干渉ビート信号を配送する光サーキュレータ１０と、発電電圧又は発電電流値、及び振動変位情報を含む干渉ビート信号をディジタル信号に変換する信号収集部４と、電子計算機による解析部５と、記憶部６とを構成要素として有し、振動の瞬時変位量検出に光ホモダイン干渉計の原理を用いている。 （もっと読む）

【課題】基板位置検出装置において、装置の大型化を抑制しつつ高速かつ高精度な位置検出を実現する。
【解決手段】膜厚測定装置の基板位置検出装置では、撮像部５１の撮像素子５１１による基板９上の撮像領域が、位置検出部５の撮像部回転機構５２により回転される。これにより、基板９を保持するステージを回転する機構を設けることなく、基板９のエッジ９２を周方向の複数の撮像位置において容易に撮像して基板９の位置を検出することができる。その結果、基板を水平方向に移動する機構の上に基板を回転させる機構を設ける従来の装置に比べて、膜厚測定装置の基板の位置検出に係る構造の大型化を抑制することができるとともに高速かつ高精度な基板９の位置検出を実現することができる。 （もっと読む）

【課題】 観察物体の位相変化量等を微分干渉顕微鏡により得た微分干渉画像から短時間で検出する装置を提供する。
【解決手段】 光源と、光源からの光を２つの偏光成分に分離し観察物体に導く照明光学系と、照明光学系内で分離された２つの偏光成分を再構成し観察物体の像を形成する結像光学系を有する微分干渉顕微鏡と、２つの偏光成分のリターデーション量を変化させる手段と、リターデーション量を検出する手段と、観察物体の像を撮像する手段を備え、リターデーション量が等しく符号の異なる観察物体の２つの微分干渉像を撮像手段で撮像する検出装置において、２つの微分干渉像の画像において夫々対応する画素毎に差演算及び和演算を行って差画像情報と和画像情報を取得し、以下の式を用いて観察物体面上の位相量を検出する演算手段を備える。
∂Φ（ｘ，ｙ）／∂ｒ＝ｋ・｛（１−ｃｏｓθ）・Ｄ（ｘ，ｙ）｝
／｛２ｓｉｎθ・Ｓ（ｘ，ｙ）｝ （もっと読む）