【課題】結合レンズの一対によって１回に撮り込まれる被検査体の像における少なくとも２以上の検査部位を別々にCCDカメラ等によって撮像して得られたデータを比較することにより、簡便に欠陥を検知する。
【解決手段】被検査体に対向した対物レンズと該対物レンズの光軸上に配置された結像レンズと、該結合レンズの光軸上に配置され、この光軸を２つに分割するスプリッタと、該スプリッタによって分割された前記光軸上にそれぞれ配置された撮像手段を有する検査装置であって、この撮像手段の受光面と被検査体との光学的距離が互いに等しくなるように配置され、且つ、該撮像手段の受光面の光軸が前記分割された光軸と同軸でないことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 本発明は観察対象である試料を照明する照明手段と、この試料上のパターンの特定の空間周波数成分を除去する空間フィルタとを簡単な構成で実現する顕微鏡装置及びその照明方法を提供する。
【解決手段】 顕微鏡装置の光源４０を、対物レンズ３の瞳面８又はこの瞳面と共役な平面２３上に設け、これらの面上にこの光源４０を支持するための支持手段４０を空間フィルタとして使用する。 （もっと読む）

【課題】各光源の光パルスパターンを調整することで、所望の均一強度でストロボ発光される複数の光源の各々の光度を調整する照明方法を提供する。
【解決手段】ストロボ継続時間にかけて対象物を照明するために、全ての光源が制御される。光パルスパターンは、様々な方法で形成したマイクロストロボ発光される光パルスパターンであってよい。この照明方法を使用することにより、画像取得の最中に対象物が移動しているか否かにかかわらず、物体上のエッジ強度プロフィールの形状を保存でき、精密なエッジ位置測定を可能にする。 （もっと読む）

【課題】 受光可能散乱角度範囲を調整する手段を設けることによって、被測定物の性状に合った適切な測定を可能にする測定器を提供すること。
【解決手段】 レーザー１から被測定面Ｗに光が照射されると、散乱光が生じる。同一散乱角度θの散乱光束Ｓは、対物レンズ３によって位置Ｆ´に集光される。位置Ｆ´と略同位置には散乱角度制限絞り５が設けられており、集光位置Ｆ´が開口部５２の内部に位置している場合に限り、散乱光束Ｓは散乱角度制限絞り５を通過される。集光位置Ｆ´は散乱角度θのみによって決定されるため、散乱角度制限絞り５は、それを通過されて受光素子８で受光される散乱光の受光可能散乱角度範囲を規定する。受光可能散乱角度範囲は、開口部５２の形状の調整によって自由に調整できる。そのため、被測定物の性状に最も合った受光可能散乱角度範囲を設定し、測定を精度良くできる。 （もっと読む）

【課題】 対象物に均一に光を照射することができ、且つその光の色の設定が容易な同軸落射照明装置を提供すること。
【解決手段】 上下方向に伸びる筒体、この筒体内部に筒体の長さ方向に沿って互いに同軸に配置された一対の光学レンズ、この一対の光学レンズの間にレンズの軸に対して表面を傾斜させて配置されたハーフミラー、そして上記筒体の側部に備えられ、上記ハーフミラー表面での反射を介してレンズの軸と同軸に且つ筒体の下側方向に伝わる光を発する光源からなり、この光源が、直流電圧の印加により発光する有機エレクトロルミネッセンス素子を少なくとも一個備えていることを特徴とする同軸落射照明装置。 （もっと読む）

【課題】 偏光を使用した欠陥検出装置を提供する。
【解決手段】 表面を検査する装置は、調整可能な偏光を有する照射ビームで表面を照射するように適応される照射光学系を備えている。この装置は、更に、配向を有する各分析器に各々関連され、表面上の照射エリアから分析器を経て受け取った光に応答して信号を発生するように適応される少なくとも１つの検出器を備え、少なくとも１つの検出器の１つは、照射エリアからの散乱光を受け取るように適応される。又、この装置は、照射エリアを照射するように照射光学系を向け、それにより少なくとも１つの検出器に発生される較正信号に応答して、調整可能な偏光、及び各検出器の各分析器の配向を設定するように適応されるコントローラも備えている。 （もっと読む）

【課題】半導体基板上のパターンの検査を精度よく行うことができるテンプレートヒストグラムを生成する。
【解決手段】パターン検査装置のテンプレートヒストグラム取得部５２では、準備された複数の参照画像のそれぞれから検査領域の画素値の参照ヒストグラムが生成される。続いて、各画素値における複数の参照ヒストグラムの複数の頻度に対して所定の演算が行われ、各画素値に対応するとともに複数の頻度の最小値以上最大値以下の１つの頻度が求められることにより、検査領域に対する１つのテンプレートヒストグラムが取得される。半導体基板のパターンの検査において、テンプレートヒストグラムは被検査画像中の検査領域における画素値のヒストグラムと比較され、これにより、半導体基板上のパターンの検査が精度よく行われる。 （もっと読む）

【課題】照明条件などの観察条件の設定を容易にして使い勝手を改善する。
【解決手段】観察対象を照明するための照明部と、照明部により観察対象を照明する照明方向、明るさ、角度の少なくともいずれかを変化させた複数の異なる照明条件を設定するための簡易観察条件設定手段と、簡易観察条件設定手段で設定された複数の照明条件毎に簡易的に取得された複数の簡易観察画像を表示手段の画面上に一覧表示する簡易観察画像表示手段と、簡易観察画像表示手段に表示された複数の簡易観察画像の内から所望の一の簡易観察画像を選択する選択手段と、選択手段で選択された簡易観察画像に設定されている照明条件に基づき、必要に応じてさらに照明条件を設定可能な観察条件設定手段と、観察条件設定手段で設定された照明条件に基づいて、撮像手段で取得された観察画像を表示する観察画像表示手段とを備える。 （もっと読む）

大型基板フラットパネル検査システムに関して、方法および装置が記載される。該方法は、電子シャッタを有する撮像装置を含む機械を用いて対象物を検査する方法であって、第一の位置と第二の位置との間の該対象物の表面にわたって該撮像装置を走査することと、少なくとも１つの発光ダイオードをストロボ発光して、該第一の位置と該第二の位置との間の該対象物を照明することと、該電子シャッタの動作を、該ストロボ発光された少なくとも１つの発光ダイオードと同期化することとを包含し、ｉ）該少なくとも１つの発光ダイオードをストロボ発光することは、該機械上に位置する少なくとも１つのインデックスマークを用いて、該少なくとも１つの発光ダイオードを点灯することを含み、ｉｉ）走査することは、該第一の位置と該第二の位置との間で、該撮像装置を連続的に移動させることを含む。
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【課題】 印刷回路基板の微細パターンを検査するための照明装置と、これを具備する自動光学検査システムおよびこれの検査方法を提供する。
【解決手段】 本発明の自動光学検査システムに具備される照明装置は、印刷回路基板パターンの平面部分を中心に反射光を出力する少なくとも一つの第１光源と、第１光源から反射光を受けて印刷回路基板に出力し、印刷回路基板から反射された光を受けてイメージセンサに出力するビームスプリッタと、印刷回路基板パターンのエッジ部分を中心に反射光を出力する少なくとも一つの第２光源および、第２光源から反射光を受けて集光して出力する集光レンズを具備し、印刷回路基板の微細パターンの映像獲得時、光の明るさおよび均一度を向上させる。 （もっと読む）

【課題】真空気密、大気圧気密、加圧気密の何れの間隙部でも、又、被検査物の大小、熱に対する耐久性の有無に関係なく適用することができ、更に秒単位の短時間で測定でき、生産ラインにも簡単に組み込むことができる密封封止検査方法を提供すること。
【解決手段】ペアガラス、真空コップ、積層型回折光学素子等の複層体や、ヒートシールによる密封包装された真空パックの密封封止検査を、被検査物表面の干渉縞を捉え、更に加圧又は減圧させることによる干渉縞の変化を観察することにより検査する。 （もっと読む）

本発明の全反射鏡を利用したビジョン検査装置は、部品が実装された印刷回路基板を適正検査位置に固定させる基板位置制御モジュールと、前記基板位置制御モジュールの直上部に設置され、前記印刷回路基板を照明する１次照明灯が具備される独立照明部と、前記独立照明部の直上部に設置され、Ｘ−Ｙ軸回転モーターの軸に全反射鏡を付着して前記印刷回路基板上の希望する位置座標に反射角を変更する撮影位置制御モジュールと、前記撮影位置制御モジュールから反射された前記印刷回路基板の映像を獲得するカメラと、前記撮影位置制御モジュール及び基板位置制御モジュールを制御するモーションコントローラと、前記独立照明部の作動を制御する照明コントローラと、前記カメラの作動を制御してカメラに入射される映像をデジタルデータに変換する映像プロセッサからなる制御部と、前記カメラを通じて獲得した映像を判読して不良可否を判定するビジョン処理部とを含む。
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【課題】 ウエハ表面上の欠陥及びエラーを十分なコントラストで提示可能にするウエハ検査方法及びシステムを提供すること。
【解決手段】 とりわけ露光エラーのようなマクロ欠陥を検出するためのウエハ（１６）の検査方法であって、ウエハ表面（１７）の少なくとも１つの被検領域がビーム源（２２）によって照明され、該ウエハ表面の被検領域の画像がカメラ（７）によって撮像され、該ウエハ表面の被検領域が得られた画像に基づいて検査される方法において、前記ウエハ表面（１７）の前記被検領域は、テレセントリックに照明されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】光学的検出器によって被検領域の光学的画像を撮像し、被検構造を明確に識別可能とするウエハ検査方法及びシステムを提供すること。
【解決手段】被検領域の光学的画像の撮像が実行されるウエハ検査方法において、 ウエハに１つの層が形成される前に、第１の光学的画像２５が撮像され、かつ当該層が少なくとも部分的に除去された後に第２の光学的画像２６が撮像されること、及び前記第１の光学的画像と前記第２の光学的画像との対比によって、ウエハ表面の撮像された被検領域が検査されることを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、形成物に対して相対的に動く材料（０３）の表面（０２）の上で照明形成物（１）を生成するための光学システムに関するものである。本発明によると、制御装置（２３）によりパルス駆動される複数の光源を備える照明装置（０６）が、前記形成物を生成するための光（７）を放出し、検出装置（８）が前記照明装置（０６）の前記光源から放出される光を検出し、前記制御装置（２３）は個々の光源（０７）又は１つのグループの光源を制御し、少なくとも１つの光源のターンオン時間（ｔ３）が前記検出装置の露光時間（ｔ１）と同期化されており、前記光源（０７）の前記ターンオン時間（ｔ３）は前記検出装置（０８）の前記露光時間（ｔ１）よりも短く設定されている。 （もっと読む）

光源５８は、レンズ５９によりライン状の平行光に変換され、ビーム・スプリッタ６０に入射される。ビーム・スプリッタ６０は、入射光の半分を反射して光ディスク６５の表面のライン状領域に垂直に入射させ、残りの半分を透過させて光ディスク６５の表面のライン状領域に斜めに入射させる。光ディスク６５の表面に垂直に入射された光の反射光の光量は第１カメラ６２で検出される。この入射光、反射光はともに光ディスク６５の表面に対して垂直であるため、表面に大きな欠陥が生じても第１カメラ６２の撮影において虚像が発生せず、正確な欠陥サイズの検知が可能となる。 （もっと読む）