【課題】本発明は、１回のＸ線の照射で測定試料ＳＭのより広い面積を分析し得るＸ線分析装置および該方法を提供する。
【解決手段】本発明のＸ線分析装置は、電子ビームＥＢを生成する電子ビーム生成部１と、電子ビーム生成部１によって生成された電子ビームＥＢの進行方向に沿って配置された複数の４重極レンズ２と、複数の４重極レンズ２を通過して射出された電子ビームＥＢと衝突することによってＸ線を生成するＸ線ターゲット３と、Ｘ線ターゲット３によって生成されたＸ線から所定のエネルギーを持つＸ線を抽出して測定試料ＳＭに照射するＸ線分光結晶４と、Ｘ線分光結晶４によって抽出され測定試料ＳＭを透過した透過Ｘ線を検出するＸ線検出部５とを備え、複数の４重極レンズ２は、電子ビームＥＢを互いに同じ第１方向に発散するとともに互いに同じ第２方向に収束する。 （もっと読む）

【課題】 トールボット干渉法において、従来よりも回折格子及び遮蔽格子の移動の調整が容易で、かつ被検体に対して入射する光の入射方向の変化による位相像のぼけを抑制して縞走査法を行うことができる撮像装置を提供すること。
【解決手段】 撮像装置１は、光源からの発散光を回折することで干渉パターンを形成する回折格子３１０と、干渉パターンの一部を遮蔽する遮蔽格子４１０と、遮蔽格子を経た光を検出する検出器５１０と、回折格子３１０及び遮蔽格子４１０を移動させる移動手段１０１０と、を備え、移動手段１０１０は、回折格子３１０及び遮蔽格子４１０が相対移動しないように回折格子３１０及び遮蔽格子４１０を移動させることで、干渉パターン及び遮蔽格子４１０を相対移動させ、検出器５１０は、干渉パターン及び４１０遮蔽格子の相対移動に対応して、光を検出する。 （もっと読む）

【課題】放射光装置（高エネルギー電子蓄積リング）等の大がかりな装置を用いることなく、比較的簡易な連続Ｘ線光源を用い、被測定物に含有される各元素の平均密度、全量等を非破壊で測定することのできる定量分析方法、及び、そのような定量分析方法を実施することのできる元素別定量分析装置を提供する。
【解決手段】炭素系冷陰極電子源、チタンよりも原子番号の小さい導電性の軽元素からなり、冷陰極電子源から放出された電子が入射面に入射され、入射方向に対して前方にＸ線を放出するターゲット、及び、該ターゲットで発生したＸ線以外のＸ線を遮蔽する遮蔽部材を具備する連続Ｘ線光源と、エネルギー弁別型検出器とを用いて、被測定物のＸ線吸収スペクトルにおける含有各元素の吸収端ジャンプ量を求め、あらかじめ標準試料等で決定した元素別の質量吸収端ジャンプ係数と前記含有各元素の吸収端ジャンプ量に基づき、被測定物に含有される各元素について同時にＸ線透過経路上の面密度を測定することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明はＥＰＭＡ(電子プローブマイクロアナライザ)におけるＸ線像データ処理方法及び装置に関し、異なるシーケンスで取得し位置ずれが存在しているＸ線像データ同士であっても、相関演算処理を正確に行なうことができるようにすることを目的としている。
【解決手段】 ＥＰＭＡを用いて試料の同一領域について異なるタイミングでそれぞれＸ線像のデータを取得して記憶する場合において、各タイミングで前記領域について２次電子又は反射電子検出に基づく電子像データを併せて取得して記憶し、異なるタイミングで取得した電子像データを比較して位置ずれ量を算出し、算出した位置ずれ量に基づき、前記異なるタイミングで得た各Ｘ線像データに対して、各Ｘ線像データに共通して存在する領域を切り出す処理を施すことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線分析を行うのに好適なＸ線分析装置及びＸ線分析方法を提供する。
【解決手段】照射Ｘ線用の開口部３６と参照Ｘ線用の孔３８とが形成されたマスク１８と、供試体２０を支持する支持部１９と、マスクを介して供試体にＸ線を照射することにより得られるホログラム像を取得する２次元Ｘ線検出器２２とを有し、マスクと支持部とが相対的に移動自在である。 （もっと読む）

【課題】所定の光軸にマルチキャピラリＸ線レンズを設置する際、保護ケースの中心軸に合わせて設置することが可能なマルチキャピラリＸ線レンズ用の保護ケースを提供する。
【解決手段】本発明に係るマルチキャピラリＸ線レンズ用保護ケースは、マルチキャピラリＸ線レンズの周囲を覆う保護管１０と、保護管１０の外周に設けた外管１２と、該外管１２の内側の保護管１０の傾きを調整する調整手段としての調整ねじ１３と、有することを特徴とする。本発明の保護ケースは、調整ねじ１３を用いて外管１２の内側の保護管１０の傾きを調整することで、保護管１０の内部のマルチキャピラリＸ線レンズ７の実効軸Ａ₁と外管１２の中心軸Ａ₄の相対的傾きを調整することができる。そのため、調整ねじ１３を用いて予めこれらの軸を調整しておけば、最も外側に位置する外管１２の中心軸Ａ₄を、光軸を合わせる際の基準にすることができる。 （もっと読む）

【課題】回折格子と遮蔽格子を有するタルボ干渉法を用いた撮像装置において、回折格子および遮蔽格子の姿勢のずれによるキャリア周波数に対応するスペクトル強度の低下を軽減する。
【解決手段】撮像装置はＸ線源１１０とＸ線源１１０から出射したＸ線を回折する回折格子１３０と回折格子１３０によって回折されたＸ線の一部を遮る遮蔽格子１５０と遮蔽格子１５０を経たＸ線の強度分布を検出する検出器１７０とを有する。更に、撮像装置は、調整部１９０を有する。調整部１９０は、検出器１７０で検出された強度分布を複数の領域に分割し、複数の領域の強度分布に基づいて、回折格子１３０および遮蔽格子１５０のうち少なくともいずれか一方の姿勢を調整する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は回折装置及びその使用に関する。
【解決手段】
本発明の回折装置は、コンパクト粉末回折装置であり、１以上の検出装置（１８）を持ち、これは、粉末サンプル（１４）を配置するためのサンプル台（１７）から３００ｍｍ未満、例えば５５ｍｍに設けられる。小さい寸法であるにもかかわらず、本発明の装置は、前記サンプルへの適切に広がったＸ線入射ビームと、単色化結晶を用いたグレージング条件での放出による小さいスポットサイズとを達成する構成を用いることで、小さい寸法であるにもかかわらず高分解能が得られる。 （もっと読む）

【課題】真空引きや大気圧への開放（リーク）に対して破損しにくく丈夫なＸ線検出器及びそれを備えた表面分析装置を提供する。
【解決手段】開口部１１ａとガス導入口１１ｂとガス排出口１１ｃとを有する検出器筐体１１と、開口部１４ａを有する窓枠１４と、検出器筐体１１と窓枠１４とで挟持されることにより、検出器筐体１１の開口部１１ａと窓枠１４の開口部１４ａとの間に配置され、特性Ｘ線を透過する樹脂製の平板形状の窓材１２と、検出器筐体１１の内部に配置され、電流を測定する芯線１３とを備え、真空引きと大気圧への開放とが可能な試料分析室の内部に配置されるＸ線検出器１０であって、特性Ｘ線を透過しない金属製の第一メッシュ１７ａ、第二メッシュ１７ｂとを備え、検出器筐体１１の開口部１１ａと窓枠１４の開口部１４ａとの間には、第一メッシュ１７ａと窓材１２と第二メッシュ１７ｂとをこの順で挟持されるように配置する。 （もっと読む）

【課題】試料識別標記や特異元素で構成されたマスクや試料ホルダを要せず、試料を試料ホルダに搬送する前に試料ホルダを短時間で自動識別する分析装置を提供する。
【解決手段】本発明の分析装置は、カセット２１の種類を識別するカセット部２０と、試料Ｓが挿入される挿入口８３、および、試料が載置される輪状の台座８２を有する試料ホルダ８と、カセット２１から試料ホルダ８へ試料Ｓを搬送する搬送手段２３と、試料ホルダの挿入口の径方向端８４または輪状の台座の内径方向端８５を検出して、載置されるべき試料の直径に対応した試料ホルダの種類を識別する試料ホルダ識別信号を発信する試料ホルダ識別手段３５と、カセット識別信号および試料ホルダ識別信号に基づいて、カセット２１に収納されるべき試料の直径と試料ホルダ８の台座に載置されるべき試料の直径とが合致しているか、否かを判定する判定手段４０とを備える。 （もっと読む）

【課題】本発明はＸ線分析方法及び装置に関し、ステージ走査でも良好なドリフト補正を行うことができるＸ線分析方法及び装置を提供する。
【解決手段】試料上の面分析領域の内部を複数のブロックに分けて、ブロック内での各ラインのステージ走査に基づく特性Ｘ線の測定が第１ブロックから各ブロック毎に順次行うようにされており、各ブロックにおいて最初に走査が行われるラインについてのステージ走査の開始前に、試料の電子線走査画像を取得し、第２ブロック以降における特性Ｘ線の測定開始時においては、当該ブロックにおいて取得された電子線走査画像と、その直前のブロックにおいて取得された電子線走査画像との照合を行って、ステージのドリフト量を求め、該ドリフト量に基づいて電子線のビームシフトを行うことにより、試料上での電子線の照射位置を補正してから当該ブロック内での特性Ｘ線測定を開始するように構成する。 （もっと読む）

【課題】 10μm以下のビームサイズの入射X線を使用したX線反射率法で微小領域の膜厚を計測するには、入射角を変えながら、X線の焦点位置、試料表面、回転軸の関係を１μm以下の精度で維持、制御する必要がある。
【解決手段】 本発明は、X線レンズを振幅分割ビームスプリッターと集光光学系として用いることにある。X線レンズで屈折されたX線は、焦点位置で１０μm以下に集光するような角度分布を与える。薄膜積層体を焦点位置に配置し、鏡面反射されたX線を物体波、X線レンズを透過したX線を参照波として薄膜積層体下流に配置したX線レンズで重ね合わせ干渉させる。光路差と薄膜積層体中で生じた位相差を反映した干渉縞の間隔および位置から反射X線の位相を解析し、微小領域の膜厚を計測、検査することを特徴とする薄膜積層体検査方法 （もっと読む）

【課題】プレ撮影と本撮影との間での格子位置の変動によるアーチファクトの発生を防止する。
【解決手段】被検体を配置しない状態でのプレ撮影時に生成される第１の位相微分像と、被検体を配置した状態での本撮影時に生成される第２の位相微分像とについて、値がπ／２から−π／２、または−π／２からπ／２に変化する境界線を求め、所定方向に境界線を通過するたびにπまたは−πずつ変化する第１の階段状データと第２の階段状データとそれぞれを作成する。第１の位相微分像に第１の階段状データを加算して第１の加算済位相微分像を生成し、第２の位相微分像に前記第２の階段状データを加算して第２の加算済位相微分像を生成する。第２の加算済位相微分像から第１の加算済位相微分像を減算して補正済位相微分像を生成する。 （もっと読む）

【課題】無機成分を含んでガラスビードに調製すべき試料について、無機成分のみの濃度を簡便かつ正確に求めることができる蛍光Ｘ線分析装置を提供する。
【解決手段】ＦＰ法により試料における各成分の濃度を算出する算出手段１０Ａを備えた蛍光Ｘ線分析装置であって、算出手段１０Ａが、ガラスビード３について試料３ａに含まれていた各無機成分の濃度および残分としての融剤３ｂの濃度を仮定して、ガラスビード３における各成分の濃度を算出し、算出した各無機成分の濃度の合計が１００％になるように規格化して各無機成分の濃度を試料３ａについての最終分析値とする。 （もっと読む）

【課題】電子線を照射した試料からの特性Ｘ線を回折させてスペクトルを採取するシステムにおいて、採取スペクトル中にカソードルミネッセンスが含まれているかを検出し、除去する。
【解決手段】試料に対して電子線を照射する電子線照射部と、電子線が照射された前記試料から放出される特性Ｘ線を受けて回折Ｘ線を生じさせる回折格子と、前記回折格子で生じた回折Ｘ線を検出するイメージセンサと、前記イメージセンサで検出された前記回折Ｘ線の採取スペクトルを分析してエネルギー分布スペクトルを生成する分析部と、前記エネルギー分布スペクトルのベースラインを抽出するベース抽出部と、前記ベースラインの傾きから前記エネルギー分布スペクトルに含まれるカソードルミネッセンス成分を抽出するカソードルミネッセンス抽出部と、を備え、前記分析部は、抽出された前記カソードルミネッセンス成分を前記エネルギー分布スペクトルから除去する。 （もっと読む）

【課題】電子線を照射した試料からの特性Ｘ線を回折させてスペクトルを採取するＸ線検出システムにおいて、適切な集光を行うＸ線集光ミラーを備えることでエネルギー分布スペクトルの検出精度を維持する。
【解決手段】試料に対して電子線を照射する電子線照射部と、電子線が照射された前記試料から放出される特性Ｘ線を集光させて回折格子に導くＸ線集光ミラーと、前記Ｘ線集光ミラーの位置もしくは角度を調整するＸ線集光ミラー調整部と、前記Ｘ線集光ミラーにより集光された特性Ｘ線を受けて回折Ｘ線を生じさせる回折格子と、前記回折格子で生じた回折Ｘ線を検出するイメージセンサと、を備え、前記Ｘ線集光ミラー調整部は、前記Ｘ線集光ミラーの反射面において反射する前記特性Ｘ線のエネルギーに応じて反射可能な角度範囲で、前記Ｘ線集光ミラーの位置もしくは角度を調整する。 （もっと読む）

【課題】結晶構造を有する試料から発生する散乱線および不純線を抑制し、回折Ｘ線を回避することができるＸ線分析装置および方法を提供する。
【解決手段】Ｘ線分析装置は、試料Ｓを試料の所定点周りに３６０°回転させながら１次Ｘ線２を照射させて取得した回折パターンを記憶する制御手段１５と、試料ＳのＲ−θ座標において試料の測定面上に位置することができる試料の平行移動範囲の上下限値のθ座標を、演算および／または記憶する演算記憶手段１７と、演算および／または記憶されたθ座標の上下限値、および回折パターンに基づいて、隣り合う間隔がθ座標の上下限値範囲内の角度であって、回折Ｘ線を回避できる回避角度を選択するための選択手段とを備え、制御手段１５が試料の測定点の座標に応じて、回避角度の中から測定点の座標に最も近い回避角度を読み出して、読み出した回避角度に試料を設定する。 （もっと読む）

【課題】電子線を照射した試料からの特性Ｘ線を回折格子により回折させてイメージセンサでスペクトルを採取するシステムにおいて、幅広いエネルギー領域の測定を行う。
【解決手段】試料に対して電子線を照射する電子線照射部と、電子線が照射された前記試料から放出される特性Ｘ線を受けて回折Ｘ線を生じさせる回折格子と、前記回折Ｘ線のエネルギー分散方向と直交方向の複数の位置に前記回折Ｘ線の結像面を振り分けるように前記回折Ｘ線の進行を振り分けるスプリッタと、前記スプリッタにより振り分けられた複数の結像面のそれぞれに配置された異なるエネルギー感度特性の複数のイメージセンサと、を有する。 （もっと読む）

【課題】 複数のＸ線ビームを出射させるＸ線源を用いたＸ線撮像装置であって、干渉パターンの不均一さを軽減することを目的とする。
【解決手段】 Ｘ線撮像装置は、電子源とターゲットとを有するＸ線源と、Ｘ線源からのＸ線を回折する回折格子と、遮蔽格子からのＸ線を検出する検出器と、を備える。Ｘ線源のターゲットは複数の凸部を有し、複数の凸部の各々は出射面を有する。出射面は、電子源からの電子線が入射することにより、回折格子へ向かうＸ線を出射する。出射面から出射されたＸ線は、回折格子で回折されることにより、干渉パターンを形成する。ターゲットの複数の凸部は、複数の干渉パターンの明部同士及び暗部同士が互いに重なるように配列されていて、複数の出射面の各々と回折格子との距離が互いに等しいことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、導電性層と有機層との界面近傍の化学状態および／または電子状態の評価方法に関する。本発明は、導電性層と有機層のいずれも１５ｎｍ程度以上の厚さである場合においても、導電性層と有機層との界面の、化学状態または電子状態の評価が可能となる方法を提供する。
【解決手段】評価対象の試料が導電性層と有機層を有し、該導電性層と該有機層の界面に硬Ｘ線を照射することにより発生する光電子のエネルギーを測定することによる該導電性層と該有機層との界面近傍の化学状態および／または電子状態の評価方法。 （もっと読む）