【課題】
被測定用光ファイバのみを用いてブリルアン散乱を測定可能なブリルアン散乱測定装置を提供すること。
【解決手段】
プローブ光ａ_０とポンプ光ｂ_０とを生成する測定用光生成手段と、該測定用光生成手段で生成されたプローブ光とポンプ光とを、偏波面が異なる状態で合成する偏波合成手段４０と、該偏波合成手段からの合成光が一端に入射される被測定用光ファイバ４１と、該被測定用光ファイバの他端側に配置され、合成光の偏波面を回転すると共に、合成光中のプローブ光のみを反射させて該被測定用光ファイバの他端に再入射させる回転反射手段４２と、該被測定用光ファイバの一端側に配置され、該回転反射手段により反射したプローブ光ａ_３を検出するプローブ光検出手段とを有することを特徴とするブリルアン散乱測定装置である。 （もっと読む）

【課題】穿孔機械の測定値を表示するための補助装置において安全かつ快適な作業が実現される補助装置を得る。
【解決手段】穿孔機械と連結可能な補助装置において、穿孔機械の作業平面に対する傾き、および／または、穿孔機械の作業平面までの距離を含む測定データを求めるための測定装置と、求められた前記測定データに応じて作業平面上にシンボルを投影するプロジェクタと、を設ける。 （もっと読む）

【課題】穿孔機械の測定値を表示するための補助装置において安全かつ快適な作業が実現される補助装置を得る。
【解決手段】穿孔機械と連結可能な補助装置において、穿孔機械の作業平面に対する傾き、および／または、穿孔機械の作業平面までの距離を含む測定データを求めるための測定装置と、求められた前記測定データに応じて作業平面上にシンボルを投影するプロジェクタと、を設ける。 （もっと読む）

【課題】光学マルチ波長インターフェロメトリーを使用した薄膜素子測定方法の提供。
【解決手段】光学マルチ波長インターフェロメトリー使用の薄膜素子測定方法が開示される。本発明は異なる波長での薄膜の反射係数を使用して薄膜の厚さと光学定数を測定する。試験表面と参考表面の間の反射位相差由来の位相差は異なる波長での測定を行うことで参考光束と試験光束の間の空間経路差に由来する位相差と区別され、なぜならそれらは測定波長変化に伴い異なった変化を示すためである。反射位相がそれから得られる。薄膜の測定反射率と結合され、薄膜の反射係数が得られる。各点の反射係数が収集され、該薄膜の厚さと２次元の光学定数分布が計算される。表面輪郭が、参考光束と私見光束の間の空間経路差を通して知られる。これらは動的干渉計で測定されて振動影響が回避される。 （もっと読む）

【課題】 複数波長による表面形状の測定方法およびこれを用いた装置によって測定する場合に発生するクロストーク現象のクロストーク補正係数を算出する。
【解決手段】 測定対象面の平面領域内から輝度の異なる６点以上の干渉輝度信号を取得し、前記輝度信号に干渉縞モデルとクロストークモデルとの組み合わせを適合（フィッティング）することにより、クロストーク補正係数を一括して算出するクロストーク補正係数算出方法、また、該方法を実行できる装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】部品のターミナルを短絡させるブリッジを検出することのできるブリッジ接続不良検出方法を提供する。
【解決手段】部品のターミナルの間を短絡させるブリッジ（bridge）を検出するためのブリッジ接続不良検出方法は部品が実装された基板に照射され反射された複数の光を通じて２Ｄイメージ及び高さ基準情報を獲得する段階と、２Ｄイメージ及び高さ基準情報のうち少なくとも一つ以上を用いて部品の回転情報を獲得する段階と、回転情報を用いて部品のブリッジ接続不良を検出するための検査領域を設定する段階と、２Ｄイメージを用いて検査領域内の第１ブリッジ領域を抽出する段階と、高さ基準情報を用いて検査領域内の第２ブリッジ領域を抽出する段階と、第１及び第２ブリッジ領域のうち少なくとも一つ以上を用いて部品のブリッジ接続不良可否を判断する段階と、を含む。 （もっと読む）

【課題】 基板に実装された部品を検査する基板検査方法に関わり、より詳細には正確な端子領域を検出して部品の実装状態を検査することのできる基板検査方法を提供する。
【解決手段】印刷回路基板上に形成された部品の端子のチップ位置設定方法は基板上に形成された部品の端子と隣接して形成されたハンダに対して測定された測定高さを設定された基準高さと比較して仮象チップラインを設定することと、端子の長さ方向に沿って端子の幅方向に関する中心ラインを設定することと、仮象チップライン及び中心ラインの交差点から中心ラインによる測定高さを用いて端子のチップ位置を設定することと、を含む。従って、より正確な端子のチップ位置を獲得することができる。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で参照面と被検物との間の絶対距離を高精度かつ高速に計測する。
【解決手段】第１の波長走査範囲について検出された第１の干渉信号による波数に対する前記第１の干渉信号の位相の傾きである第１の位相の傾きと前記第１の波長走査範囲に含まれる任意の波数における前記第１の干渉信号の位相である第１の位相の端数成分とを決定し第２の波長走査範囲について検出された第２の干渉信号に基づいて前記第２の波長走査範囲に含まれる任意の波数における前記第２の干渉信号の位相である第２の位相の端数成分を決定し前記第１の位相の傾きと前記第１の位相の端数成分と前記第２の位相の端数成分とにより第１の干渉次数差を決定し前記第１の干渉次数差と前記第１の位相の端数成分と前記第２の位相の端数成分とにより前記光束の波数に対する前記第１の干渉信号および前記第２の干渉信号を含む干渉信号の位相の傾きである第２の位相の傾きを決定する。 （もっと読む）

【課題】パターン形状の測定精度を向上させた検査装置を提供する。
【解決手段】下地層の上に所定のパターンを有するウェハ５のパターンを検査する検査装置であって、対物レンズ７の瞳面もしくは該瞳面と共役な面における領域毎の光の強度情報を検出する撮像素子１８と、パターンの形状変化に対しては強度情報の変化が異なり、下地層の変化に対しては強度情報の変化が同程度である、瞳面もしくは該瞳面と共役な面内の第１領域と第２領域の位置情報をそれぞれ記憶する記憶部と、撮像素子１８で検出される、第１領域の強度情報と、第２領域の強度情報との差異に基づいてパターンの形状を求める演算処理部２０とを備えている。 （もっと読む）

【課題】水路の内部における水の状態と、水路を流れる水の流速とを関連付けることにより、渦の渦度や循環と渦による空気の吸い込みの有無とを関連付けることが可能な、流体の計測方法を提供する。
【解決手段】流体１２の速度を計測する工程と渦１３の全体の形状を計測する工程とは同時になされる。流体１２の速度を計測する工程において水面近傍を観察するために用いる第１の光源２０の発する第１の光の波長と、渦１３の全体の形状を計測する工程において渦１３を観察するために用いる第２の光源３０の発する第２の光の波長とは異なっている。流体１２の速度は、第２の光よりも第１の光を選択的に透過する第１のフィルタが取り付けられた第１の撮像手段４０により計測される。渦１３の全体の形状は、第１の光よりも第２の光を選択的に透過する第２のフィルタが取り付けられた第２の撮像手段５０により計測される。 （もっと読む）

【課題】プリント板上の測定しようとするはんだ箇所に対し、高さの基準となる基準面を設定し、その基準面に対するはんだの高さを求めるときに、部品実装後のプリント板を分割するために加工された分割用加工部の影響を受けないようにする技術を提供する。
【解決手段】変位センサがはんだが印刷されたプリント板を光学的に計測し、このプリント板の高さの変位を示す変位情報を出力し、分割ライン決定部がプリント板を分割するための分割用加工部を変位情報に基づき検出し、プリント板の分割ラインを分割ライン情報として出力する。基準面算出領域設定手段は、分割ライン情報を受け分割ラインの内側の領域内に基準面算出領域を設定し、基準面算出手段が基準面算出領域内の変位情報に基づいて、基準面算出領域に形成される平面を基準面として設定する。変位測定部は、はんだ箇所のはんだの高さを、はんだ箇所の変位情報と設定された基準面とから算出する。 （もっと読む）

【課題】 コークス炉の炭化室の炉壁の肌荒れによる損傷の程度を指標化できるようにする。
【解決手段】 炭化室１１の炉壁１４の画像データから、炭化室１１の奥行方向の各位置における炉壁１４の凹凸量を示す凹凸プロフィール９００であって、炭化室１１の高さ位置が異なる複数の凹凸プロフィール９００を生成する。そして、複数の凹凸プロフィール９００から基準位置の変位の部分を抽出してこれらの差分をとることにより、基準位置が揃った凹凸プロフィールを得る。そして、当該基準位置が揃った凹凸プロフィールを、炭化室の奥行方向において１００ｍｍピッチで分割し、分割した各区間において、当該凹凸プロフィールの値（凹凸量）の最小値を抽出し、その平均値を肌荒れ指数とする。 （もっと読む）

【課題】 コークス炉の炭化室の炉壁に対して炉長方向に移動させながらレーザ光を照射し、レーザスポットの画像と炉壁の画像とを重畳させた画像から壁面の凹凸量を測定するに際し、レーザスポットの画像を正確に抽出する。
【解決手段】 壁面観察装置１００によって、炭化室１１の炉壁１４に対して奥行方向に移動しながらレーザ光を照射し、レーザスポット４２の画像が重畳された「炉壁１４の画像」を取得する。このとき、レーザスポット４２の奥行方向に延びる線分（レーザ線分６０１）の幅（炭化室１１の高さ方向の長さ）が、耐火煉瓦の目地６０２の幅よりも短くなるようにレーザ光を照射する。そして、レーザスポット４２の奥行方向に延びる線分（レーザ線分６０１）として想定される幅と同じ幅の高輝度領域の輝度だけを元の輝度よりも高くするレーザ線分強調処理を実行した上で、レーザ線分６０１を追跡するレーザ線分追跡処理を実行する。 （もっと読む）

【課題】水蒸気やミストが充満する環境下においても、粗バーからのクロップの分離、落下を精度良く容易に検出することができ、また仮にクロップがクロップシュートに引っ掛り、複数のクロップがクロップシュート上に停滞、堆積した場合であってもその状態を早期且つ確実に認識することができるクロップ落下検出方法を得る。
【解決手段】熱間圧延後における粗バー２の先端及び／又は後端に形成された不定形部を切断したクロップ４をクロップシュート５を通じて落下させるに際して、上記クロップシュート５の近傍に、該クロップシュート５の全幅を監視する遠赤外線検出装置７を設け、クロップシュート５を落下してくるクロップ４が放射する遠赤外線を該遠赤外線検出装置７により検出して、該落下してくるクロップの形状を熱画像として出力することにより、クロップの落下を検出する。 （もっと読む）

【課題】多結晶シリコン薄膜の表面の画像を検出して多結晶シリコン薄膜の表面の状態を観察し、多結晶シリコン薄膜の結晶の状態を検査することを可能にする。
【解決手段】多結晶シリコン薄膜の検査装置を、表面に多結晶シリコン薄膜が形成された基板１００に光を照射する光照射手段８００と、光照射手段８００により基板１００に照射された光のうち多結晶シリコン薄膜を透過した光または多結晶シリコン薄膜で正反射した光の近傍の多結晶シリコン薄膜からの散乱光の像を撮像する撮像手段８２０と、この撮像手段８２０で撮像して得た散乱光の画像を処理して多結晶シリコン薄膜の結晶の状態を検査する画像処理手段７４０とを備える。 （もっと読む）

【課題】対象面に対して光を照射し、その反射光を検出することによって当該表面の位置を検出するにあたって、適切な出射光量の値を簡易に決定できる技術を提供する。
【解決手段】光源から、光源に対して相対的に移動する対象面（基板Ｗの上面）に対して、出射光量を変化させながら間欠的に光を照射させるとともに、その反射光の光量分布データを受光部に取得させて、対象面内の異なる位置Ｐ（１），Ｐ（２），・・・Ｐ（Ｎ）で反射した反射光の光量分布データをサンプルデータとして次々と取得していく。続いて、取得された複数のサンプルデータのうち、受光量が許容範囲内にあるものを有効データとして抽出し、有効データを与えた最大の出射光量を、位置検出を行う位置検出用光源の出射光量の最適値とする。 （もっと読む）

【課題】ウェーハ上の欠陥分布を検査する表面検査装置において、欠陥検査と同時進行でウェーハの厚さとフラットネスを測定できるようにする。
【解決手段】本発明は、ウェーハを固定し、回転及び直線移動を行う搬送系と、前記直線移動の経路上に配置されたウェーハ上の欠陥の位置とサイズを特定する散乱光学系と、前記直線移動の経路であって、前記散乱光学系よりも前に配置されたフラットネス測定系と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ＬＥＤによる単純でコスト効率のよい可動物体の位置決めシステムを提供する。
【解決手段】移動物体の位置を決定するシステムは少なくとも３つの全般照明ＬＥＤを有する配置であって、そこにおいて、全般照明ＬＥＤのそれぞれは、それぞれ送信時間情報およびトランスミッタ情報を有する１つの光信号を送信するために実装され、そこにおいて、信号伝送のための全般照明ＬＥＤの波長範囲は、重なり、そこにおいて、前記トランスミッタ情報は、少なくともそれぞれの全般照明ＬＥＤの位置の決定を可能にし、さらに、送信時間情報は、それぞれの信号が送信された時点に関する情報である、配置と、移動物体に取り付けられ、さらに、光信号を受信しさらにそれぞれ１つの信号受信時間を割り当てるために実装される光センサと、トランスミッタ情報、送信時間情報および受信時間情報に基づいて物体の位置を決定するために実装される評価ユニットとを含む。 （もっと読む）

【課題】比較的大きなサイズの欠陥を高感度で検出できると共に、高さ又は深さの変化量が１ｎｍ又はそれ以下の微細な欠陥も検出できる検査装置を実現する。
【解決手段】照明光源１からの照明ビームを被検査基板２１に向けて投射する対物レンズ２０と、入射した照明ビームを、互いに干渉性を有する第１及び第２のサブビームに変換すると共に、基板の表面で反射したサブビーム同士を合成し、基板表面の高さ又は深さと関連する位相差情報を含む干渉ビームを出射させる微分干渉光学系１６と、出射した干渉ビームを受光する光検出手段２８と有する。微分干渉光学系のリターデーション量は、ｍを零又は正の整数とした場合に、第１と第２のサブビームとの間に（２ｍ＋１）π又はその近傍の位相差が形成されるように設定し、前記光検出手段から出力される出力信号のバックグランドの輝度レベルがほぼ零となる検査状態において基板表面を照明ビームにより走査する。 （もっと読む）

【課題】測定対象物の波長毎の反射率を精度良く測定することができる反射率測定装置及び反射率測定方法、並びに本発明による反射率測定装置を備えた膜厚測定装置及び本発明による反射率測定方法を含む膜厚測定方法を提供する。
【解決手段】
反射率測定装置１は、照射光Ｌ１を測定対象物へ供給する測定光源３０と、照射光Ｌ１の強度及び測定対象物からの反射光Ｌ２の強度を波長毎に検出する分光検出部８０と、照射光Ｌ１の波長毎の強度の検出値を、基準測定対象物からの反射光Ｌ２の波長毎の強度の検出値に相当する値に変換する変換係数Ｋ（λ）を記録する係数記録部９２と、照射光Ｌ１の波長毎の強度の検出値及び変換係数Ｋ（λ）より求まる、基準測定対象物からの反射光Ｌ２の波長毎の強度に相当する値に基づいて、波長毎の反射率を算出する反射率算出部９３とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）