【課題】自動検査工程において密集圧痕を異物の混入とみなしてしまう問題を回避し得る電子部品の実装状態検査装置及び電子機器の製造方法を提供する。
【解決手段】異方性導電膜を介して電子部品が圧着実装された透明基板を前記電子部品が圧着実装された面の裏面側から微分干渉顕微鏡により映して撮像する撮像手段と、前記撮像手段により撮像された画像に含まれる凸状部の高さを特定する特定手段と、前記特定手段により特定された前記凸状部の高さが所定の閾値を超えるか否かを判定し、前記凸状部の高さが所定の閾値を超える場合は異物が混入していると判定する判定手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】腺管構造の３次元的な構造を解析し、該腺管構造を有する計測対象の内部状態を所望の色調を反映させたカラー画像により容易に診断する。
【解決手段】ＯＣＴプロセッサの処理部２２は、光構造情報検出部２２０、腺腔抽出手段及び色調切り替え手段としての腺腔抽出部２２１、閾値格納部２２２、抽出領域設定手段としての抽出領域設定部２２３、領域情報演算手段としての領域情報演算部２２４、平行断層画像生成手段としての平行断層画像生成部２２５、カラーマップ格納部２２６、色調編集手段としての色調編集部２２７、表示制御部２２８及びＩ／Ｆ部２２９を備えて構成される。 （もっと読む）

【課題】高い感度を有し、相対的に濃縮された懸濁液に応答する単独粒子光センサ。
【解決手段】光学感知ゾーンを不均一に照明するために、相対的に幅の狭い光ビームを使用する。センサが流路を通って流れる粒子の総数のうちのごく一部に応答するように、ゾーンは流路より小さくなっており、どの関連粒径の粒子についても、統計的に意味ある数の粒子を検出する。異なる強さで照明されるゾーンの様々に異なる部分を様々に異なる粒子の軌跡が通過して流れるため、結果をデコンボリュートすることが必要である。修正行列反転と、逐次減算という２つのデコンボリューション方法が使用される。２つの方法は、共に、実験に基づいて測定されるか又は理論モデルから計算される少数の基本ベクトルを使用し、残る基本ベクトルはそれらの少数の基本ベクトルから取り出されるセンサは、濁りに関して補償される。 （もっと読む）

【課題】撮像素子を用いた被写体の変異量計測において、非移動被写体の減算演算を簡素化し、減算精度の向上により測定精度を向上させる。
【解決手段】第１の画像を構成する第１の画素群と第２の画像を構成する第２の画素群とが所定の配列形態にしたがって交互に配列された単一の撮像素子を用いて、それぞれ露光時間の異なる第１の画像と第２の画像とを取得し、第１の画像と第２の画像との差分に基づいて変異する被写体を検出し、第１の画像と第２の画像との差分に基づいて変異する被写体の画像内の位置、移動速度、移動方向、及び面積の変化量のうち少なくとも１つを算出する算出して出力する。 （もっと読む）

【課題】構成が簡潔で、静止した鋼板でも容易に且つ正確に形状を計測することが可能な鋼板の形状計測方法及び形状計測装置を提供する。
【解決手段】レーザ光源を偏光し、偏光されたレーザ光を静止した鋼板上に走査して、静止した鋼板上の所定の検出点群のデータを抽出し、その抽出された鋼板上の検出点群の点密度を均一化する間引き処理を行い、間引き処理された鋼板上の検出点群データから回帰曲面を解析し、解析された回帰曲面から鋼板の形状を計測することにより、静止した鋼板の形状を容易且つ正確に計測することができ、レーザ光源が１つでよいことから構成が簡潔になる。また、レーザ光照射装置と鋼板との距離情報に基づいて、データの間引く量を設定することにより、鋼板上の検出点群の点密度を容易且つ正確に均一化することができる。 （もっと読む）

【課題】層構造を有する被計測物体内の中間層を基板とした構造情報を視覚的に判断する。
【解決手段】処理部２２は、光構造情報検出部２２０、光立体構造像構築部２２１、中間層抽出手段としての中間層抽出部２２２、層平坦化手段としての平坦化処理部２２３、構造像変換手段としての光立体構造像変換部２２４、領域情報抽出手段及び水平断面画像生成手段としての水平断層画像生成部２２５、画像合成手段としての画像合成部２２６、表示制御手段としての表示制御部２２７及びＩ／Ｆ部２２８を備えて構成される。 （もっと読む）

物体（３０１）の静止表面（３０５）の表面形状(topography)を決定するための方法は、（ａ）物体（３０１）の静止表面（３０５）における領域（３０１ａ）を選択するステップと、（ｂ）入射単色電磁波（３０２）を領域（３０１ａ）に向けるとともに、表面（３０５）および入射単色電磁波（３０２）を互いに相対移動させるステップであって、入射単色電磁波（３０２）は、周波数ｆ_０、振幅Ａ_０および伝搬方向によって特徴付けられ、移動方向（３０４）は、入射単色電磁波（３０２）の伝搬方向に対して実質的に平行でなく、表面（３０５）は、入射単色電磁波（３０２）を反射し、反射単色電磁波（３０３）を発生し、移動（３０４）は、移動周波数（Ｆ）および移動振幅（Ａ）によって特徴付けられるようにしたステップと、（ｃ）移動（３０４）の際、領域（３０１ａ）から反射した単色電磁波（３０３）の特性を決定するステップと、（ｄ）入射単色電磁波（３０２）の特性、例えば、周波数ｆ_０および反射単色電磁波（３０３）の特性、例えば、周波数ｆ_ｒを解析して、物体（３０１）の領域（３０１ａ）の表面形状に関する情報を取得するステップとを含む。対応するシステムも提供される。
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【課題】測定精度を向上させる。
【解決手段】投影パタン２４により、投影パタンが被検物１３に投影され、像面パタン３２ａ乃至３２ｃにより、被検物１３において反射または拡散した光が、像面パタンに応じて透過されて、CCDセンサ３４ａ乃至３４ｃに入射させる。そして、投影パタン２４と像面パタン３２ａ乃至３２ｃとの位相関係に基づく、CCDセンサ３４ａ乃至３４ｃの画素ごとの校正データと、像面パタン３２ａ乃至３２ｃの位相が、投影パタン２４の位相に対して相対的にずらされた複数の状態の被検物１３をCCDセンサ３４ａ乃至３４ｃが撮像して得られた画像の輝度情報とを用いて、被検物１３の形状が算出される。本発明は、例えば、被検物の形状を測定する形状測定装置に適用できる。 （もっと読む）

【課題】光学式欠陥検査装置または光学式外観検査装置で検出した欠陥を電子顕微鏡等で詳細に観察する装置において、観察対象の欠陥を確実に電子顕微鏡等の視野内に入れることができ、かつ装置規模を小さくできる装置を提供する。
【解決手段】光学式欠陥検査装置または光学式外観検査装置で検出した欠陥を観察する電子顕微鏡5において、欠陥を再検出する光学顕微鏡14を搭載し、この光学顕微鏡14で暗視野観察する際に瞳面に分布偏光素子及び空間フィルタを挿入する構成とする。 （もっと読む）

【課題】実時間（１フレーム）で、干渉範囲内の頂点位置等の検査と高さ計測を可能とするとともに、外部振動に対して、その影響の除去を電気信号処理で行なえるようにする。
【解決手段】時間相関イメージセンサ（カメラ１０）を使用した白色干渉計を含む三次元形状検査装置において、被測定物８が外部環境によって振動する振動変位を取得する手段（変位センサ４２）と、該振動変位を、前記時間相関イメージセンサに与える参照信号に合成して、外部振動の影響をキャンセルする手段（参照信号発生手段５０）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】炭素繊維にマトリックス樹脂を含浸させたプリプレグ表面の欠点検査方法。特に、一方向に引き揃えたプリプレグ表面に対して、高精度で信頼性高く検査できる光学的手段を用いた欠点検査方法を提供する。
【解決手段】欠点候補領域の矩形率、最大径角度、凹凸度を求め、ワレ欠点を検出後、ワレ欠点検出領域をマスクした画像から、1画素列毎に閾値を算出し、その閾値により2値化して毛羽欠点を検出する。 （もっと読む）

【課題】カメラの位置や特性の違いによる影響を受けずに、かつ、精度良く鏡面物体の３次元形状を測定する。
【解決手段】鏡面物体である計測対象物の３次元形状を計測する３次元計測装置であって、複数のカメラと、撮影された画像のそれぞれから計測対象物の表面の物理特徴である法線の向きを取得する特徴取得手段と、この物理特徴を用いて画像間で対応する画素を探索する対応画素探索手段と、対応する画素間の視差に基づいて３次元測量を行う測量手段と、を備える。なお、各画像における法線の向きを共通の座標系に変換する座標変換手段を有することが好適である。この座標変換のパラメータはカメラキャリブレーションの際に得られるパラメータから算出することができる。 （もっと読む）

【課題】熱交換器のコアのフィン検査方法を提供する。
【解決手段】撮像手段が、フィンとチューブを具備する熱交換器のコアを撮像して、画像処理装置に、撮像データを入力して記憶させるステップと、前記撮像データにおいて、前記コア全体が撮像されている第１の領域を設定するとともに、全ての前記チューブの少なくとも一部が撮像されている第２の領域を設定して前記チューブの位置情報を特定するステップと、前記特定された前記チューブの位置情報に基づいて隣り合うチューブ間にフィン検出用の第３領域を設定するステップと、前記第３領域内において動的２値化処理及びノイズ除去処理をしてフィンの画像を求め、該フィンの画像からチューブ長手方向に亘るフィンのエッジ位置情報を特定するステップと、前記フィンのエッジ位置情報に基づいてピッチ間隔の統計処理を行い、フィン不良を判別するステップからなるフィン検査方法。 （もっと読む）

【課題】はんだフィレットの高さの計測精度を向上し、信頼度の高い検査を実現する。
【解決手段】同軸落射照明用の赤外光および赤、緑、青の各色彩光を基板に照射しながら、赤外光および可視光を分離して受光する機能を有するカメラにより基板上のフィレット１０２を撮像する。つぎに、生成された画像において、各照明光の正反射光像領域が連なっている方向に沿う計測ラインＬを設定し、このラインＬ上で、各正反射光像領域および暗領域の境界点Ａ１〜Ａ６を検出する。つぎに、各正反射光領域の境界点Ａ１〜Ａ５に、それぞれ対応する照射角度範囲の境界を表す角度から求めた傾斜角度を適用し、各点Ａ１〜Ａ５の座標Ｄ１〜Ｄ５に各傾斜角度を対応づけて、ラインＬ上の傾斜角度の変化を表す近似曲線を設定する。そして、点Ａ１から点Ａ６までに相当する範囲を対象に近似曲線を積分し、この演算により得た計測値をはんだの濡れ上がり高さとして特定する。 （もっと読む）

【課題】小型の装置で高精度にパンタグラフの鉛直加速度を計測することが可能な画像処理によるパンタグラフの鉛直加速度測定装置および測定方法を提供する。
【解決手段】車両に取り付けたラインセンサカメラ１でパンタグラフを撮像し、画像処理部２により撮像された画像に基づいてパンタグラフの鉛直加速度を測定する装置において、画像処理部２に、ラインセンサカメラ１によって撮像したパンタグラフの測定点における画像を入力する画像入力部２１と、入力された画像からなるラインセンサ画像に対して画像処理を施すことによってラインセンサ画像上のパンタグラフの位置を求めるパンタグラフ位置検出部２３と、ラインセンサ画像上のパンタグラフの位置および予め設定する伝達関数およびパンタグラフの偏位位置に基づきパンタグラフのトロリ線との接触点における鉛直加速度を算出するパンタグラフ鉛直加速度算出部２４とを設けるようにした。 （もっと読む）

【課題】正確に奥行値を設定することができるようにする。
【解決手段】焦点情報抽出部３１は、入力画像の画素毎に、注目画素に対応する周辺画素の輝度信号より高周波成分を焦点情報として抽出する。領域統合部３２は、注目画素毎に、注目画素の焦点情報を、その周辺の画素の焦点情報に合わせる様に統合焦点情報を生成する。暗部処理部３３は、注目画素の焦点情報を、注目画素周辺の焦点情報よりも大きな値の平均値に置き換えて暗部焦点情報を生成する。照明成分抽出部３５は、入力画像の注目画素毎の輝度信号を周辺画素の輝度信号に合わせるようにすることにより照明成分を抽出する。奥行生成部３４は、統合焦点情報と暗部焦点情報とを、照明成分に基づく係数により積和演算して各画素単位の奥行値を求め、正規化し、正規化した奥行値をトーンカーブにより制御する。本発明は、画像処理装置に適用することができる。 （もっと読む）

【課題】マスク全体の光学画像及び参照画像を用いてマスクの欠陥検査を行うことが可能なマスク検査装置及びマスク検査方法を提供する。
【解決手段】マスク１０１の光学画像が検査ストライプ単位で取得され、予備検査部１２０に入力される。参照画像生成部１１８によりマスク１０１の参照画像が検査ストライプ単位で生成され、予備検査部１２０に入力される。予備検査部１２０により検査ストライプ単位の光学画像及び参照画像を用いて予備検査が行われる。検査ストライプ単位の光学画像及び参照画像はフラッシュメモリ１２２に逐次格納される。マスク１０１全体の光学画像及び参照画像が格納された後、欠陥検査部１２４によりこのマスク全体の光学画像及び参照画像を用いてマスク１０１のパターン欠陥検査が実行される。 （もっと読む）

【課題】より高速で精度の高い位置決めが可能なマッチング方法等を提供する。
【解決手段】抽出された輪郭上に、複数の基点を設定すると共に、各基点に対して、基点を通りかつ輪郭と略直交する所定長さの対応点探索ラインを割り当てた登録画像のパターンモデルを構築する工程と、サーチ対象画像を取得すると共に、該サーチ対象画像中に含まれる登録画像に対応する初期位置を取得し、該初期位置に従って、パターンモデルの対応点探索ラインをサーチ対象画像上に重ねるように配置する工程と、サーチ対象画像上の対応点探索ラインに沿った位置におけるエッジ強度及びエッジ角度を用いて、各対応点探索ラインについて、各基点と対応するサーチ対象画像上の対応点を求める工程と、各々基点と基点の対応点との関係を評価値とし、該評価値の累積値が最小又は最大となるように、与えられた初期位置の精度よりも高い精度で精密位置決めを行う工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】信号光成分が小さい一方でノイズ光成分が大きいという状態においても光学式計測装置による計測を実現可能とする技術を提供する。
【解決手段】光学式計測装置は、計測対象物体５の表面の計測対象部分に直線偏光（レーザビーム５３）を照射するレーザダイオード２０２ａと、直線偏光によって照射された計測対象部分の撮影画像が計測対象物体５の表面高さに応じて変化する方向から、計測対象部分を撮影して撮影画像を取得する２次元ＣＣＤ２０３ａと、２次元ＣＣＤ２０３ａの前段に設けられて、入射する光のうち直線偏光の偏光軸に平行な偏光軸を有する偏光成分を抽出する偏光フィルタ２０３ｂとを備える。 （もっと読む）

可視光干渉パターンの様々な使用が提供される。適した干渉パターンは、絞りのパターンからの回折により形成されるパターンである。本明細書中で開示される典型的な使用は、並進及び／又は角度位置決定システムなどの空間計測学に関連する。更なる使用は、光自体の特性の解析（例えば、電磁放射線の波長の決定）を含む。更なる他の使用は、光が通過する物質の１つ以上の特性（例えば屈折率）の解析を含む。干渉パターンの一部がＣＣＤチップなどの画素化された検出器で捕らえられ、捕らえられたパターンが計算されたパターンと比較される。最大値間の間隔の非常に正確な測定が可能であり、したがって、干渉パターン中における検出器の位置の非常に正確な測定を行なうことができる。
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