【課題】溶剤の蒸散や固形成分の濃度にかかわらず、液滴吐出装置からの液滴吐出量を高い精度で計測することのできる液滴吐出量測定方法、および当該液滴吐出量測定方法を利用した有機ＥＬ装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】固形成分および溶媒を含む機能液を導入したインクジェット方式の液滴吐出装置２により吐出した機能液の液滴Ｍの量を測定するにあたって、検査面１１上に機能液の液滴Ｍを吐出着弾させた後、液滴Ｍから溶剤を蒸散させて固形ドットＤとする。その際、液滴Ｍからの溶剤の蒸散に伴って液滴Ｍを堆積収縮させて液滴Ｍの着弾面積よりも固形ドットＤの面積を狭くする。しかる後に、固形ドットＤを画像認識して固形ドットＤの体積を測定する。 （もっと読む）

【課題】パターン付基板を検査対象とした欠陥検査において，実際の検査対象物物が存在しない状態で、検査条件を設定することにより、検査装置の稼働率を向上させる。
【解決手段】パターン設計データ１１１から得られるパターンデータを基本パターンに分解（１２１）し、プロセス条件データ１１２、材料定数データ１１３、装置パラメータ１１５を加味して基本パターンの検出出力の計算を行い（１２２）、基本パターンの検出出力を統合して推定画像を作成する（１２４）。一方、基本欠陥データ１１４、材料定数データ１１３、装置パラメータデータ１１５を用いて欠陥の出力データを作成する（１２３Ａ）。推定画像１２４および欠陥データ１２３Ａを用いて検査装置の検査条件を設定する。これによって検査条件をオフラインで設定でき、装置の稼働率を向上させることが出来る。 （もっと読む）

【課題】搬送中の鋼板等の帯状体のエッジ部に発生する歪のような緩やかな形状欠陥及び表面疵を検査し、高い精度でトリム代を設定できるようにする。
【解決手段】搬送される帯状体エッジ部の形状を表す形状画像から、帯状体の幅方向各位置において、予め設定された間隔で帯状体の長手方向に沿っての急峻度最大値を求め、幅方向各位置と長手方向急峻度最大値との関係である最大急峻度プロフィールを生成し、該最大急峻度プロフィールから、該長手方向急峻度最大値が予め設定された閾値と等しくなる幅方向位置を形状欠陥幅として算出する形状欠陥幅算出部５０７と、エッジ部の輝度画像から有害表面疵を検出し、エッジからの幅方向距離の最大値である表面疵幅を算出する表面疵幅算出部５１１と、前記形状欠陥幅と前記表面疵幅とを比較して、エッジ欠陥切除位置を出力するエッジ欠陥切除位置出力部５１２とを備える。 （もっと読む）

【課題】パターン投影型の三次形状測定の原理に起因する測定誤差を抑えること。
【解決手段】本発明の三次元形状測定装置を例示する一態様は、測定対象物上に縞パターンを投影する投影手段（１３）と、測定対象物上に投影される縞パターンの位相を変化させながら、その測定対象物の撮像を繰り返すことにより、測定対象物上の各位置から輝度変化データを取得する撮像手段（１４）と、測定対象物に対する縞パターンのフォーカス位置を変化させながら、輝度変化データの取得を繰り返し実行させることにより、測定対象物上の各位置から輝度変化データを複数ずつ取得する制御手段（１０１）と、制御手段が取得した複数の輝度変化データの中から信頼性の高いものを選出する選出処理を、測定対象物上の各位置について行う選出手段（１００）と、測定対象物上の各位置について選出された輝度変化データによって表される各位置の座標を、測定対象物の面形状として求める形状算出手段（１００）とを備える。 （もっと読む）

【課題】測定対象物の歪曲を適切に補償した検査領域の設定方法を提供する。
【解決手段】ステージに測定対象物を配置し、測定対象物に対する基準データを呼び出し、測定対象物に対する測定データを獲得し、測定対象物に対する測定データと測定対象物に対する基準データから少なくとも一つの特徴オブジェクトを選択し、基準データおよび測定データから選択された特徴オブジェクトに対する少なくとも一つの特徴変数をそれぞれ抽出し、特徴変数および定量化した変換公式を用いて測定対象物の変化量を算出し、算出された変化量を補償して検査領域を設定する。 （もっと読む）

【課題】高温の被計測体の形状計測に際し、被計測体の表面異常を正確かつ容易に識別する。
【解決手段】 高温の被計測体１０の形状計測において、レーザ光源２０から輻射光と異なるピーク波長のレーザ光を被計測体１０に投光し、反射光撮像部４０で得たレーザ光に応じた反射光データに基づいて形状算出部６０が被計測体の形状を算出する。異常判定部１１０は、輻射光撮像部３０が被計測体１０の輻射光を撮像して得た輻射光画像から所定暗部を抽出し、該輻射光の暗部を前記高温の被計測体の表面異常と判定し、形状算出部６０が表面異常と判定された領域について正常と推定される形状を演算する。 （もっと読む）

本発明は、基材（２）上に被覆されたコーティング層（７）の厚みを測定する装置及び方法に関する。基材（２）上のコーティング層（７）の厚みは、コーティングローラー（３）上のコーティング層（４，８）の厚みが該コーティングからコーティングローラー（３）から基材（２）へ転写される前後に測定されることによって間接的に測定される。コーティングローラー（３）上のコーティング層（４，８）の厚みを測定するために、２つのセンサー（９，１０）がコーティングローラー（３）上の各々の層（４，８）に向けられて使用される。センサー（９，１０）はＩＲ放射器とＩＲ検知器とを備えている。
（もっと読む）

【課題】簡易な構成で膜厚を測定することができる膜厚測定装置及び膜厚測定方法を提供する。
【解決手段】本発明の一態様にかかる膜厚測定装置は、透明膜の表面反射光又は界面反射光が２次元アレイ光検出器の受光面に照射される照明領域に対応する画素列を光変換手段の位置に応じて記憶する画素列記憶手段と、試料上における焦点高さを走査する焦点高さ走査手段と、照明領域に対応する画素列で検出される光に基づく信号を焦点高さと対応付けて記憶する測定データ記憶手段１０１と、焦点高さを変数とし、測定データ記憶部１０１により透明膜の光学的な膜厚を求めるために参照される参照関数を記憶する参照関数記憶手段１０２と、参照関数と測定データに基づいて最小二乗法により、薄膜の光学的な膜厚を算出する算出手段１０５とを有するものである。
ものである。 （もっと読む）

【課題】外乱（例えば温度変化や振動）が測定精度に与える影響を抑制でき、測定レンジに依存しない高精度の測定が可能な低コヒーレンス干渉計を提供する。
【解決手段】本発明に係る低コヒーレンス干渉計１は、測定対象２の三次元形状又は膜厚測定に供される低コヒーレンス干渉計であって、白色光を射出する光源１１と、白色光を測定対象に集光させ光軸方向に移動可能な対物レンズ１４と、白色光を測定対象２に照射する物体光３と参照鏡１７に照射する参照光４とに分波し、測定対象で反射された物体光３と参照鏡１７で反射された参照光４を合波して白色干渉光を出力させる光分波合波器１６と、光分波合波器１６から出力された白色干渉光を検出する白色光検出器２０と、対物レンズの光軸方向の移動量を測定するための移動量測定器３０を備え、移動量測定器はレーザ光を射出するレーザ光源３１と光軸上に形成されレーザ光を反射する反射膜３２を有する。 （もっと読む）

【課題】安価で高精度な光波干渉計測装置を提供する。
【解決手段】光波干渉計測装置は、複数のスペクトルを有する光束を射出する第１多波長光源２００ａと、第１多波長光源からの光束とは異なる波長を有する光束を射出する第２多波長光源２００ｂと、第１多波長光源２００ａ及び第２多波長光源２００ｂからの光束を分離する偏光ビームスプリッタ６と、第２多波長光源２００ｂからの光束を反射する参照面７と、第１多波長光源２００ａからの光束を反射する被検面８と、第１多波長光源２００ａ及び第２多波長光源２００ｂからの光束の干渉信号を分光する分波器９ａ、９ｂと、第１多波長光源２００ａ及び第２多波長光源２００ｂからの光束の単一波長同士の干渉信号を複数の波長について検出する検出装置１０ａ、１０ｂと、検出装置１０ａ、１０ｂからの信号を処理して参照面７と被検面８との間の光路長差を算出する解析装置１１とを有する。 （もっと読む）

【課題】 膜状の測定対象物の膜厚の時間変化を精度良く測定することが可能な膜厚測定装置、及び膜厚測定方法を提供する。
【解決手段】 第１波長λ_１の測定光成分、及び第２波長λ_２の測定光成分を含む測定光を測定対象物１５へと供給する測定光源２８と、測定対象物１５の上面からの反射光及び下面からの反射光の干渉光について、第１波長λ_１の干渉光成分、及び第２波長λ_２の干渉光成分に分解する分光光学系３０と、第１、第２干渉光成分のそれぞれの各時点での強度を検出する光検出器３１、３２と、膜厚解析部４０とを有して膜厚測定装置１Ａを構成する。膜厚解析部４０は、第１干渉光成分の検出強度の時間変化での第１位相と、第２干渉光成分の検出強度の時間変化での第２位相との位相差に基づいて、測定対象物１５の膜厚の時間変化を求める。 （もっと読む）

【課題】 外乱光の到達を抑制し再帰反射光を効率よく撮像することができる撮像装置、位置計測システムおよびプログラムを提供する。
【解決手段】 位置計測システムは、対象物に取り付けられた位置関係の分かっている複数の再帰反射体を有する再帰反射体セット１と、再帰反射体セットを撮像する撮像装置２と、撮像装置２で撮像した再帰反射体セット１の画像に基づいて再帰反射体セットの３次元位置および角度の少なくとも一方を演算する演算装置３とを備える。撮像装置２は、２次元撮像素子２１と、２次元撮像素子の前方に配置されたレンズ２２と、レンズの周囲に配置された光源２３と、レンズ２２および光源の前方に配置された誘電体多層膜帯域通過フィルタ２４，２５とを備える。 （もっと読む）

【課題】 基板上に形成された膜厚が巨視的に見てなだらかに傾斜している場合でも、光の波長帯に依存せず、検出感度の良いムラ検査装置、およびムラ検査方法、およびプログラムを提供する。
【解決手段】 基板９の上面に形成された膜９２に対して異なる波長帯の光を照射し、それぞれの波長帯の光により膜９２の膜厚の変動を示すムラ画像を取得する。ムラ画像からムラを含む領域を選択し、それぞれの領域を合成することにより、基板全面において膜厚ムラが高感度に検出されたムラ画像を得ることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】干渉光学系を用いた表面形状測定方法および装置において、複数の干渉縞画像を撮像し、測定対象の表面形状を正確に計測できる表面形状測定方法および測定装置を提供する。
【解決手段】光の進行方向に対して異なる角度の参照面による複数の干渉縞画像を取得する第１の過程と、前記複数の各干渉縞画像の同一座標における干渉縞振幅を比較し、その最も大きな干渉縞振幅を持つ干渉縞画像から得られる高さを実高さとする第２の過程とを備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】検査速度及び検査信頼性を向上できる印刷回路基板の外観検査システム及び方法を提供する。
【解決手段】本発明の外観検査方法は、検査対象物の全体検査領域を第１領域と第２領域とで区分する段階と、異なる照明を使用する第１カメラと第２カメラとで検査対象物の全体検査領域を撮像する段階と、上記第１カメラから獲得された第１イメージを有して第１領域の良好或いは不良の可否を判断し、上記第２カメラから獲得された第２イメージを有して第２領域の良好或いは不良の可否を判断する判別段階を包含する。 （もっと読む）

【課題】測定値の信頼性に関する新たな情報を提供できるようにする。
【解決手段】カーブフィッティング法において理論干渉波形毎に得られる各フィッティングレベルと、各フィッティングレベルにそれぞれ対応する各理論干渉波形の膜厚との相関を示す相関図３６を作成して表示するとともに、膜厚むらによって変化する相関図３６の波形の谷部のピーク値について、しきい値Ｌ１，Ｌ２を設定し、谷部のピーク値が、しきい値Ｌ１，Ｌ２で規定される警報範囲に入ったときには、安定に測定が行われていないとして警報を出力するようにしている。 （もっと読む）

【課題】照明光の光量を安定させた表面検査装置を提供する。
【解決手段】表面検査装置は、照明部が所定の波長領域の光を透過させるバンドパスフィルターが設けられた波長選択機構７０，７５を有し、当該バンドパスフィルターを透過して得られた所定の波長領域の光を照明光として被検基板の表面に照射する。紫外光を遮断するＵＶカットフィルター６５がランプハウス６１と波長選択機構７０，７５との間の光路上に挿抜可能に設けられ、非検査時にＵＶカットフィルター６５が光路上に挿入されて、ＵＶカットフィルター６５を透過した光が前記バンドパスフィルターに照射されると共に、熱線反射部材が前記バンドパスフィルターの後段の光路上に挿抜可能に設けられ、前記被検基板の非検査時に前記熱線反射部材が前記光路上に挿入されて、前記バンドパスフィルターを透過した熱線が前記熱線反射部材により反射されて前記バンドパスフィルターに照射される。 （もっと読む）

【課題】設置スペースが限られていても測定しやすい干渉計を提供すること。
【解決手段】レーザ光源２からの光Ｌ１を参照面７２１に入射させるとともに被測定物４に入射させ、偏光面が直交する参照光Ｌ４および測定光Ｌ５を得、それらの合波光Ｌ６を射出するセンサヘッド７が、レーザ光源２などを備える本体部１０に、可撓性を有する偏波保存ファイバ３０９により接続されているので、センサヘッド７を適宜の位置に配置でき、設置スペースが限られていても簡単に被測定物４の変位量を測定できる。また、センサヘッド７が、偏光面を保存して導光する偏波保存ファイバ３０９により本体部１０と接続されているので、センサヘッド７から射出された合波光Ｌ６が偏波保存ファイバ３０９を透過する際に、参照光Ｌ４および測定光Ｌ５の偏光面が互いに直交した状態のまま保存される。そのため、合波光Ｌ６から被測定物４の変位量を正確に測定できる。 （もっと読む）

【課題】被検知物の存在、方向、または距離だけでなく、形状や大きさをも検知することができる超小型物体検知装置を提供する。
【解決手段】物体検知装置１は、発光素子３と、これから照射された光を線状光に変換する回折光学素子４とを回転させる回転駆動手段と、前記線状光をその線方向と直交する方向に走査することによって形成される検知領域にある被検知物から反射された反射光を受けて反射光のパターンを生成する撮像素子５と、前記撮像素子により生成された前記反射光のパターンから前記被検知物の存在、その方向、形状又は大きさを検知する検知回路６とを備える。 （もっと読む）

【課題】薄膜の基板面内における膜厚変動の影響を低減でき、計測精度の向上を図ること。
【解決手段】ガラス基板上に薄膜が製膜された被検査基板Ｗに、該ガラス基板側から単波長の光を照射する光源と、光源から射出された照明光の光軸に対して所定の傾斜角度で受光軸が交差するように配置され、被検査基板Ｗを透過した拡散透過光を受光する受光素子と、受光素子によって受光された光の強度に基づいて薄膜のヘイズ率を求めるコンピュータ７とを備える。コンピュータ７は、ヘイズ率と拡散透過光の光強度とが関連付けられたヘイズ率特性を有しており、該ヘイズ率特性と前記受光素子によって受光された光強度とを用いてヘイズ率を求める。 （もっと読む）