【課題】 アスペクト比の低い回折格子を用い、挟ピッチ化を図ることが可能となるＸ線位相イメージングに用いられる位相格子等を提供する。
【解決手段】 Ｘ線位相イメージングに用いられる位相格子であって、
入射するＸ線の位相をπシフトさせて透過させる厚さに形成されている第１の突条部と、該第１の突条部の幅と同一の開口幅を有する第１の開口部とが周期的に配列されている第１の回折格子と、
前記第１の突条部と同一の幅を有する第２の突条部と、前記第１の開口部と同一の開口幅を有する第２の開口部とが周期的に配列されている第２の回折格子とを有し、
前記第２の回折格子は、前記第１の回折格子の上に、ずらして形成されていることを特徴とするＸ線位相イメージングに用いられる位相格子。 （もっと読む）

Ｘ線発生装置は、Ｘ線照射の源と、源によって生成されたＸ線照射を収束する導波路束光学系と、集束されたＸ線照射を焦点に集束する集束光学系とを含む。
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【課題】蛍光Ｘ線分析により炭素質材料に含まれる元素をより迅速且つ容易に定量分析する。
【解決手段】蛍光Ｘ線分析装置２０は、蛍光Ｘ線分析方法とは異なる第２の測定方法（例えばＩＣＰ発光分析法）によって炭素質材料に含まれる含有元素の含有量を求めると共に、蛍光Ｘ線測定ユニット３０によってこの含有元素の強度値を求め、得られた含有量と強度値との対応関係情報（検量線）をＨＤＤ２５に記憶し、未知試料を蛍光Ｘ線の強度を検出し、この含有元素の強度値とＨＤＤ２５に記憶された対応関係情報とに基づいてこの未知試料の含有元素の含有量を定量する。蛍光Ｘ線分析方法では、炭素に対する感度がないが、第２の測定方法を利用することにより、定量可能とし、試料に含まれている元素の定量を非破壊で迅速に行う。 （もっと読む）

【課題】干渉計デバイス及び干渉法を開示する。
【解決手段】一実施形態において、デバイスは、第１の平均波長λ_LEの放射線を放射する電磁放射線源と、第１のアスペクト比を持つ位相格子と、第２のアスペクト比を持つ吸収格子と、検出器と、を備えている。電磁放射線源、位相格子、吸収格子、及び検出器は、放射線に関して互いに連結されている。吸収格子は、検出器と位相格子との間に配置されており、電磁放射線源は線源格子の前方に配置されており、位相格子は、放射された放射線において、Πよりも小さい位相シフトを生じさせるよう設けられている。 （もっと読む）

【課題】 リチウムが存在する試料を高純度の窒素雰囲気中にさらし、窒素と常温で反応させることによって窒化リチウムを生成させ、その後、大気に曝すことなく窒素雰囲気のままＥＤＸ或いはＥＰＭＡ分析装置に導入し、窒化リチウムの窒素の分析により、定性的にリチウムの存在を確認可能な分析方法を提供することにある。
【解決手段】 グローブボックス１内に、十分な置換可能な量の乾燥空気を、乾燥空気導入口５を通して流し込み置換し、その後、連続してグローブボックス１内に、露点温度−２０度以下の純度９９．９％以上の窒素を、窒素ガス導入口６を通して流し込み置換する。試料をグローブボックス１内で、高純度の窒素雰囲気中にさらし、窒素と常温で反応させることによって窒化リチウムを生成させる。ＥＤＸ分析装置９内の試料室へ試料を導入し、試料に電子線を照射しＥＤＸスペクトルより、窒素元素の特性Ｘ線のピークを分析することにより、リチウムの存在が可能となる。 （もっと読む）

【課題】スラグ中の微量元素、特に揮発性微量元素を正確且つ迅速に分析することができるスラグ分析方法を提供する。
【解決手段】採取したスラグの少なくとも９５％以上が球換算直径で５０μｍ以下となるようにスラグを粉砕し、圧力３０ｔ／ｃｍ^２以上で且つ２０秒以上加圧プレスすることにより、厚さが２〜４ｍｍで分析面の凹凸が０．０５ｍｍ以下の試料を成形し、上記分析面に対し、電圧３０ｋＶ〜４０ｋＶ、電流５０〜７０ｍＡのＸ線を照射してスラグ中の揮発性微量元素の分析を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

対象の内部特質、例えば対象の内部吸収、屈折、反射、散乱特性を可視化するシステムを開示する。実施の形態は、浸透する照射線の１つ以上のビームと、内部特質がイメージされる対象と、単一もしくは配列である照射線光学器と、結果としてのＸ線写真を捉えるための検出器とを含むことができる。対象を通して伝導する照射線ビームは、普通狭軸に沿って高空間的純度および直角をなす長軸に沿って低空間的純度を持つ線状源から発生される。照射線光学器は長軸において対象の高解像度イメージを形成するために対象から出てくる発散する照射線を捉えて焦点を合わす。照射線光学器なしでは、Ｘ線写真はこの軸でぼやける。このようなＸ線写真は、狭いビーム源である対立軸では自然に明瞭でありその軸に沿って対象の屈折、反射、散乱特性を明らかにする。また実施の形態は、対象から出るビームにディスクリミネータ（ストッパー、位相転移器、結晶分析器）を含むことができる。また実施の形態は、大きい対象の２次元または３次元イメージ形成を可能にするスキャンの機構を含むことができる。また実施の形態は、対象から出る照射線・照射線波形の分析から得られた対象の内部特質のイメージを含むことができる。
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【課題】Ｘ線吸収測定装置において、Ｘ線の吸収スペクトルを短時間で高精度に測定する。
【解決手段】測定制御部４１の制御の下で、分光器１０により単色化されたＸ線を試料１に入射させ、分光器１０の角度変化に応じて試料１へのＸ線のエネルギーを変化させながら検出器２１，２２からの検出値を随時取得することで、試料１によるＸ線の吸収スペクトルが測定される。このとき、測定制御部４１は、試料１へのＸ線のエネルギー変化に対する試料１のＸ線吸収量の変化率に応じて、モータコントローラ３１を制御して分光器１０の角度を変化させる際の角度変化速度、または、タイマカウンタ３２のカウント値に基づく検出値の取得間隔の少なくとも一方を変化させながら、タイマカウンタ３２を通じて検出値を取得する。 （もっと読む）

【課題】 バックグランドレベルからピークを越えてまたバックグランドレベルまで至るＸ線スペクトル波形の全体の形状を、必要最小時間の1回の測定で正確に測定し、表示するための方法を提供する。
【解決手段】
ある分光位置においてｔｏ時間計数したときの統計変動を含まないＸ線計数値Ｎカウントが持つばらつきの標準偏差ＥｏはＳｑｒｔ（Ｎ）である。Ｘ線強度の高い分光位置で、このばらつきが一定の大きさＥｒ（表示許容誤差）より大きい場合、ｔｏよりも長いｔｍ時間計数して総計数値をＮｍカウントに増やす。Ｎｍの標準偏差ＥｍはＥｒより大きいが、実際にスペクトル表示に使われるＸ線計数値Ｎｄは、ｔｏ時間の計数値に規格化されるので、そのばらつきＥｍも規格化されてＥｄになり、Ｅｒと同じか小さくなる。従って、表示されるスペクトルの全ての分光位置におけるばらつきはＥｒと同じか小さくなる。 （もっと読む）

【課題】イオン化ポテンシャルの測定精度を向上させる。
【解決手段】試料に紫外光を照射することで得られる電流値からイオン化ポテンシャルを測定するためのイオン化ポテンシャル測定装置において、光源から放出される連続光から所定の波長の紫外光を分光する分光手段と、前記分光手段により分光された前記紫外光からフィルタにより複数の波長範囲における紫外光を取得するフィルタ手段と、前記フィルタ手段により得られる波長範囲が同一でない紫外光を前記試料及び光強度検出器に照射し、前記試料から発生する電流及び前記光強度検出器から得られる光強度を測定する電流・光強度測定手段と、前記電流・光強度測定手段により得られる複数の測定結果に基づいて、前記フィルタ手段により得られるそれぞれの波長範囲の差分の紫外光におけるイオン化ポテンシャルを測定するための制御手段とを有することにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

本願発明は、反応を解析する方法に関する。前記方法は、少なくとも一つのアクセプター化合物と、少なくとも一つのドナー化合物を含む溶液を提供する工程を含む。ドナー化合物は、化学的要素を含む化合物部分をアクセプター化合物に付与することが可能である。溶液は、ドナー化合物とアクセプター化合物との間の反応に影響を及ぼす少なくとも一つの制御化合物を含む。その後溶液をインキュベートし、アクセプター化合物の一部をドナー化合物と反応させ、アクセプター生成物を形成する。未反応ドナー化合物を、アクセプター生成物から分離する。その後、Ｘ線蛍光を使用して、アクセプター生成物またはドナー化合物を計測する。さらなる解析方法が開示される。
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【課題】直接光の影響を効果的に低減できるＦＺＰ拡大法によるトポグラフィー測定装置を提供すること。
【解決手段】本発明は、従来のＸ線トポグラフィー測定装置に加えて、回折Ｘ線ビーム１０３を遮る遮蔽体１と、その遮蔽体１を動かす遮蔽体駆動手段２と、所定の周期信号を発生する関数発生器３と、測定された回折Ｘ線ビーム１０３から遮蔽体１の動きの周期と同期した変動成分を抽出するロックインアンプ４と、プリアンプ５、及び周波数−電圧（Ｆ−Ｖ）変換器６を備える。遮蔽体駆動手段２は、関数発生器３が生成する周期信号に基づいて遮蔽体１を駆動し、ロックインアンプ４は、同じ周期信号に基づいて変動成分を抽出する。 （もっと読む）

【課題】高次回折の特性Ｘ線を用いる状態分析において、高次線の測定を行う条件を自動的に設定し、得られたスペクトルを１次線の値に換算して表示できるようにする。
【解決手段】 入力装置１２から状態分析を行う元素の元素名、特性Ｘ線種及び回折次数を入力する。測定制御装置１１は指定された元素の特性Ｘ線種に従って記憶装置１４から１次線の波長データを読出し、回折次数に基づいて実際の分光波長位置と測定波長範囲を求める。さらに、指定された回折次数のＸ線信号のみが選別されるように、ＷＤＳ測定系８内のＰＨＡの条件を設定する。
測定された高次回折線のスペクトルを１次線の値に換算し、表示装置１３に表示する。 （もっと読む）

【課題】試料のセット時に生じる試料表面の傾斜を補正する方法を提供すること。
【解決手段】斜出射電子線プローブマイクロＸ線分析方法は、試料ステージに載置された試料に電子線を照射し、試料内部から発せられる特性Ｘ線が試料表面での全反射現象により検出されない角度以下に試料ステージを傾斜させて特性Ｘ線の取出角度を設定することにより試料の表層から発せられる特性Ｘ線のみをＸ線検出器で選択的に検出する斜出射電子線プローブマイクロＸ線分析方法において、所定の基準面に対する試料表面の傾斜角度を求める工程と、求められた傾斜角度が相殺されるように試料ステージを傾斜させて特性Ｘ線の取出角度を設定する工程を備える。 （もっと読む）

【課題】パルスモータが通常有している原点センサを利用して簡便に脱調を検出できるパルスモータの制御装置などを提供する。
【解決手段】原点センサ付きのパルスモータ２の制御装置２５であって、まず、パルスモータ２の回転位置において現在位置Ｐｓから最終目的位置Ｐｔまでの間で原点センサが原点を検出すべき位置のうち最後の位置を中間目標位置Ｐｉとし、現在位置Ｐｓから中間目標位置Ｐｉに到達するだけのパルスをパルスモータ２に与えて実際に到達した位置を脱調検出位置Ｐｄとする。そして、その脱調検出位置Ｐｄで原点センサが原点を検出するか否かを調べ、脱調検出位置Ｐｄで原点センサが原点を検出しない場合には、パルスモータ２が脱調したと判断し、脱調検出位置Ｐｄで原点センサが原点を検出した場合には、中間目標位置Ｐｉから最終目的位置Ｐｔに到達するだけのパルスをパルスモータ２に与える。 （もっと読む）

【課題】結晶を破壊することなく簡便に精度良く転位を評価する方法を提供する。
【解決手段】結晶試料の表面にＸ線を照射することにより、逆格子空間における結晶試料の非対称回折面からの水平方向の強度分布曲線を作成し、該強度分布曲線の半値幅により結晶試料の転位を評価する。 （もっと読む）

【課題】有害物質の含有量調査において目的とする有害物質の存在が確認できなかった場合でも、その含有量が規制値・管理値を超えている可能性があるか否かを分かり易く提示する。
【解決手段】目的元素が入力設定されると（Ｓ１）、各目的元素の特性Ｘ線位置におけるバックグラウンド強度から理論計算により検出下限が算出される（Ｓ１１〜Ｓ１４）。一方、蛍光Ｘ線スペクトルに対するピークサーチ処理から得られるピーク位置、ピーク強度に基づいて含有元素が同定され（Ｓ５）同定された元素が定量される（Ｓ６）。目的元素が同定されなかった場合（Ｓ７でＮ）、理論計算により求められた該当元素の検出下限が呼び出され（Ｓ８）、元素と定量値（又は検出下限）とが対応付けて表示される（Ｓ９）。これにより、存在が確認されなかった元素についての検出下限が規制値・管理値を超えているか否かを容易に確認することができる。 （もっと読む）

【課題】試料中に含有される指定された元素については、その元素からの蛍光Ｘ線の測定強度と試料の基板中に含有される内標準元素からの蛍光Ｘ線の測定強度との測定強度比をＦＰ法に用いて、精度よく分析できる蛍光Ｘ線分析装置およびその方法を提供する。
【解決手段】試料１３、Ｘ線管１、試料台８、検出手段１０および算出手段１６を備え、ＦＰ法で分析を行い、算出手段１６が、試料のコーティング層１３Ａ中に含有される指定された元素については、その元素からの蛍光Ｘ線の測定強度と試料の基板１３Ｂに含有される内標準元素からの蛍光Ｘ線の測定強度との測定強度比に基づく理論強度スケールへの換算強度比と、指定された元素からの蛍光Ｘ線の理論強度と内標準元素からの蛍光Ｘ線の理論強度との理論強度比が合致するように前記コーティング層の厚さおよび各元素の含有率を算出する蛍光Ｘ線分析装置。 （もっと読む）

【課題】スループット時間を大幅に増加させることなく、ＴＩＳおよび／または瞳面の中心を求める際のエラーを補償し、或いは、軽減する方法および装置を提供する。
【解決手段】スキャトロメータの非対称性を測定する方法において、ターゲット部分を、第一には０°の基板回転で、第二には１８０°の基板回転で、２回照明する。これらの像の一方を回転し、次に回転したその像を他方の像から引く。この方法で、スキャトロメータの非対称性を補正することができる。 （もっと読む）

【課題】小角Ｘ線散乱曲線の始点から終点までの散乱角度についての積分値であるＸ線散乱積分強度と、被測定物の比表面積とがほぼ比例関係にあることに基づき、被測定物のＸ線散乱積分強度から比表面積を測定する比表面積測定装置において、散乱角度が０．１°未満の領域における超小角Ｘ線散乱曲線を容易に計測でき、被測定物の比表面積を０．２ｍ²／ｇから３０ｍ²／ｇの範囲においても高精度で測定することができるようにする。
【解決手段】第一分光結晶２ａと第二分光結晶２ｂとの間隔が１００ｍｍ以上である二結晶型分光器２と、二結晶型分光器２で分光されたＸ線から目的とする入射Ｘ線を取り出すためのスリット３と、被測定試料４にて散乱したＸ線を再度単色化し、しかも散乱Ｘ線の方向を入射Ｘ線の方向からずらす分光結晶５と、散乱Ｘ線の散乱角度を測定する散乱角度測定器１４と、前記分光結晶５を経た散乱Ｘ線の散乱強度を測定するＸ線検出器６とを備えた小角Ｘ線散乱装置Ａを用いて小角Ｘ線散乱曲線を測定する。 （もっと読む）