【課題】糸などの連続状被検物の走行速度あるいは走行方向の長さを測定するための空間フィルタを用いた走行被検物測定装置を提供すること。
【解決手段】被検物通過路３を備えたケーシング２を含み、該通過路の一方の側に、被検物の走行方向に等間隔に配置され、入射光を電気信号に変換して出力する複数個の受光素子４でなる受光器５と、該通過路の他方の側に配置され、受光器上に被検物の像を投影する光源６と、光源からの光を通して被検物に当てる光学系レンズ７と、被検物が受光素子の配列間隔に相応する所定のピッチ移動する毎に、周期的に変化する電気信号を出力し、該出力信号を演算処理して走行速度などを測定する演算処理手段８とを搭載し、該演算処理手段が、被検物の真値を予め記憶しておき、測定した値と真値との差から補正値を算出して、これを記憶する記憶手段を含み、検出値を補正値に基づいて補正した値で出力するようにした糸速度センサ。 （もっと読む）

【課題】 穴の全体形状だけでなく、穴の壁面に形成された微細な凹凸形状をも精度良く測定する。
【解決手段】 管状プローブ８０からレーザ光を測定対象穴の壁面に照射し、レーザ光の焦点位置と壁面における反射位置とのずれ量（焦点ずれ量）に応じたフォーカスエラー信号を生成するフォーカスエラー信号生成回路１１１，１１２を備える。コントローラ１００は、管状プローブ８０を回転させながらＺ方向（管状プローブの中心軸方向）に移動させて、レーザ光を測定対象穴の壁面に螺旋状に照射する。そして、管状プローブ８０のＺ方向位置と、管状プローブ８０の回転角度と、フォーカスエラー信号から得た焦点ずれ量とに基づいて測定対象穴の３次元形状を算出する。 （もっと読む）

【課題】表面形状の微細な凹凸に対応した位置調整が可能な表面形状測定装置を提供することにある。
【解決手段】可動部材３００の裏面側に、光源２０１より照射される光の波長と、集光レンズ２０５の開口数と、に基づいて決定される最小集光径の円形領域からなり、可動部材３００よりも光反射率の高い高光反射部を備え、光源２０１より照射された光が、全て高光反射部に反射された場合の第１フォトディテクタ４０２から検出される反射光の強度を最大値として記憶部に記憶し、第１フォトディテクタ４０２から検出される反射光の強度が、記憶部に記憶された最大値に近づくように、集光レンズ２０５と可動部材３００の相対位置を調整する。 （もっと読む）

【課題】
光干渉を用いた変位計測装置において、プローブ光路と参照光路とが空間的に分離して
いるため、空気の揺らぎ等による温度分布や屈折率分布、あるいは機械振動が生じた場合
、両光路間で光路差が変動し、測定誤差となってしまう。
【解決手段】
プローブ光の光軸と参照光の光軸を外乱の影響を受けない距離まで近接させて、プロー
ブ光を対象物に、参照光を参照面に各々照射し、その反射光同士を干渉させ、生じた干渉
光から対象物の変位量を求める （もっと読む）

【課題】光学式欠陥検査装置または光学式外観検査装置で検出した欠陥を電子顕微鏡等で詳細に観察する装置において、観察対象の欠陥を確実に電子顕微鏡等の視野内に入れることができ、かつ装置規模を小さくできる装置を提供する。
【解決手段】光学式欠陥検査装置または光学式外観検査装置で検出した欠陥を観察する電子顕微鏡5において、欠陥を再検出する光学顕微鏡14を搭載し、この光学顕微鏡14で暗視野観察する際に瞳面に分布偏光素子及び空間フィルタを挿入する構成とする。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク用ガラス基板の欠陥が両主表面のどちらにあるのかを正確に検出することができる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、製造された主表面磁気ディスク用ガラス基板を検査する検査工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、前記検査工程において、磁気ディスク用ガラス基板に対して光学式自動外観検査で欠陥の検査を行い、前記光学式自動外観検査で特定された前記欠陥の位置について、磁気ディスク用ガラス基板レーザドップラー干渉計で、前記磁気ディスク用ガラス基板の主表面上の欠陥を検出する。これにより、磁気ディスク用ガラス基板の欠陥が両主表面のどちらにあるのかを正確に検出することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】 回折格子が形成する面内の方向（Ｙ方向）の変位及びその面に垂直な方向（Ｚ方向）の変位を、光源から出射される光から回折格子を用いて複数の回折光を発生させることにより計測できる変位計測装置を提供する。
【解決手段】 第１乃至第３の回折光ｌ_１、ｌ_２、ｌ_３を発生させる第１回折格子ＧＢＳ０と、被計測物と共に移動可能な第２回折格子ＧＴ０と、第２回折格子で回折した第１及び第２の回折光による干渉光を受光する第１受光部ＰＤｘと、第２回折格子で回折した第１の回折光と、第１回折格子を透過した第３の回折光とをそれぞれ反射する反射部ＦＭと、反射部で反射され第２回折格子で回折した第１の回折光と、反射部で反射された第３の回折光と、による干渉光を受光する第２受光部ＰＤｚと、第１受光部で受光した光に基づいてＹ方向の変位を算出し、かつ第２受光部で受光した光に基づいてＺ方向の変位を算出する演算部ＣＵと、を有する。 （もっと読む）

【課題】
計測点の座標と法線ベクトルの計測値から被測定物の表面形状を導出し、各軸の制御方法を工夫することによって各計測点での計測時間を短縮し、被測定物の表面形状測定の高速化を図ることが可能な法線ベクトル追跡型超精密形状測定装置における駆動軸制御方法を提供する。
【解決手段】
２軸２組のゴニオメータと、その回転中心間の距離を変える１軸直進ステージとで構成し、１組のゴニオメータは試料系２を構成し、その可動部に被測定物１を保持し、もう１組のゴニオメータは光学系３を構成し、その可動部に光源と光検出器Ｄを設け、２軸２組のゴニオメータと１軸の直進ステージの内、２軸１組のゴニオメータと１軸の直進ステージは、光検出器からの出力を直接軸駆動モータに入力するフルクローズドフィードバック制御し、残り２軸１組のゴニオメータはセミクローズドフィードバック制御する。 （もっと読む）

【課題】
計測点座標と法線ベクトルの計測値から被測定物の表面形状を導出する法線ベクトル追跡型超精密形状測定方法において、現状の２軸２組のゴニオメータと１軸直進ステージの装置構成を変えることなく、ある測定手順を付加するだけで、自律的に光路長Ｌを校正によって決定することが可能な光路長の自律校正を用いた法線ベクトル追跡型超精密形状測定方法を提供する。
【解決手段】
各計測点毎に２軸２組のゴニオメータから得られる４つの角度データと１軸直進ステージから得られる１つの距離データとを取得し、計測点の数だけの計測値セットから形状導出アルゴリズムＰにより形状を導出する際に、光路長Ｌを変数として複数の形状Ｐ（Ｌ）を導出し、形状変化の収束を利用して真の光路長Ｌ_Cと収束形状Ｐ（Ｌ_C）を算出する。具体的には、形状残差の収束性を見ながら二分法により光路長を決定する。 （もっと読む）

【課題】サブミクロンの精度を有する、加工装置に搭載される被測定物の計測方法および計測装置を提供する。
【解決手段】光源１と、この光源１からの光線を２本の光線に分岐する光分岐／合流部２と、被測定物１０を設置するステージ部１１と光を集光して照射する対物レンズ６と、前記２本に分岐された光線の他の一方が照射される参照ミラー５とを有し、前記被測定物１０または前記参照ミラー５の位置を、それぞれ、前記被測定物１０からの反射光Ａの光軸方向または前記参照ミラー５からの反射光Ｂの光軸方向に移動させることにより、前記被測定物１０からの反射光Ａと前記参照ミラー５からの反射光Ｂの干渉波形を計測し、同時に移動量を計測可能なリニアスケール８の位置情報も計測して、前記参照ミラー５からの反射光Ｂの光路長と前記被測定物１０からの反射光Ａの光路長が同一となる位置を、左右対称性の評価式が最小になる位置を求めることで特定する。 （もっと読む）

【課題】未封緘の封筒を高い信頼性で検出でき、環境問題がなく、封筒を損傷せず、生産性の高い封筒フラップ封緘検査装置を提供する。
【解決手段】フラップ先端辺の方向に対して直角方向に封筒を搬送する搬送手段と、封筒の搬送位置を検出する搬送検出手段と、搬送位置を入力しフラップ先端辺の近傍において開となるゲートを生成するゲート生成手段と、搬送経路の上方から封筒表面の変位を所定のサンプリング周期で検出し変位データを出力する変位センサと、ゲートが開となっている間の変位データを記憶する記憶手段と、記憶した変位データに対して差分演算を行い差分変位データを生成する差分演算手段と、差分変位データのすべてが所定値内であるときに封緘状態を良と判定し、それ以外は不良と判定する良否判定手段とを具備する。 （もっと読む）

【課題】形状測定装置において、低測定力を維持したまま高速にプローブを測定面に追従させることができ、高速で高精度な測定を実現できる形状測定用プローブ制御装置を提供する。
【解決手段】Ｘ制御モード切換スイッチ４１とＹ制御モード切換スイッチ４５とを備え、測定物の形状、または測定時のＸプローブ傾斜角度θＸとＹプローブ傾斜角度θＹとの関係により、一方の軸で位置制御を、他方の軸で傾き制御を行うようにした。 （もっと読む）

【課題】側面形状測定において形状測定プローブの先端の移動量をレーザ光と４分割フォトダイオードを用いて高精度に測定する。
【解決手段】Ｚ軸に沿って移動可能な形状測定プローブと、該形状測定プローブ内に一点で支持され先端がＸＹ方向の力により傾斜可能でかつレーザ光を反射するミラーを有するスタイラスがあり、反射するレーザ光を４分割フォトダイオードに集光して得られる電気信号出力から該スタイラスの傾斜を検知して該スタイラス先端のＸＹ方向移動量を得る３次元形状測定方法において、実測定に先んじて該電気信号出力から得られるＸＹ方向移動量（ＴＸｍ，ＴＹｍ）の生データと真のＸＹ方向移動量（ＴＸ、ＴＹ）の関係を求める参照テーブル測定工程によって参照テーブルを作成し該参照テーブルを用いて実測定した生データから補正した真のデータを得る。 （もっと読む）

【課題】偏心測定方法および装置において、被検レンズ系の被測定面の面間隔の製作誤差の影響を受けることなく、偏心量の測定精度を向上することができるようにする。
【解決手段】第１面の偏心量を算出し、被検レンズ系と投影光学系との光軸方向の相対位置を第１測定位置として取得する第１面偏心測定工程（ステップＳ２）と、投影光学系を第ｉ面の測定開始位置に相対移動する測定位置移動工程と（ステップＳ４）、第ｉ面に光源の像を投影し、投影光学系の光軸方向の位置を調整して、第ｉ面での反射光による光源の像を像面に結像させ、この像位置の情報を取得し、被検レンズ系と投影光学系との光軸方向の相対位置を第ｉ測定位置として取得する第ｉ面測定工程（ステップＳ５）と、面間隔データを実測値に修正したレンズ設計データを用いて、第ｉ面の偏心量を算出する第ｉ面偏心量算出工程（ステップＳ６）とを備える偏心測定方法を用いる。 （もっと読む）

【課題】 例えばガラス基板の表面に付着した異物の影響を抑えて、ガラス基板の面位置の変位を高精度に検出することのできる変位検出装置。
【解決手段】 被検面（２０ａ）の面位置の変位を検出する変位検出装置は、光源（ＬＳ）からの光に基づいて対物レンズ（５）により一旦集光点（Ｐ）を形成した後に被検面としての物体（２０）の表面に照射する照射系（ＩＬ：１，２，３，４，５）と、被検面で反射され且つ対物レンズを経た光に基づいて被検面の面位置の変位を検出する検出系（ＤＳ：５，４，３，６，７，８，９）とを備えている。 （もっと読む）

【課題】 サーボ信号に基づく評価値を用いて光ディスクの光透過層の表面の評価を行う際に、サーボ残差とデータ復号エラーの発生量との相関関係が低いために評価の精度が低いという課題を解決する。
【解決手段】 フォーカスまたはトラッキングのサーボ信号を検出し、検出された前記サーボ信号とその検出時間から前記サーボ信号の推移を検出し、前記サーボ信号の推移から得られたピークのうち、所定の閾値を超えた部分について、前記所定の閾値からのピーク高さをその継続時間と線速度との積で算出される距離で積分し、積分によって得られた積分値を合計して評価値を算出し、該評価値とデータ復号エラーの発生量との相関関係に基づいて、前記光ディスクの光透過層の表面の凹凸を評価する。 （もっと読む）

部分コヒーレンス干渉計は、測定の不明瞭性を解決するためのフォーカシング系を組み込んでいる。焦点検知ビームは、干渉計の測定ビームと共用の対物レンズを通して試験面まで送られ、試験面から戻される。明瞭な測定範囲は、所定の焦点誤差範囲と一致する。
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【課題】
被計測物の位置を高精度に計測する計測装置を提供する。
【解決手段】
本発明の計測装置は、被計測物の位置を表す複数の信号を用いて被計測物の位置を計測する計測装置１００であって、複数の信号のそれぞれを既知の値と比較することによって歪み係数を演算する歪み係数演算装置１１と、歪み係数を用いて複数の信号を補正することにより複数の補正信号を生成する歪み補正部２と、歪み補正部２にて生成された複数の補正信号の二乗和平方根を算出する二乗和平方根演算装置３と、複数の補正信号のそれぞれを二乗和平方根で除すことにより複数の第一の正規化信号を生成する第一の正規化手段と、第一の正規化手段にて算出された複数の第一の正規化信号に基づいて、被計測物の位置を算出する位相演算装置６とを有する。 （もっと読む）

【課題】計測対象面の凹凸に起因する面位置センサの計測誤差の補正データを作成し、該補正データを用いて計測精度が改善される面位置センサを用いて、移動体を高精度に２次元駆動する。
【解決手段】 Ｘ干渉計１２７、Ｙ干渉計１６を用いて位置を監視しながらウエハステージＷＳＴを移動させ、センサ７２ａ〜７２ｄを用いてウエハステージ上面に設けられたＹスケール３９Ｙ_１，３９Ｙ_２のＺ位置を計測する。ここで、例えば、２つの面位置センサ７２ａ，７２ｂの計測結果の差より、Ｙスケール３９Ｙ_２のＹ軸方向の傾きが得られる。Ｙスケール３９Ｙ_１，３９Ｙ_２の全面について傾きを計測することにより、それらの２次元凹凸データが作成される。この凹凸データを用いてセンサの計測結果を補正し、該補正済みの計測結果を用いることにより、高精度にウエハステージを２次元駆動することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】面位置計測システムの異常発生時にも、移動体を継続して駆動する。
【解決手段】位置計測システム、例えばＺヘッド７２ｂ，７２ｄ等を用いて、ウエハステージＷＳＴのＺ軸方向とＸＹ平面に対する傾斜方向（例えばθｙ方向）の位置情報を計測し、その計測結果に基づいてウエハステージを駆動制御する。同時に、干渉計システム、例えばＺ干渉計４３Ａ，４３Ｂを用いて、ウエハステージの位置情報を計測する。位置計測システムの異常が検知された際、又はウエハステージが位置計測システムの計測領域から外れた際には、干渉計システムの計測結果に基づく駆動制御に切り換える。これにより、位置計測システムの異常発生時においても、ウエハステージを継続的に駆動することができる。 （もっと読む）