【課題】簡単な構造で容易に対象エリア、又は測定対象の画像が取得できると共に対象エリアの測定が行える画像測定装置を提供する。
【解決手段】投光光軸２６と照明光２９を射出する光源２７とを有し、前記投光光軸を経て前記照明光を投射する投光光学系５と、受光光軸１５と撮像素子１３とを有し、測定対象からの再帰反射光２９′を前記受光光軸を経て撮像素子で受光する受光光学系６と、前記撮像素子で撮像されたデータを処理する制御演算装置７とを具備し、前記投光光学系は前記投光光軸を測定対象に向け前記照明光を投射する投光ユニット２５と、該投光ユニットを高低方向、水平方向に回転し、前記照明光の投射角を変更する投射角変更手段２３，３３と、前記受光光軸に対する前記投光光軸の方向角を検出する方向検出手段２４とを有する。 （もっと読む）

【課題】参照面と被検面との間の距離の計測において、計測範囲の広範囲化の技術を提供する。
【解決手段】光源からの第１光を参照面に入射させ第２光を被検面に入射させる分割素子と、前記参照面で反射された前記第１光と前記被検面で反射された前記第２光との干渉光の位相をシフトさせる位相シフト部と、前記干渉光の強度を検出する検出部と、前記光源からの光の周波数を連続的に３つ以上の周波数に設定し前記３つ以上の周波数のそれぞれについて前記干渉光の位相をシフトさせながら前記干渉光の強度を検出するように前記検出部を制御し検出される前記干渉光の強度及び前記位相シフト部による前記干渉光の位相のシフト量に基づいて、前記参照面と前記被検面との間の光路長に相当する位相を特定し前記参照面と前記被検面との距離を求める処理部と前記処理部は前記３つ以上の周波数のそれぞれの間の周波数差が互いに異なるように前記３つ以上の周波数を設定する。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で距離を測定可能なレーザ変位計を提供する。
【解決手段】レーザ光を出射する光源部１１、出射光の光束径を拡張し、拡張後の出射光が反射手段３０で反射された反射光を集光する光束径変更部１４、反射光を受光する受光部１６、出射光と反射光を用い、反射手段３０までの距離を算出する算出部１８、その距離の変位を検出する変位検出部２１、検出された変位に関する出力を行う変位出力部２２、拡張前の出射光と、光束径変更部１４からの反射光との一方を透過させ、他方を反射させることによって、光源部１１からの出射光を、中心領域を介して光束径変更部１４に透過または反射させ、光束径変更部１４からの反射光を、中心領域の外側の領域である外側領域を介して受光部１６に反射または透過させる反射部１７ａを備え、光束径変更部１４は、反射光に対する有効口径が出射光の光束径より大きい。 （もっと読む）

【課題】 透光性板状物体の厚さを全域にわたって短時間で精度よく測定する。
【解決手段】 測定用レーザ光をガラス板Ｇの表面及び裏面で反射させて、反射光をラインセンサ５５に導いてガラス板Ｇの厚さを測定する。測定用レーザ光は、Ｙ軸線回りに回転可能なガルバノミラー４５及びＸ軸線周りに回転可能なガルバノミラー５１を介してガラス板Ｇに照射される。サーボ用レーザ光も、ガルバノミラー４５，５１を介してガラス板Ｇに照射され、反射光はガルバノミラー４５，５１を介して４分割フォトディテクタ６６に導かれる。４分割フォトディテクタ６６により、ガラス板Ｇの表面のＸ軸及びＹ軸線回りの傾きが検出され、この傾きに応じてガルバノミラー４５，５１を駆動するサーボ制御により、測定用レーザ光をガラス板Ｇに対して常に一定方向から入射させる。 （もっと読む）

【課題】装置の高コスト化を抑えながら、被検面の形状を高精度に計測することができる技術を提供する。
【解決手段】被検物を保持する保持面を含む保持部と、被検面と被検面の形状を計測するための基準となる基準位置との間の距離を計測する距離計測部と、基準位置が被検面に沿うように距離計測部を駆動する駆動部と、駆動部によって駆動される距離計測部の基準位置を測定する位置測定部と、距離計測部によって計測された被検面と基準位置との間の距離と位置測定部によって測定された基準位置とに基づいて被検面の形状を算出する処理部と、を有し、位置測定部は、距離計測部に配置されて互いに異なる測定軸を有するレーザ干渉計と、レーザ干渉計のそれぞれからの光をそれぞれ反射する基準ミラーとを含み、レーザ干渉計の原点と基準ミラーとの間の距離を測定することで基準位置を測定し、基準ミラーの法線が保持面を含む面に交差するように配置される。 （もっと読む）

【課題】干渉計の撮像素子から出力される被検面のシェア像を利用し、被検面の形状に関わりなく其の実面形状を直接的に把握すること。
【解決手段】波面分布面Ｗを区画して得た各微小セルＷ_１〜Ｗ_Ｃ１毎の波面分布面側法線ｋ_１〜ｋ_Ｃ１の各々が干渉計１による測定時に被検体１３の球心Ｏに収束する光路を辿って被検面１３ａに入射した照明光（入射光）の何れかの反射光の光路と一致することに基いて、波面分布面Ｗの微小セルＷ_１〜Ｗ_Ｃ１における波面分布面側法線ｋ_１〜ｋ_Ｃ１すなわち被検面１３ａからの反射光に相当する波面分布面側法線ｋ_１〜ｋ_Ｃ１毎に、これに対応する照明光波面側法線l_１〜l_Ｃ１つまり入射光の光路を突き止め、これら２つの光路すなわち波面分布面側法線ｋ_１〜ｋ_Ｃ１と照明光波面側法線l_１〜l_Ｃ１の交点位置Ｒ（１）〜Ｒ（Ｃ１）を求めて被検面１３ａの実面形状のデータとする。 （もっと読む）

【目的】コヒーレント光の干渉性をより排除することが可能な照明装置を提供する。
【構成】照明装置３００は、コヒーレント光を発生する光源１０３と、ランダムに配置された、波長以下の高さの複数の段差領域が形成され、光源からの光線を通過させて位相を変化させる回転位相板１４と、複数のレンズがアレイ状に配列され、回転位相板を通過した光線を通過させるインテグレータ２０と、を備え、複数の段差領域の最大サイズと回転位相板から蝿の目レンズの入射面までの光学倍率の積が、複数のレンズの配列ピッチ以下となる箇所と、複数のレンズの配列ピッチより大きくなる箇所とが混在するように構成されたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】光パルスの検出タイミングにかかわらず、奥行き方向の空間分解能及び測定精度を向上可能である三次元形状測定装置を提供する。
【解決手段】色が規則的に経時変化する光パルスを生成するチャープ導入装置と、前記光パルスをワークに照射し切り出すことで該光パルスの反射光像を取得する反射光像取得部と、反射光像を分光し複数のカラーチャンネルでの各色情報を二次元位置毎に取得する色情報取得部とを備える。前記各色情報に対応する分光特性は、前記光パルスの波長範囲において少なくとも２つが交差する。 （もっと読む）

【課題】対象物の変位を正確に検出することが可能な光学式変位計を提供する。
【解決手段】投光部１は、偏光方向が互いに異なる第１および第２の光を選択的にワークＷに照射する。ワークＷからの反射光が、受光レンズ２２を通して受光素子２１に入射する。波形生成部は、受光素子２１による第１および第２の光の受光量分布を示す第１および第２波形データを生成する。波形処理部７は、第１および第２の波形データの間で互いに対応するピークの比を算出し、算出された比に基づいて、第１および第２の波形データの各々から１つのピークを選択し、そのピークの位置を検出する。 （もっと読む）

【課題】
複数の方向に配置した複数の検出器からの信号を基板の高さ変動の影響を受けることなく処理して基板上のより微細な欠陥を検出することを可能にする。
【解決手段】
第１の集光検出手段と第２の集光検出手段とにそれぞれ複数列の光センサアレイを有する光電変換器を備え、処理手段は第１及び第２の集光検出手段のそれぞれの複数列の光センサアレイからの検出信号を用いて試料の表面に対する第１及び第２の集光検出手段の焦点位置のずれを求め、この求めた第１及び第２の集光検出手段のそれぞれの焦点位置のずれに応じて第１の集光検出手段から出力された検出信号と第２の集光検出手段から出力された検出信号とを補正し、この補正した第１の集光検出手段から出力された検出信号と第２の集光検出手段から出力された検出信号とを統合して試料上の欠陥を検出するようにした。 （もっと読む）

【課題】
微小な欠陥を検出すること、検出した欠陥の寸法を高精度に計測することなどが求められる。
【解決手段】
光源から出射した光を、調整する照明光調整工程と、前記照明光調整工程により得られる光束を所望の照明強度分布に形成する照明強度分布制御工程と、前記照明強度分布の長手方向に対して実質的に垂直な方向に試料を変位させる試料走査工程と、照明光が照射される領域内の複数の小領域各々から出射される散乱光の光子数を計数して対応する複数の散乱光検出信号を出力する散乱光検出工程と、複数の散乱光検出信号を処理して欠陥の存在を判定する欠陥判定工程と、欠陥と判定される箇所各々について欠陥の寸法を判定する欠陥寸法判定工程と、前記欠陥と判定される箇所各々について、前記試料表面上における位置および前記欠陥の寸法を表示する表示工程と、を有することを特徴とする欠陥検査方法。 （もっと読む）

【課題】生体細胞のような位相物体の観察に用いられてきた従来の位相差顕微鏡に代わって、広くて深い測定視界を持ち、位相差の干渉画像が鮮明に得られる、単純で簡便な位相物体画像の識別、検査の方法と装置を提供する。
【解決手段】可干渉性平行レーザ光束中に設置されたフーリエ変換レンズで構成される広い測定視界中に置かれた位相物体から得られるフーリエ変換像(光回折パターン)の零次光だけを高次の回折光と異なる位相差参照光として、高次光回折パターンで得られる位相物体像と干渉させて鮮明な位相差画像を得る。また、位相物体の位相差を含めて異なる形状の複数形状粒子群を形状ごとに数や挙動や位置を自動計測するために、多重マッチトフィルタ法を含んだ位相差画像を検査する。 （もっと読む）

【課題】コストを増加させずに処理の高速化と解像度の変更が可能な光電変換素子と、それを用いた欠陥検査装置及び欠陥検査方法を提供する。
【解決手段】複数のセンサ画素を有する光電変換素子１において、マルチプレクサ５と、複数の水平転送レジスタ３ａ〜３ｄとを有する。センサ画素は、水平転送レジスタ３ａ〜３ｄのそれぞれに対応するように、複数のブロック２ａ〜２ｄに分割される。複数のブロック２ａ〜２ｄの電荷が、対応するそれぞれの水平転送レジスタ３ａ〜３ｄを介してマルチプレクサ５に読み出され、マルチプレクサ５を介して出力されるように構成する。 （もっと読む）

【課題】コヒーレント光源を用いて線状パターンの投影を行いつつ、投影面でのスペックルの発生を抑制する
【解決手段】レーザビームＬ５０を、光ビーム走査装置６０によって反射させ、ホログラム記録媒体４５に照射する。ホログラム記録媒体４５には、走査基点Ｂに収束する参照光を用いて線状散乱体の像３５がホログラムとして記録されている。光ビーム走査装置６０は、レーザビームＬ５０を走査基点Ｂで屈曲させてホログラム記録媒体４５に照射する。このとき、レーザビームの屈曲態様を時間的に変化させ、屈曲されたレーザビームＬ６０のホログラム記録媒体４５に対する照射位置を時間的に変化させる。ホログラム記録媒体４５からの回折光Ｌ４５は、ステージ２１０の受光面Ｒ上に線状散乱体の再生像３５を生成する。受光面Ｒに物体を載置すると、ホログラム再生光により線状パターンが投影されるので、その投影像を撮影して物体の三次元形状測定を行う。 （もっと読む）

【課題】
ヘッド先端部に接触センサを搭載し欠陥との接触によりこれを検出する方法によっては、欠陥検出時に欠陥を引きずりウエハ表面に傷をつける可能性がある。
【解決手段】
試料の表面に照明光を照射するプリスキャン照射工程と、散乱光を検出するプリスキャン検出工程と、該散乱光に基づき該試料の表面に存在する所定の欠陥の情報を得るプリスキャン欠陥情報収集工程と、を備えるプリスキャン欠陥検査工程と、該試料の表面と近接場ヘッドとの距離を調整して該試料の表面を照射する近接場照射工程と、近接場光応答を検出する近接場検出工程と、該近接場光に基づき所定の欠陥の情報を得る近接場欠陥情報収集工程と、を備える近接場欠陥検査工程と、該所定の欠陥の情報をマージして該試料の表面に存在する欠陥を検査するマージ工程と、を有する試料の表面の欠陥検査方法である。 （もっと読む）

【課題】
従来技術によれば、試料に熱ダメージを与えることなく、短時間で高精度に欠陥検出・寸法算出することが困難であった。
【解決手段】
試料の表面におけるある一方向について照明強度分布が実質的に均一な照明光を、前記試料の表面に照射し、前記試料の表面からの散乱光のうち互いに異なる複数の方向に出射する複数の散乱光成分を検出して対応する複数の散乱光検出信号を得、前記複数の散乱光検出信号のうち少なくとも一つを処理して欠陥の存在を判定し、前記処理により欠陥と判定された箇所各々について対応する複数の散乱光検出信号のうち少なくとも一つを処理して欠陥の寸法を判定し、前記欠陥と判定された箇所各々について前記試料表面上における位置及び欠陥寸法を表示する欠陥検査方法を提案する。 （もっと読む）

【課題】高精度な面形状計測に有利な面形状計測装置を提供する。
【解決手段】計測装置は、基準点を通過し被検面で反射し基準点に戻る被検光と参照光との干渉波を検出する検出器を含む計測ヘッドと、計測ヘッドを走査する走査機構と、検出された干渉波に基づき被検面の形状を算出する処理部とを備える。処理部は、検出された干渉波から参照光と被検光との間の光路長差を算出し、被検面の形状のノミナル値と計測ヘッド内の光学部品の光学情報とに基づき、検出器における被検光の被検波面及び参照光の参照波面を光学演算により算出し、算出した被検波面及び参照波面から被検光と参照光との間の波面差を算出し、当該波面差から該波面差による位相誤差を算出し、算出した光路長差を算出した位相誤差に基づき補正し、当該光路長差に基づき基準点と被検面との間の距離を算出し、算出した基準点と被検面との間の距離と基準点の座標とに基づき被検面の形状を算出する。 （もっと読む）

【課題】欠陥検査装置では検出倍率を上げて微細欠陥検出感度を向上させるため、焦点深
度が浅くなり、環境変動によって結像位置がずれ、欠陥検出感度が不安定になる課題があ
る。
【解決手段】被検査基板を搭載して所定方向に走査するＸＹステージと、被検査基板上の
欠陥を斜めから照明し、その欠陥を上方に配した検出光学系で検出する方式で、この結像
状態を最良の状態に保つために、温度及び気圧の変化に対して、結像位置変化を補正する
機構を備えたことを特徴とする欠陥検査装置。 （もっと読む）

【課題】面ずれと面倒れを互いに分離して高精度に測定することができ、かつ種々の被検体を測定対象とすることが可能な面ずれ面倒れ測定装置を得る。
【解決手段】回折格子２２Ａを介して、光軸Ｃ_２２Ａに対する波面の進行角度が互いに異なる２つの円錐状光束を第１被検面９０Ａに照射するとともに、回折格子２２Ｂを介して、光軸Ｃ_２２Ｂに対する波面の進行角度が互いに異なる２つの円錐状光束を第２被検面９０Ｂに照射する。第１被検面９０Ａからの戻り光により形成される２つの干渉縞を解析することにより、光軸Ｃ_２２Ａに対する第１被検面９０Ａの面ずれおよび面倒れを求め、第２被検面９０Ｂからの戻り光により形成される２つの干渉縞を解析することにより、光軸Ｃ_２２Ｂに対する第２被検面９０Ａの面ずれおよび面倒れを求め、それらの結果から、被検レンズ９の面ずれおよび面倒れを求める。 （もっと読む）

【課題】互いに離間した複数の平面または回転対称な線織面からなる被検面の傾斜角度を、被検面を傷付けることなく、高精度に測定することが可能な傾斜角度測定装置を得る。
【解決手段】アライメント用反射平面４１および測定光偏向用反射面４２Ａ，４２Ｂを有する反射素子４０を、被検面９１Ａ，９１Ｂから離間した位置に保持し、干渉計１０から反射素子４０に向けて測定光を照射する。アライメント用反射平面４１からの戻り光により形成される干渉縞画像に基づき、干渉計１０に対する反射素子４０のアライメントが調整される。測定光偏向用反射面４２Ａ，４２Ｂにおいて偏向されて被検面９１Ａ，９１Ｂに照射され、再帰反射されて測定光偏向用反射面４２Ａ，４２Ｂを経由し干渉計１０に戻る被検光により形成される干渉縞画像に基づき、被検面９１Ａ，９１Ｂの相対傾斜角度が解析される。 （もっと読む）