説明

Fターム[2G001EA01]の内容

Fターム[2G001EA01]の下位に属するFターム

Fターム[2G001EA01]に分類される特許

141 - 160 / 178


【課題】 高い三次元位置分解能で高精度の蛍光X線三次元分析を可能とする蛍光X線三次元分析装置を提供する。
【解決手段】 試料を載置するための移動ステージと、X線源及び前記X線源から照射されるX線を試料内部において集光点に集光する照射側集光光学部とを有するX線照射集光手段と、移動ステージに載置される試料から発生する蛍光X線を集光する検出側集光光学部及び検出側集光光学部により集光される蛍光X線を受けてその検出を行う検出器とを有する蛍光X線検出手段と、移動ステージを三次元に移動させる駆動手段と、検出側集光光学部の焦点と、照射側集光光学部の集光点とを試料内部において一致させる調整手段とを備える。 (もっと読む)


【課題】従来のX線,超音波画像におけるコントラストと空間解像度の問題を補い、癌の検査の正確率を上げることにある。
【解決手段】予めコリメートされた入射X線I(W)は、非対称モノクロ・コリメータ10によって反射され、面状波X線P(W)を発生する。面状波X線P(W)は、試料12を通過する。試料12を通過したビームR(W)は、角度アナライザ14によって角度分析され、屈折された成分D(W)のみが、角度アナライザ14を通過することが許される。屈折された成分D(W)は、X線暗視野撮像として、写真フィルム16に記録される。 (もっと読む)


【課題】 小型であり、光軸調整のための作業が簡単であり、光軸調整の自動化が容易であるX線ビーム処理装置を提供する。
【解決手段】 所定の回折角度でX線を回折する第1結晶ブロック2a及び第2結晶ブロック2bを支持する結晶ホルダ3と、X線R1,R2,R3の光軸を含む面に直交する軸線X1を中心として結晶ホルダ3を回転させることができ且つ結晶ホルダ3をその回転範囲内で固定状態に支持できるモータ4とを有するX線ビーム処理装置1Aである。結晶ホルダ3は、第1結晶ブロック2aと第2結晶ブロック2bの両方でX線回折が生じるように互いの角度が調整された状態でそれら2つの結晶ブロック2a,2bを固定状態で支持する。2つの結晶ブロック2a,2bの光軸調整は軸線X1を中心として結晶ホルダ3を1軸回転させるだけで行われる。 (もっと読む)


【課題】 結晶アナライザの取付け方法を改良することにより、ダブルスリットアナライザ、平行スリットアナライザ、結晶アナライザという3つの受光素子を容易に交換できるようにする。
【解決手段】 第1スリット12aと、そのX線通過部Bの幅を調整する装置17と、第2スリット12bと、そのX線通過部Bの幅を調整する装置17と、第1スリット12aと第2スリット12bとの間に設けられていて平行スリットアナライザ18及び結晶アナライザ19を1つずつ交換して固定状態で支持できるアナライザ支持装置13と、第2スリット12bを平行移動させるスリット位置移動装置9とを有するアナライザ4である。スリット位置移動装置9による第2スリット12bの平行移動方向は、アナライザ支持装置13が結晶アナライザ19を支持したときにその結晶アナライザ19で回折するX線が進む方向にスリット12bのX線通過部Bを変位させる方向である。 (もっと読む)


認証システム、装置および方法は、ナノ結晶材料を含む識別マーキングを認証する。マーキングの1または複数の特性が確認され、測定プロファイルが提供される。測定プロファイルを参照プロファイルの閉集合の少なくとも1つのメンバーと比較する。各参照プロファイルは1または複数の特性の予め決められた値を有する。各参照プロファイルは集合内でユニークである。少なくとも1つの参照プロファイルはナノ結晶形態のインジケータ材料の特徴を示し、バルク形態の同じインジケータ材料の特徴は示さない。
(もっと読む)


【課題】 FP法で試料の組成を分析する蛍光X線分析装置などにおいて、非測定元素を多く含み、その原子番号を特定できない種々の試料についてより広い適用範囲で十分正確に分析できるものを提供する。
【解決手段】 仮定した元素の濃度に基づいて、試料13中の各元素から発生する2次X線4 の理論強度を計算し、その理論強度と検出手段9 で測定した測定強度とが合致するように、仮定した元素の濃度を最適化計算して、試料13における元素の濃度を算出する算出手段10を備え、その算出手段10が、蛍光X線4 を測定しない非測定元素については、複数の非測定元素の濃度を仮定するとともに、試料中の非測定元素から発生する2次X線に代えて、濃度を仮定する非測定元素と少なくとも同数の1次X線の散乱線を用い、用いる1次X線の散乱線に、試料で散乱される前の波長が相異なる散乱線を含める。 (もっと読む)


【課題】単結晶試料の結晶方位を容易かつ高精度に調整可能なX線回折装置を提供する。
【解決手段】単結晶基板10を傾斜補正治具20を用いて試料固定台1に固定する。傾斜補正治具20は、単結晶基板10の格子面11の結晶方位12と表面10Sとのなす傾斜角αに対応した傾斜面21を有しており、結晶方位12と支持面1Sにおける法線方位1Pとが互いに平行になる。これにより、あおり角と回転角とをそれぞれ独立して最適化することができ、入射X線2Aおよび回折X線3Aの各方向に対して結晶方位12を正確かつ容易に調整し、単結晶基板10の格子面11におけるX線回折パターンを高精度に測定することができる。 (もっと読む)


サンプルを高エネルギー放射線に露光させるための、例えば、X線吸収端近傍解析(XANES)を実施するためにサンプルをX線に露光させるためのコンパクトで電力消費が少ないシステム及び方法である。このシステム及び方法は、X線管のような電力消費量が少ない放射源と、解析中にサンプルに放射エネルギーを向けて照射し、これを変化させるための同調可能な1つ以上の結晶光学系と、サンプルによって放射された放射線を検出するために、X線検出器のような放射線検出デバイスとを備えている。同調可能な1つ以上の結晶光学系は二重湾曲光学系でよい。システムの構成部品は同一直線上に配置してもよい。開示されるシステム及び方法は、特に例えば、生物学的工程におけるクロム又はその他の遷移金属の化学的状態のXANES解析のようなXANES解析に利用可能である。
(もっと読む)


不活性ガス雰囲気にある試料を分析する蛍光X線分析装置において、分光室は不活性ガスで置換しないですむとともに試料室と連通せず、かつ十分な強度の2次X線を得ることができ、さらに隔壁が長寿命である装置を提供する。試料4が収納される試料室1と、試料4に1次X線6を照射するX線源7が収納され、前記試料室1と連通する照射室2と、試料4から発生する2次X線8を分光して検出する検出手段9が収納される分光室3と、前記照射室2と分光室3とを仕切るように配置されて前記2次X線8を通過させる隔壁10とを備え、前記試料室1および照射室2が不活性ガスで置換されるとともに、前記分光室3が真空排気される。
(もっと読む)


【課題】 FP法で試料の組成や面積密度を分析する蛍光X線分析装置などにおいて、種々の試料について、簡便にしかもジオメトリ効果を十分現実に則し加味して理論強度を計算し、十分正確に定量分析できるものを提供する。
【解決手段】 仮定した組成に基づいて、試料13中の各元素から発生する2次X線6 の理論強度を計算し、その理論強度と検出手段9 で測定した測定強度を理論強度スケールに換算した換算測定強度とが一致するように、仮定した組成を逐次近似的に修正計算して、試料13の組成を算出する算出手段10とを備え、その算出手段10が、理論強度を計算するにあたり、試料13の大きさ、ならびに試料表面13a の各位置に照射される1次X線2 の強度および入射角φをパラメータとして、光路ごとに2次X線6 の理論強度をシミュレーション計算する。 (もっと読む)


【課題】磁歪と磁化とを、試料の同領域で観測する。
【解決手段】X線回折法による磁歪計測の手法とX線磁気回折法とを新たに組み合わせることで、磁歪と磁化とを試料の同領域について同時に観測できる便利な手法を開発した。この手法は、試料の同領域についての磁場内での回折光強度の相対変化δを磁場上昇時および磁場下降時のそれぞれで計測して、それらから磁場Hに対し反対称な成分δと対称な成分δとを求め、対称な成分δに基づき試料の前記領域の磁歪係数λ100を求めるとともに、反対称な成分δと対称な成分δとを再合成して得られる量R’に基づき試料の前記領域の相対磁化M/Mを求めるものである。内部モードの磁歪係数値が外部モードの磁歪係数値に一致する条件を使えば、機器の較正等に都合のよい方法である。 (もっと読む)


【課題】本発明は、小角X線散乱用途に使用するX線ビームのビーム発散を減少させるX線ビームを生成する方法及び装置を提供する。
【解決手段】X線ビームを焦点に集束させる集束光学系、集束光学系と光学的に結合する第1スリット、第1スリットと光学的に結合する第2スリット、およびX線検出器を含み、焦点が検出器の前に配置されるX線分析システム。 (もっと読む)


【課題】 X線回折装置において、複数の異なる測定軸を用いて得られた複数のデータを表示することに関して、それら複数のデータを有効に活用できるようにする。
【解決手段】 X線源から発生したX線を試料に照射すると共にその試料で回折したX線をX線検出器によって検出する測定装置2を備えたX線回折装置1である。測定装置2は測定の基準となる測定軸を複数有する。X線回折装置1は、画像を表示する表示装置4と、その表示装置4に供給する画像データを生成する画像データ生成部7,11,13とを有する。この画像データ生成部は、複数の測定軸の個々に関する測定データをTAB表示と共に個別に表示するための画像データを生成し、さらに、複数のTAB表示のうちの1つが指示されたときにそのTAB表示に対応する測定データを画面上に表示するための画像データを生成する。 (もっと読む)


【課題】 軽元素の分析においてSN比が十分に向上した蛍光X線分析方法および装置を提供する。
【解決手段】 試料1に1次X線2を照射するX線源3と、試料1から発生する2次X線の通路4に配置され、分析対象の軽元素と同一の軽元素を含む分光素子7と、この分光素子7によって回折された2次X線4Dが入射される検出器10とを備え、試料1から発生する2次X線の通路4における試料1と分光素子7との間に、分析対象の蛍光X線よりも短い波長のX線を除去する全反射ミラー50からなるフィルタ素子5が配置されている。 (もっと読む)


【課題】金属帯上に塗布されるワックスの付着量を短時間で正確に測定することを可能としたワックス付着量測定方法を提供する。
【解決手段】本発明のワックス付着量測定方法は、ワックスが付着された金属帯を、500〜950℃の温度で熱処理し、該熱処理前後の金属帯上の炭素量の差からワックスの付着量を求めることを特徴とする。さらに、蛍光X線分析法を用いて、熱処理前後の金属帯上の炭素量の差を求めることが好ましい。 (もっと読む)


x線回折を利用した走査方法が開示される。この方法は、容器内の特定の物質によって回折されたx線を検出するよう光導電体x線変換層を有するフラットパネル検出器を用いて交通センターで容器内に特定の物質があるかどうかを検査する段階を有する。回折x線は、例えば波長分散回折及びエネルギ分散回折により種々の仕方で特性決定できる。
(もっと読む)


空港の手荷物検査の分野では、マルチレベル検査手順が利用されている。第1レベル検査システムがバッグの内部の「疑わしい領域」を検出すると、それは次のレベルのシステムに送られ、再スキャンされる。本発明によると、当該領域の再スキャンを大きく低減することを可能にする手荷物内部の疑わしい領域の検出及び追跡を行う装置/方法が提供される。この目的のため、画像内の疑わしい領域の位置と共に、第1レベルシステムからの画像が、第1レベルシステムから第2レベルシステムに送られる。第2レベルにバッグが到着すると、追加的なソース/検出システムを用いてシンプルなX線送信画像が測定される。その後、これら2つの画像は、第2レベルスキャナシステムにおいて疑わしい領域を正確に決定するため、厳密にレジスタリングされる。
(もっと読む)


【課題】 簡単な構成で、X線管の負荷が変わっても蛍光X線の強度にほとんど影響しない全反射蛍光X線分析装置を提供する。
【解決手段】 筒状の筐体11内に、その筐体11の軸方向を長手方向L とする棒状のターゲット10と、そのターゲットの長手方向L に配置されたフィラメント13とを有し、陰極である前記フィラメント13から放射した熱電子14を陽極である前記ターゲット10の端面に衝突させて、そのターゲット10から発生して前記筐体11の側壁に向かうX線を窓12を介して出射する点光源のX線管1 を備え、そのX線管1 からのX線2 を分光素子4 で単色化して帯状の1次X線3 として試料表面5aに微小な入射角度αで入射させ、発生する蛍光X線6 の強度を検出手段7 で測定する。ここで、前記ターゲットの長手方向L が試料表面5aと平行になるように前記X線管1 が配置されている。 (もっと読む)


【課題】 小型かつ簡易な構造であっても、複雑な形状等を有する測定試料の元素分布マップを精度良く作成することができるX線分析装置を提供する。
【解決手段】 測定試料に電子線を照射して、当該測定試料から発生する特性X線の強度を測定するための検出手段を備えたX線分析装置であって、測定試料及び検出手段の相対位置を変更するための回転手段と、測定試料の特性X線の強度を複数位置で測定するための検出手段と、特性X線強度の加算値を求めるとともに、当該加算値に基づいて、測定試料の元素分布マップを作成する作成手段と、を備えている。 (もっと読む)


【課題】本発明が解決しようとする問題点は、分析器の真空系と分析室の真空系を隔壁を用いて遮断した場合、低エネルギーのX線の検出が困難であったという点である。
【解決手段】試料を収容する真空に保持された分析室と、1次ビームを前記試料に照射する1次ビーム照射手段と、前記1次ビームにより前記試料から発生するX線を集束する集光手段と、前記X線の集束点に位置し、前記集束したX線を通過させるアパーチャと、前記アパーチャを通過したX線を分光・検出する真空に保持された分光手段と、を備える表面分析装置であって、前記分析室と前記分光手段を仕切る前記アパーチャにより前記分光手段内の真空度と異なる分析室内の真空度を保持することを特徴とする表面分析装置。 (もっと読む)


141 - 160 / 178