【課題】 測定後の原点を高精度に設定することができ、被測定物の変位情報（絶対変位情報）を高精度に測定することができる干渉測定装置を得ること。
【解決手段】 第１光源手段からの第１の光束と第２光源手段からの第２の光束を合波する第１の合波手段と、第１の光束と第２の光束が合波された光束を、２つの光束に分割し、一方の光束を被測定物の測定面に入射させ、他方の光束を参照面に入射させ、測定面からの反射光束と参照面からの反射光束を合波する光学系と、
測定面と参照面からの反射光束とに含まれている分割された２つの第１の光束により形成される光束と、２つの第２の光束により形成される光束を受光する受光手段と、
受光手段で受光した第１の光束に基づく第１の信号と受光手段で受光した第２の光束に基づく第２の信号とを用いて測定原点を決定する決定手段を有すること。 （もっと読む）

【課題】小型であり、かつ構成部材の位置合せが容易なエンコーダ装置を提供する。
【解決手段】エンコーダヘッド２０は、光源部からの計測光をスケール５（回折格子）に向けて反射させる第１プリズム２１と、第１プリズム２１により反射された計測光を二つの直線偏光に分割する偏光ビームスプリッタ膜２２と、偏光ビームスプリッタ膜２２を透過した直線偏光を円偏光に変換してスケール５上の一方の位置に照射させる第１波長板２３と、偏光ビームスプリッタ膜２２で反射した直線偏光を円偏光に変換してスケール５上の他方の位置に照射させる第２波長板２４と、スケール５で反射回折した±１次回折光を干渉させて光検出器に向けて反射させる第２プリズム２５とを有し、偏光ビームスプリッタ膜２２が第１プリズム２１と第２プリズム２５に挟まれて設けられ第１プリズム２１、第２プリズム２５および偏光ビームスプリッタ膜２２が一体に形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 調整の容易な干渉計測装置を提供する。
【解決手段】 光源から射出された光を２つの光束に分割し該２つの光束を重ね合わせることによって生成された干渉光の強度の変動を観測することによって被検物の変位を計測する干渉計測装置は、複数の部分領域を有する受光領域を備え、前記複数の部分領域のそれぞれで前記干渉光を受光する受光部と、前記複数の部分領域のそれぞれでの受光結果に基づいて、前記受光領域における前記干渉光の位相分布の均一性を示す指標を求める処理部とを備える。 （もっと読む）

【課題】 測定対象が変わっても測定対象の反射率などの光学特性、あるいは形状や機械的特性に依存せずに検出感度やノイズの割合が調整可能で、測定対象への照射光による測定対象の熱変形の影響が小さくでき、最適な条件下で測定精度を確保することが可能な光学式変位検出方法を提供する。
【解決手段】 測定対象となるカンチレバー６に光を照射する光源１０と、光源１０を駆動する光源駆動回路２１と、光源１０からカンチレバー６に照射した後の光を受光し、光強度を検出する光検出器１６と、光検出器１６の検出信号を所定の増幅率で増幅する増幅器２２から構成される光学式変位検出機構において、光強度調整器２８と増幅率調整器２７を設けカンチレバー６への照射光強度や光検出器１６の増幅率を調整できるようにした。 （もっと読む）

【課題】光学部品の点数を少なく、構造を簡単化して、光センサーの小型化及び低コスト化を実現する。
【解決手段】振動検出用光センサー１は、光源２、偏光ビームスプリッター３、対物レンズ４、波長板ユニット５、及び１個の受光素子６を備える。波長板ユニットは１／４波長板７と振動板８とが一体化され、光センサーの小型化、構造及び組立の簡単化、低コストが図れる。受光素子６は、光軸ｘ2を振動板の反射光の光軸ｘ1と平行にかつ僅かにずらして配置される。それに対応して、受光素子に入射するビームスポット形状は、その中心ｃを受光面６ａの中心Ｏから僅かにずらして離れた位置に置いて投影される。受光素子から検出される光量は、振動板の変位に対応して増減する。 （もっと読む）

【課題】 光源からの光を測定対象や光検出器の受光面へ位置合わせを行う際に、位置合わせを容易に、かつ確実に行うことが可能な光学式変位検出機構のスポット光の位置合わせ方法を提供する。
【解決手段】 測定対象となるカンチレバー６に光を照射する光源１０と、光源１０を駆動する光源駆動回路２１と、光源１０からカンチレバー６に照射した後の光を受光し、光強度を検出する光検出器１６と、光検出器１６の検出信号を所定の利得で増幅する増幅器２２から構成される光学式変位検出機構において、光検出器１６で検出される検出感度を利得（増幅率）調整器を用いて実際に測定対象を測定する時よりも小さい値に設定して、光検出器１６の所定の位置に光検出器用位置決め機構１８により光のスポット２０の位置決めを行うようにした。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置で使用するために、基板の厚さ及び平坦さの通常の変動より大きい高さ範囲で確実な測定結果を提供するレベルセンサを提供する。
【解決手段】基板の高さレベルを決定するように構成され、周期的な光強度を有する測定ビームを基板に投影する投影ユニットと、基板で反射した測定ビームを受ける検出ユニットとを備える。検出ユニットが、反射した測定ビームを受けるように配置された検出格子１１を備え、検出格子１１が投影される前記投影ビームの周期の長さと実質的に等しい長さを有する３つ以上のセグメント１３ａ、１３ｂ、１３ｃを備え、反射した測定ビーム１４を３つ以上の反射測定ビーム部分１４ａ、１４ｂ、１４ｃに分割するように構成され、３つ以上の検出器がそれぞれ測定ビーム部分のうちの１つを受けるように配置され、さらに、検出器が受けた測定ビーム部分に基づいて高さレベルを計算する処理ユニットを備える。 （もっと読む）

【課題】 計量皿に載置された被測定物の単位重量あたりに対する天秤ビームの他端部が変位する変位の量が小さくても、天秤ビームの他端部の変位を正確に算出することができる電子天秤を提供すること。
【解決手段】 一端部に被測定物１５が載置される計量皿９が連結され、他端部に電磁力発生装置６、７が連結される天秤ビーム４と、光束を出射する発光部２と、光束を受光する受光面２１、２２、２３、２４を有する受光部Ｒとを備える光学的位置センサ２０と、受光部Ｒの受光面２１、２２、２３、２４で受光された受光量情報に基づいて、天秤ビーム４の他端部の変位を算出する制御部５とを備える電子天秤１であって、受光部Ｒは、４個以上に分割された受光面２１、２２、２３、２４を有し、制御部５は、４個以上の受光量情報に基づいて、天秤ビーム４の他端部の変位を算出する。 （もっと読む）

【課題】一つのセンサで同時に正反射面及び乱反射面の傾き角度の測定を行うことができるチルトセンサを提供する。
【解決手段】検出領域に向けて測定用光を出射する投光部、および、検出領域で反射された測定用光を受光する受光部からなる光学系を備え、投光部は、発光素子とコリメータレンズとを具備して構成され、受光部は、正反射光測定部と乱反射光測定部とを備え、正反射光測定部は、受光レンズと受光素子とを具備し、乱反射光測定部は、受光レンズと、受光素子と、乱反射光受光ミラーと、正反射光乱反射光合成ハーフミラーとを具備して構成され、正反射光測定部の受光レンズ及び乱反射光測定部の受光レンズを１枚の受光レンズで兼用し、また正反射光測定部の受光素子及び乱反射光測定部の受光素子を１つの受光素子で兼用する。 （もっと読む）

【課題】測定者に負担を掛けることなく、傾斜面や曲面などの測定面を有する被測定物を良好に測定可能な光学式変位測定器を提供。
【解決手段】測定面から反射フォーカシング光に基づいて対物レンズ１７０の焦点位置を測定面に一致させる手段を備えた光学式変位測定器。フォーカシング光とは異なる波長の参照光を発する参照光用光源３１０と、参照光を測定面に照射するとともに測定面からの反射参照光をフォーカシング光と分離する波長分岐型ビームスプリッタ３３０と、分離参照光に基づいて測定面の傾き方向を検出する傾き方向検出手段３４０と、フォーカシング光および参照光の光路中において参照光を透過するとともに、フォーカシング光を遮光するフォーカシング光遮光体４１０と、傾き方向検出手段によって検出された測定面の傾き方向に応じて回転駆動機構４２０を介して遮光体を回転させる制御手段５００を備える。 （もっと読む）

【課題】マイクロスピンドルのラジアルモーション、アキシャルモーション及びアンギュラモーション全ての誤差を同時に且つ正確に計測可能とする。
【解決手段】回転体としてその回転軸線に沿って連接された第１及び第２の測定対象物１１，１２を含み、第１の測定対象物１１に対して直交２方向から光を照射する一対の第１の光照射手段１５Ａと、第１の光照射手段１５Ａから照射された光をそれぞれ受光する一対の第１の受光手段１４Ａと、第２の測定対象物１２に対して直交２方向から光を照射する一対の第２の光照射手段１５Ｂと、第２の光照射手段１５Ｂから照射された光をそれぞれ受光する一対の第２の受光手段１４Ｂと、を有する。 （もっと読む）

【課題】移動体を精度良く駆動する。
【解決手段】 駆動系により、アーム部材７１から移動体ＷＦＳのＸＹ平面に平行な一面に配置されたグレーティングＲＧに対して計測ビームを照射して移動体のＸＹ平面内の位置を計測する第１計測系の計測結果に基づいて移動体が駆動される。この場合、アーム部材からグレーティングＲＧに計測ビームを照射する構成が採用されているので、ステージ定盤にエンコーダシステムを設ける場合とは異なり、移動体の駆動に起因する悪影響はない。従って、移動体を精度良く駆動することが可能になる。 （もっと読む）

ウエハステージ（ＷＳＴ１，ＷＳＴ２）の位置情報は、定盤（１４Ａ、１４Ｂ）の下方に配置された計測バー（７１）が有する、複数のエンコーダヘッド、Ｚヘッドなどにより、微動ステージ（ＷＦＳ１，ＷＦＳ２）の下面に配置されたグレーティングを用いて、計測される。従って、ウエハステージ（ＷＳＴ１，ＷＳＴ２）の位置情報の高精度な計測が可能となる。また、ウエハステージのガイド面が所定のクリアランスを介して並べて配置された２つの定盤（１４Ａ，１４Ｂ）によって形成されているので、定盤が一体である場合に比べて、１つ１つの定盤の取り扱いが容易になるとともに、定盤近傍のメンテナンスなどが容易になる。
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本発明の主題は、表面特性を用いて、対象物の特定および／または認証をするための方法である。本発明のさらなる主題は、表面を走査するためのセンサである。 （もっと読む）

【課題】測定対象物の表面で各地点の微細な高さ変化（段差）や突出、凹入、表面損傷、表面粗さなどの表面状態を正確に測定できる光学式表面測定装置及び方法を提供する。
【解決手段】干渉計の信号及びＰＳＤの焦点誤差信号を共に利用することで、測定対象物の微細な表面状態をより正確に測定することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で三方向の変位を計測することができる変位計測装置、及び変位計測システムを提供する。
【解決手段】変位計測装置１は、基体としての床２と、当該床２に対向して形成された変位検出対象物としての建物の天井３とで構成される層４間に設置されている。これにより、変位計測装置１は、例えば地震等の災害によって、天井３の水平方向Ｈ及び鉛直方向ｚへの変位を、第１光線L1及び第２光線L2の受光位置のずれに基づいて検出し得るように構成されている。 （もっと読む）

【課題】再帰反射体を見失ってしまっても測定を再開できる追尾式レーザ干渉計を提供すること。
【解決手段】第１判定部５２１により第１，第２受光手段のうち少なくとも一方の受光手段の受光量が所定の第１閾値以下と判定された場合、パターン射出制御部５４が、光源からの光が所定のパターンに沿って射出されるように変更機構１２１を制御する。そして、パターン射出制御部５４により変更機構１２１が制御され、光源からの光が所定のパターンに沿って射出されている間に、第２判定部５２２により各受光手段の受光量が共に所定の第２閾値以上と判定された場合、追尾制御部５１が変更機構１２１に再帰反射体１１を追尾させる。従って、干渉計１は、再帰反射体１１を見失った場合、所定のパターンに沿って光を射出して再帰反射体１１を探索し、再帰反射体１１を検出した場合には再び再帰反射体１１を追尾でき、測定を再開できる。 （もっと読む）

【課題】産業機械と干渉計とが衝突してしまうことを防止できる測定システムを提供すること。
【解決手段】移動体２１と干渉計３とが接近しすぎるなど、移動体２１に取り付けられた反射体４１に対する測定においてなんらかの異常があった場合、干渉計３の判定手段７が受光信号に基づいて、反射体４１に対する測定において異常があると判定し、干渉計３の停止命令出力手段５２が産業機械２に停止命令を出力する。そして、停止命令が入力された産業機械２の停止手段２３１が移動機構２２の駆動を停止させ、移動体２１の移動を停止させる。従って、移動体２１と干渉計３とが接近しすぎるなど、移動体２１の測定においてなんらかの異常があった場合、産業機械２の停止手段２３１が移動機構２２の駆動を停止させることとなるので、産業機械２と干渉計３とが衝突してしまうことを防止することができる。 （もっと読む）

【課題】加工面と加工工具のように、対象物体面に目的物体の先端を精度良く位置決めする位置検出装置を提供する。
【解決手段】対象物体面上の所望の位置に光源光束を合焦させて、その合焦点に目的物体先端を近づけたときに生じる反射光の強度変化と反射光束の光線方向分布の変化を検出し、目的物体を対象物体面に関して高い分解能で接近させ位置決めする。 （もっと読む）

【課題】短時間にスペクトル測定を行うことができる光学顕微鏡、及びスペクトル測定方法を提供すること。
【解決手段】本発明の第１の態様にかかる光学顕微鏡は、対物レンズ２３を介してレーザ光を試料２４に照射するステップと、対物レンズ２３を介して、試料で反射した反射光を検出するステップと、レーザ光の焦点位置を光軸方向に変化させるステップと、レーザ光の焦点位置を変化させたときの反射光の検出結果に基づいて、スペクトル測定を行う焦点位置を抽出するステップと、抽出された焦点位置になるように調整するステップと、焦点位置を調整した状態で、レーザ光の照射により試料から出射される出射光をレーザ光から分岐するステップと、レーザ光から分岐された出射光のスペクトルを分光器３１で測定するステップと、を備えるものである。 （もっと読む）