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Fターム[2F065LL22]の内容

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【課題】 正確かつ簡単にディストーションを求めることができ、正確な面形状を測定することができる面形状計測装置を提供すること。
【解決手段】 光源からの光を測定光と参照光とに分割し、被測定面で反射した測定光と参照光とが干渉することで形成される干渉縞に基づいて、被測定面の形状を測定する面形状測定装置は、干渉縞を撮像する第1の撮像素子と、測定光および参照光を第1の撮像素子に導く光学系と、光学系を経由していない光源からの光の光量分布を測定する第2の撮像素子と、第1の撮像素子で撮像した干渉縞に基づいて被測定面の形状を算出する算出手段とを備える。まず、光学系を経由した光源からの光の光量分布を、第1の撮像素子で測定する。そして、第1の撮像素子で測定した光量分布と第2の撮像素子で測定した光量分布とに基づいて、算出手段で算出される被測定面の形状を補正する。 (もっと読む)


【課題】複数の検出対象物の位置をそれぞれ検出すること。
【解決手段】光学式位置検出装置は、相互に異なる第1の波長域及び第2の波長域に光強度を備えた位置検出光L2を放出する位置検出用光源部140と、第1の波長域の反射率が第2の波長域より高い反射特性を備えた第1検出対象物310と、第2の波長域の反射率が第1の波長域より高い反射特性を備えた第2検出対象物320と、第1の波長域の検出感度が前記第2の波長域より高い感度特性を備え第1の光検出信号を出力する第1光検出部410と、第2の波長域の検出感度が前記第1の波長域より高い感度特性を備え第2の光検出信号を出力する第2光検出部420と、位置検出用光源140を制御して光強度分布を形成するとともに、第1の光検出信号に基づいて第1検出対象物310の位置を検出し、第2の光検出信号に基づいて第2検出対象物320の位置を検出する位置検出部400と、を具備する。 (もっと読む)


【課題】画像検査装置において、被検体からの光を複数の波長帯域に分けて画像を取得して画像検査を行う場合に、簡素な構成により高精度な検査を行うことができるようにする。
【解決手段】画像検査装置50は、可視光Lと、赤外光Lとを、導体パターン2に照射する照明部4と、導体パターン2で反射された可視光Lおよび赤外光Lを結像する撮像光学系6と、撮像光学系6によって結像された像を撮像する撮像素子8と、導体パターン2と撮像素子8との間の光路上で進退可能に設けられ、可視光Lの透過を阻止するとともに赤外光Lを透過させる可視光カットフィルタ7bと、導体パターン2と撮像光学系6との間の光路上で進退可能に設けられ、赤外光Lの透過を阻止するとともに可視光Lを透過させる赤外光カットフィルタ7aと、を備える。 (もっと読む)


【課題】計測能力を向上すること。
【解決手段】所定の移動面内を移動する移動体の移動情報を検出する計測装置であって、ピッチが互いに等しくなるように配置された格子をそれぞれ有し、当該格子の位相が互いにずれるように移動体に設けられた複数の回折格子と、光源からの光を複数の回折格子のそれぞれに向けて射出すると共に、複数の回折格子のそれぞれにおいて得られた回折光を個別に干渉させる光学系と、光学系を介して得られた干渉光を検出し、検出結果に基づいて移動情報を検出する検出装置とを備える。 (もっと読む)


【課題】本発明は、生産コストが低いセンシングシステムを提供することである。
【解決手段】本発明に係わるセンシングシステムは、ポインターをセンシングし且つポインターの位置を計算することに用いられる。本発明に係わるセンシングシステムは、パネルと、反射エレメントと、イメージ・センサー及びプロセッサーを備える。パネルは、第一平面及び前記第一平面に位置し且つ順次に連接する第一辺、第二辺、第三辺、第四辺を有する四角形である第一エリアを有する。反射エレメントは、第一辺に配置され、且つ第一平面の上に位置する。反射エレメントの第二平面は、反射面であって、パネルの第一平面に直交し、且つ第一エリアを照り映えて第二エリアを形成する。イメージ・センサーは、第三辺と第四辺が交差する隅に配置され、且つ第一平面の上に位置する。イメージ・センサーのセンシング範囲は、第一エリア及び第二エリアを覆う。プロセッサーは、イメージ・センサーに電気接続する。 (もっと読む)


【課題】設計変更を要することなく太陽光などの外乱の影響を抑制することができる非接触プローブ、及び測定機の提供。
【解決手段】測定機1は、ステップゲージを非接触で検出する非接触プローブ2を備える。非接触プローブ2は、光を出射する発光素子4と、発光素子4から出射される光を受光する受光素子5と、受光素子5に至る光路を覆う光学フィルタ6とを備える。光学フィルタ6は、発光素子4から出射される光を透過させる透過帯域と、受光素子5が感度を有する光を遮断する遮断帯域とを備えている。 (もっと読む)


【課題】局所加工ツールによる加工時間と加工量の相関が一意に定まらない場合でも、高精度で高速な加工が可能な形状加工方法を提供する。
【解決手段】各加工点Pにおける局所加工ツールによる加工量を加工中に逐次測定し、加工量の時間変化を推定して、加工点間の移動時に加工される加工量Vi,i+1,iおよびVi,i+1,i+1を計算する。このように計算により求めた移動中の加工量と、現加工点における加工量Vとの和が、現加工点Pの所望加工量Vi,f以上となった時に、次の加工点Pi+1への局所加工ツールの移動を開始する。 (もっと読む)


【課題】 ウェハステージとマスクステージのアライメントマークを1台の撮像装置で撮像可能とする。
【解決手段】 マスクステージ18は、マスクステージマーク20を備え、マスク16を支持する。ウェハステージ32は、ウェハステージマーク42を備え、ウェハ30を支持する。撮像装置48は、マスクステージマーク20が撮像可能となる状態と、ウェハステージマーク42が撮像可能な状態とに切替えられる。制御部40は、撮像装置48によって撮像されたマスクステージマーク20の位置情報とウェハステージマーク42の位置情報に基づいてアライメントを実行する。 (もっと読む)


【課題】光路系に対する機械的な移動機構を用いずに、被測定物の厚みを高精度に測距可能な厚み測定方法及び厚み測定装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明に係る厚み測定方法及び厚み測定装置によれば、レーザ照射手段10から出射するレーザ光の周波数を所定の範囲内で変化させ、そのときの干渉光の干渉縞の周期を用いて原点Oから第1測定点S1までの光路長L1と原点Oから第2測定点S2までの光路長L2とを算出し、これに基づいて被測定物6の厚みtを算出する。これにより、光路系に対する機械的な移動機構を用いることなく被測定物6の厚みtを高精度に測距することができる。 (もっと読む)


【課題】連続性のある実画像に3次元情報を持たせ、仮想空間の任意の視点から実画像に含まれる物体を見ることが可能な画像データを生成する3次元デジタイザを提供する。
【解決手段】撮像手段2はカラー画像を撮像し、距離画像生成手段1は撮像手段2と重複する視野を持ち距離画像を生成する。撮像位置計測手段4は、撮像手段2および距離画像生成手段1による撮像位置と撮像方向とを計測する。座標変換手段3は、距離画像に規定した装置座標を位置計測手段4により計測した撮像位置および撮像方向を用いて実空間に規定されている3次元の実空間座標に変換する。座標変換手段3で得られた物体の実空間座標を用いることにより、仮想空間形成手段5では、物体のモデリングを行い仮想空間を形成する。さらに、外観形成手段6は、仮想空間に配置した物体に撮像手段で撮像した物体の外観をテクスチャとしてマッピングを行う。 (もっと読む)


【課題】表面に膜が形成されたウエハでも安定してアライメントマークと周辺部のコントラストが高い画像データを取得できるようにしたものを提供する。
【解決手段】照明光となる光源と前記光源からの光を物体に照射し、また反射光を集光結像する結像光学系と前記結像光学系の集光点に設置し、物体の画像を取り込むカメラと取り込んだ画像を処理する画像処理機能からなるアライメント測定装置を備えた欠陥検査装置において、画像の取り込みを少なくとも2つの異なる波長帯域の反射光において行い、それぞれの反射光に対応した物体の画像情報を適切に演算処理することによってアライメントマークのコントラストを高めるように構成する。 (もっと読む)


【課題】周期性のあるパターンの被検査体に対し、回折光によるコントラストから正常部と変動部とを精度良く識別でき、かつ、モアレのような外乱要素を含まない被検査画像を取得すること。
【解決手段】本発明の実施の形態1に係るむら検査装置は、透過照明部10、X−Y−θステージ部20、アライメント用撮像部30、回折光強度測定部兼撮像部40及び処理・制御部100を具備している。X−Y−θステージ部20は、被検査基板60の位置決め動作及び基板搬送動作が可能である。アライメント用撮像部30は、被検査基板60の位置決めを実施する。回折光強度測定部兼撮像部40は、被検査基板60からの回折光強度を取得し、また、被検査画像取得を実施する。処理・制御部100の情報処理手段101は、透過照明部10、X−Y−θステージ部20、アライメント用撮像部30及び回折光強度測定部兼撮像部40の動作管理及び制御を行う。 (もっと読む)


【課題】三次元形状を測定する三次元測定の作業性を改善できる技術を提供する。
【解決手段】複数の識別点が設けられた対象物の三次元形状のうち第1領域に第1検出光および第2検出光を時間的に順次に投光する検出光投光手段と、検出光投光手段からの投光によって照明された第1領域の画像を撮影する画像撮影手段と、第1検出光が投光されたときの画像に基づいて第1領域の三次元形状を表現した三次元形状データを取得する形状取得手段と、第2検出光が投光されたときの前記画像に基づいて第1領域に設けられた複数の着目識別点のそれぞれの位置を表現した第1位置データを取得する位置取得手段と、前記第1位置データに基づいて、前記複数の着目識別点のそれぞれの位置を示す第1位置指示光を前記対象物に向けて投光する指示光投光手段を備える。 (もっと読む)


【課題】ウエハを保持するステージを高精度で駆動する。
【解決手段】 微動ステージWFS1と微動ステージWFS1を支持する粗動ステージWCS1とにより囲まれる空間内に位置決めされる計測アーム71Aがエンコーダヘッドを有し、該ヘッドにより微動ステージWFS1に設けられたグレーティングRGに計測ビームを照射し、グレーティングRGからの戻りビームを受光する。ヘッドの出力に基づいて、微動ステージ位置計測系が微動ステージWFS1の位置情報を計測する。計測アーム位置計測系72Aが、計測アーム71Aの光軸AXに対する相対位置情報を計測する。従って、微動ステージ位置計測系と計測アーム位置計測系72Aとの計測結果に基づいて、光軸AXを基準とする微動ステージWFS1の位置情報を高精度で計測する。 (もっと読む)


【課題】オートコリメータを使用したレンズの偏心測定精度を改善する。
【解決手段】オートコリメータ100を用い、かつ光軸を有する光学素子1を回転させて上記光学素子における上記光軸と回転軸との偏心を調整する偏心調整方法であって、光源130が発する光束から回折光学素子112によりそれぞれ異なる次数の回折光131,132を上記光学素子の光学作用面1a及びフランジ面1cに照射し、受光部120で検出された検出結果から、上記光学作用面における光軸と上記光学素子の上記回転軸とが一致するように上記光学素子を位置決めする。 (もっと読む)


【課題】 三次元干渉顕微鏡観察を提供する。
【解決手段】 サンプル内にあるスイッチャブル光源のうち統計的に散在するサブセットが活性化され、活性化されたスイッチャブル光源が励起され、それにより、光ビームが、少なくとも2つの光路に沿って、活性化されたスイッチャブル光源から放出される。活性化されたスイッチャブル光源から第1の光路に沿って放出される第1の光ビームでの第1の波面修正が導入され、活性化されたスイッチャブル光源から第2の光路に沿って放出される第2の光ビームでの第2の波面修正が導入され、第2の波面修正が、第1の波面修正とは異なる。第1および第2の光ビームが、互いに干渉されて、複数の出力ビームを生成し、光源の三次元位置情報が、複数の出力ビームからの各出力ビームの強度に基づいて決定される。 (もっと読む)


【課題】センサヘッドも計測システムも一つだけでよい溶接用レーザ・視覚複合センサおよび溶接制御方法を提供する。
【解決手段】開先上に投光したレーザ光(レーザスリット光25)の開先断面像と、アーク直下の溶融池及び電極の画像を得るための溶接用レーザ・視覚複合センサであって、トーチホルダー20上で、溶接トーチ22を中心として、トーチ移動方向の前方及び後方の一方にレーザ投光器24を、他方に撮影カメラ26を配設し、レーザセンサとして使用するときは、前記レーザ投光器24を開先の真上から投光できる姿勢として、開先断面像を前記撮影カメラ26で撮像し、視覚センサとして使用するときは、前記溶接トーチ22を被溶接物10に対して溶接に必要な姿勢として、アーク直下の溶融池及び電極の画像を前記撮影カメラ26で直接撮影する。 (もっと読む)


【課題】ナノインプリント成型積層体の欠陥検査や膜厚測定を簡便かつ迅速に、非破壊で行うことが可能な検査方法を提供すること。
【解決手段】本発明の検査方法は、鋳型モールドを用いるナノインプリント法により成型されたレジスト材料からなる膜層を有する基板に対して、レジスト材料を発光させる励起波長の光を照射し、基板上の成型されたレジスト材料からなる膜層からの発光を発光パターン画像として取得する工程(1)と、該発光パターン画像を、成型に用いた鋳型モールドのパターン画像又は同一鋳型モールドで繰り返し成型した該発光パターン画像と異なる発光パターン画像と比較し、画像の相違点を欠陥として検出する欠陥検出工程(2)及び/又は、該発光パターン画像を発光強度により解析し、発光強度の値から膜厚を測定する膜厚測定工程(3)とを含み、半導体、配線基板、電子デバイス、光学デバイス等の製造における品質管理に有用である。 (もっと読む)


【課題】スケール用のパターンが形成されたパターン形成面の法線方向の位置情報を高精度に計測する。
【解決手段】スケール体28eは、Yスケール39Y2が形成されたパターン板4eと、パターン板4eに設けられ、Yスケール39Y2を覆うカバーガラス5と、カバーガラス5の表面に形成され、互いに異なる波長域の第1の光及び第2の光に対して波長選択性を有する波長選択膜7と、を備え、波長選択膜7を介してカバーガラス5を透過する第1の光の透過率は、カバーガラス5のみを透過する第1の光の透過率より低く、波長選択膜7を介してカバーガラス5を透過する第2の光の透過率は、波長選択膜7で反射する第2の光の反射率より高い。 (もっと読む)


【課題】計測用の光学系を大型化することなく、投影光学系の光学特性を効率的にかつ高精度に計測する。
【解決手段】投影光学系PLの光学特性を計測する計測装置において、物体面の複数の計測点P(i,j)に配置される位相マーク20が形成されたレチクルマーク板RFMと、計測点P(i,j)に対応する像面上の位置に配置される周期パターン39が形成された蛍光膜35と、位相マーク20、投影光学系PL、及び周期パターン39を通過した照明光ILによって生成される検出光DLを検出面に導くFOP37と、検出光DLを検出する撮像素子38と、を備える。 (もっと読む)


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