【課題】被検出物との距離を、コスト増を抑制しつつ精度よく光学的に検出する。
【解決手段】光学異方性を有する光センサアレイ３と、光センサアレイの検出駆動部６と、高さ検出部７とを有する。検出駆動部６は、光センサアレイ３を駆動して被検出物を撮像し受光異方性に基づいて異なる複数の検出画像Ｐ１,Ｐ２を発生する。高さ検出部７は、複数の検出画像を用いて光センサアレイ３のセンサ受光面から被検出物までの距離（高さ）を検出する。このとき高さ検出部７は、複数の検出画像に含まれる被検出物の影または反射に対応した画像部分に受光異方性の違いにより生じた位置ずれの大きさに基づいて高さを検出する。 （もっと読む）

【課題】基板に形成された裏面側マーク及び表面側マークを検出することができる検出装置を提供する。
【解決手段】レチクルのパターンが転写される基板の表面側及び裏面側のそれぞれに形成された表面側マーク及び裏面側マークを検出する検出装置であって、前記基板を透過する波長を有する第１の光と前記基板を透過しない波長を有する第２の光とを射出する光源と、光電変換素子と、前記光源から射出した第１の光を前記基板の表面側から前記裏面側マークに照射して前記裏面側マークで反射した第１の光により前記裏面側マークの像を前記光電変換素子の受光面に形成すると共に、前記光源から射出した第２の光を前記基板の表面側から前記表面側マークに照射して前記表面側マークで反射した第２の光により前記表面側マークの像を前記光電変換素子の受光面に形成する光学系と、を有することを特徴とする検出装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】マクロ検査ツールの適用性を広げ、高スループットで半導体ウェハからより詳細な検査情報を得る。
【解決手段】ウェハ検査方法は、ウェハ上に繰り返し配列されている個々の微細構造を解像するには不十分な結像解像度でウェハの全表面を結像させるステップを含む。本発明によれば、微細構造のフィーチャの特性は、微細構造を結像において直接解像することができないとしても、被選択検出信号群からの１若しくは複数の値の計算によって決定される。このようにして、記録される画像にマスク（１０９）が施され、画像の非マスク部分（１１１）は平均化によってさらに処理される。非マスク部分（１１１）は、ウェハのメモリ部分を含むように選択される。フィーチャ特性は、線幅、側壁の角度、微小寸法（ＣＤ）などを含むことができる。互いに異なる照明波長または偏光状態で撮影した複数の画像を組み合わせることもできる。 （もっと読む）

【課題】所定の精度を確保しつつ測定に要する時間を短縮することのできる測定装置を提供する。
【解決手段】撮像素子１７からのライン反射光Ｒｌの取得データに基づいて被測定物の表面形状を計測する測定装置１０である。ライン反射光Ｒｌを撮像素子１７の受光面に結像させる複数の結像光学系（３３、３４）と、ライン光Ｌの延在方向で見て互いに異なる測定位置における被測定物（１６）上でのライン光Ｌの形状を取得させるべくライン反射光Ｒｌを分岐して各結像光学系へと導く光束分岐機構３３とを備え、撮像素子１７は、受光面上において複数のセグメントが設定されているとともに各セグメントが複数の領域に区画され、各セグメントにおける少なくとも１つ以上の領域を受光領域とし、各結像光学系は、分岐されたライン反射光Ｒｌを撮像素子１７の受光面において互いに異なるセグメントの受光領域へと結像させる。 （もっと読む）

統合された視覚及び表示システムは、表示面を通じて見るために表示画像を送信するように構成された表示画像形成層と、表示面の法線に対して狭い範囲の角度の、表示面上又は表示面の近くの１つ以上の物体からの反射を含む、赤外光を結像するように構成された結像検出器と、物体を照らすために赤外光を放射するように構成された視覚システムエミッターと、対向する上面及び／又は下面を有し、視覚システムエミッターから赤外光を受信し、上面及び下面からＴＩＲによって赤外光を導き、表示面の法線に対して狭い範囲の角度の外側の物体上へ赤外光を投影するように構成された、可視光及び赤外光を伝達可能な導光路とを具備する。
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【課題】ドリフトをほとんど発生させることなく、動いているターゲットを正確に測定するＡＤＭを提供する。
【解決手段】絶対距離計（ＡＤＭ）は、放出光を放出する光源を含み、スイッチ制御信号に応答して少なくとも２つの位置間で切り換わる少なくとも１つの光スイッチを有するファイバ交換網２００を含み、これらの位置の第１の位置は放出光がファイバ交換網からターゲットの方へ放出され、測定光としてファイバ交換網内へ後方反射される測定モードにし、これらの位置の第２の位置は光ビームがファイバ交換網内の基準光を含む基準モードにする。ＡＤＭは、時間的に間隔を空けて多重化した形で測定および基準光を検出し、測定ビームおよび反射された光ビームの電気信号を提供する単一チャネル検出器、それに応答した電気信号を提供する単一チャネル信号処理装置、その電気信号を処理してターゲットまでの距離を決定するデータ処理装置４００とを含む。 （もっと読む）

【課題】検査時における照明光の光量を安定させた表面検査装置を提供する。
【解決手段】表面検査装置１は、照明部が、ランプハウス６１からの光のうち所定の波長領域の光を透過させるバンドパスフィルターが設けられた波長選択機構７０，７５を有し、当該バンドパスフィルターを透過して得られた所定の波長領域の光を照明光として被検基板１０の表面に照射するように構成されており、紫外光を遮断するＵＶカットフィルター６５がランプハウス６１と波長選択機構７０，７５との間の光路上に挿抜可能に設けられ、非検査時にＵＶカットフィルターが光路上に挿入され、また前記ＵＶカットフィルターの保持基板に「(1)熱線吸収膜(2)熱線反射膜及び熱線吸収膜の積層膜(3)熱線吸収膜及び熱伝導性膜の積層膜(4)熱線反射膜及び熱伝導性膜の積層膜(5)熱線反射膜、熱線吸収膜及び熱伝導性膜の積層膜の」うちのいずれかが設けられている。 （もっと読む）

【課題】ガラス容器中の応力曲線に加えて応力層の厚さおよび壁厚の両者を迅速かつ正確に確定するために蛍光発光を使用する、ガラス容器壁中の応力および壁の厚さを測定するための装置および方法が開示される。
【解決手段】本装置および方法を、ガラス容器の全周囲にわたるガラス容器側壁中の応力および側壁の厚さの両者を迅速かつ正確に測定するために使用することができる。本装置および方法は、大規模ガラス容器製造に適合され、ガラス容器の側壁中の応力および側壁の厚さの高速測定が可能である。 （もっと読む）

【課題】測定者に負担を掛けることなく、傾斜面や曲面などの測定面を有する被測定物を良好に測定可能な光学式変位測定器を提供。
【解決手段】測定面から反射フォーカシング光に基づいて対物レンズ１７０の焦点位置を測定面に一致させる手段を備えた光学式変位測定器。フォーカシング光とは異なる波長の参照光を発する参照光用光源３１０と、参照光を測定面に照射するとともに測定面からの反射参照光をフォーカシング光と分離する波長分岐型ビームスプリッタ３３０と、分離参照光に基づいて測定面の傾き方向を検出する傾き方向検出手段３４０と、フォーカシング光および参照光の光路中において参照光を透過するとともに、フォーカシング光を遮光するフォーカシング光遮光体４１０と、傾き方向検出手段によって検出された測定面の傾き方向に応じて回転駆動機構４２０を介して遮光体を回転させる制御手段５００を備える。 （もっと読む）

【課題】ワークが撮像されたボケ画像からワークの位置を精度良く検出するロボットシステムを提供する。
【解決手段】ワークＷに対して作業を実施するロボット１０と、前記ワークＷを載置するとともに、蛍光体マーカー７４を備えたステージ７２と、前記ワークＷと前記蛍光体マーカー７４とを所定の露光時間で撮像するカメラ２０と、前記カメラ２０の露光時間より短い周期で前記蛍光体マーカー７４を点滅発光させるマーカー制御部４５と、を備え、前記カメラ２０により撮像されたボケ画像から前記蛍光体マーカー７４の軌跡画像１００を抽出して、前記軌跡画像１００から点拡散関数を算出する点拡散関数算出部３５と、算出した前記点拡散関数を用いて、前記ボケ画像を画像変換し前記ボケ画像からボケていない元画像を生成する画像生成部３７と、前記元画像から前記ワークＷの位置を算出する位置算出部３９と、を有するロボットシステム５。 （もっと読む）

【課題】より低消費電力で高速・高精度に指示体の検出が可能な光学式位置検出装置を提供する。
【解決手段】光学式位置検出装置は、複数の光源部１０とカメラ部２０と検出部３０と制御部４０とからなる。複数の光源部１０は、検出面の所定の領域を照らす光をそれぞれ発し、これらを組み合わせて検出面全面を選択的に照らす。カメラ部２０は、検出面全面を撮像可能な画角を有し、光源部１０により照らされる指示体２の像を撮像する。検出部３０は、カメラ部２０により撮像される指示体２の像を用いて指示体２の指示位置を算出する。制御部４０は、初期スキャン時に複数の光源部１０を所定の順序で点灯させると共に、一旦検出部３０により指示体２の指示位置が検出されると、検出される指示体２の指示位置をカバーする範囲を照らす光源部１０を点灯させ、それ以外の光源部１０を消灯させるよう制御する。 （もっと読む）

【課題】高スループットかつ高感度の欠陥検査装置を提供すること。
【解決手段】広帯域波長の照明を用いて結像性能を向上させることが有効である。そこで、従来の屈折型光学系より広帯域波長の照明が使用可能な反射型光学系を用い、更に良好な収差状態を得られるレンズ外周部の円弧形状のスリット状視野にする。しかしこの方式は、受光面での各検出画素寸法の違いによる明るさの差と、センサの出力配列を視野内の位置座標に対応付けることが課題である。課題を解決するために、明るさの差及び座標を画素位置に応じて個別に補正する。 （もっと読む）

【課題】プロダクトフィーチャと同じ感度を受けるオーバーレイエラーを決定する方法を提供する。
【解決手段】オーバーレイエラーの決定に用いるマークはサブフィーチャ（４６）を含んでおり、このサブフィーチャはプロダクトフィーチャの最も小さいピッチとほぼ同等である最も小さいピッチを有する。これにより、歪みおよび収差に対する感度はプロダクトフィーチャのものと同じになる。しかしながら、マークが現像されるとサブフィーチャは組み合わされ、より大きいフィーチャの輪郭のみが現像される。 （もっと読む）

【課題】複数の波長の光源による干渉画像によって、微小な計測面上の微小な高さや形状を計測する微小高さ等の計測装置において、特定の計測点の明るさの変化をサイン波として解析し、その位相を求める必要があったり、また上記明るさ変化の位相を求めるために、一つの干渉縞像中に少なくとも複数点の極値が現れている必要がある点を改善する。
【解決手段】観測光と対象光を計測対象物の計測面を介して干渉可能な状態で撮像手段に導く光学系と、上記観測光と対象光とを干渉させて計測対象物の計測面の２次元干渉画像を撮像する撮像手段と、該撮像手段で撮像された２次元干渉画像を解析する画像解析手段とを備え、上記撮像手段を上記計測対象物の計測面に対して相対的に所定の傾斜角を持たせて設置することにより、２次元干渉画像に濃淡表示される干渉縞を生じさせ、該干渉縞の濃淡の変化パターンを観測して、上記計測対象物の計測面の微小高さを計測する。 （もっと読む）

【課題】検出する光の光量低下を防止した表面検査装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る表面検査装置１は、少なくとも熱線及び紫外光を含む光を射出する光源部と、前記光源部から射出された光のうち、紫外光を透過し、熱線を吸収する紫外光透過性熱線吸収膜と、所定の繰り返しパターンを有するウェハの表面に前記紫外光を用いた直線偏光を照射する照明部と、直線偏光が照射されたウェハの表面からの反射光のうち直線偏光と振動方向が略直角な偏光成分を検出する検出部と、検出部で検出された偏光成分に基づいて、繰り返しパターンにおける欠陥の有無を検査する検査部とを備え、照明部または検査部の光路上に、直線偏光または偏光成分を得るための偏光板３４が密閉部材３６により外気に対して密閉された状態で配設される。 （もっと読む）

二次元光路分布の絶対測定を行う装置であって、本装置は、複数の波長を有する光を物体（２６）に照射する光源（４）と、物体の少なくとも一部分の画像を形成する干渉計（１２）であって、この少なくとも一部分の画像は広帯域干渉図形を含む、干渉計（１２）と、干渉計と光通信を行い、広帯域干渉図形を複数の狭帯域二次元干渉図形（７２、７４、７６）にスペクトル的に分離するハイパースペクトル撮像装置（３０）と、狭帯域干渉図形を空間的に位置合わせする位置合わせ装置（３８）と、各狭帯域干渉図形内の対応する画素から一次元強度信号を抽出する抽出装置と、物体上の各点における周波数を、各点に関連付けられた一次元強度信号から計算する計算装置（１００）と、を含む。 （もっと読む）

【課題】検出する光の光量低下を防止した表面検査装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る表面検査装置１は、少なくとも熱線及び紫外光を射出する光源部と、所定の繰り返しパターンを有する被検基板の表面に、前記紫外光の直線偏光を照射する照明部と、前記直線偏光が照射された前記被検基板の表面からの反射光のうち前記直線偏光と振動方向が交差する偏光成分を検出する検出部と、前記検出部で検出された前記偏光成分に基づいて、前記繰り返しパターンにおける欠陥の有無を検査する検査部とを備え、
前記照明部または前記検査部の光路上に、前記直線偏光または前記偏光成分を得るための偏光板３４が密閉部材３６により外気に対して密閉された状態で配設されると共に、前記密閉部材３６のうちの前記紫外光の透過領域表面に紫外光透過性熱線吸収膜が形成されている。 （もっと読む）

【課題】試料表面のパターン形状の良否を、環境温度変化の影響を受けることなく判定する表面検査方法を提供する。
【解決手段】偏光子７及び対物レンズ９を含み、ウェハ１０の表面を照明する照明光学系２１と、ウェハ１０の表面からの反射光を、対物レンズ９を介して集光し、偏光子７とクロスニコル条件を満たすように配置された検光子１２を通して対物レンズ９の瞳面の像を結像する検出光学系２２と、瞳面の像を検出する第１の撮像素子１７と、を有する表面検査装置１００による表面検査方法は、第１の基準像を取得する第１のステップと、検査像を取得する第２のステップと、第２の基準像を取得する第３のステップと、第１及び第２の基準像の階調値の差を求め、当該差が所定値を越えたときに、検査像の階調値を補正する第４のステップと、補正後の検査像及び第１若しくは第２の基準像の階調値を用いてウェハ１０の欠陥を検出する第５のステップと、を有する。 （もっと読む）

【課題】測定対象物の検査方法を提供すること。
【解決手段】基板に装着された素子の検査方法において、素子に対応する形状テンプレートを生成する段階と、照明部の格子パターン光を基板に照射してピクセル別高さ情報を獲得する段階と、ピクセル別高さ情報に対応してコントラストマップを生成する段階と、コントラストマップと形状テンプレートとを比較する段階と、を含む。本発明によると、測定対象物を正確に抽出することができる。 （もっと読む）

【課題】被測定物の奥行き方向の空間分解能を低下させずに測定範囲を拡大できる三次元形状測定装置を提供する。
【解決手段】色が規則的に経時変化するチャープ光パルスを生成する第１パルス光源３０と、所定の波長の単波長光パルスを生成する第２パルス光源３２と、ワーク２４から反射されたチャープ光パルス１１０ａ、１１０ｂの第１反射光像を取得する反射光像取得部７８と、前記第２反射光像の二次元情報を参照し、ワーク２４から反射された単波長光パルス１１２の第２反射光像を取得する反射光像取得部７８と、前記第１反射光像の二次元情報及び色情報を用いてワーク２４の三次元情報を取得する三次元情報取得部８０と、前記チャープ光パルスをワーク２４に向けて照射するタイミングと、前記単波長光パルスをワーク２４に向けて照射するタイミングとを調整するタイミング制御部７０とを有する。 （もっと読む）