【課題】本発明は、検査対象の寸法が検査光の波長以下となっても、高解像度の検査をすることができるパターンの検査装置、パターンの検査方法および半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】透過光による検査を行うための第１の投光系、反射光による検査を行うための第２の投光系、の少なくとも一方と、検査対象物上のパターンの画像を撮像するための検査光学系と、前記検査対象物を載置移動させるためのステージと、前記パターンにより回折される光を強めるための回折光制御手段と、を備えたことを特徴とするパターンの検査装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】欠陥寸法の検出精度を迅速に適正化し検出精度の変動を抑制することによって半導体製造ラインのシステム安定性を向上させることができる光学式欠陥検査装置を提供する。
【解決手段】検査用照明光１１，１２をステージ３０１上の試料表面に照射し試料表面にビームスポット３を生成する照明光学系１００と、ビームスポット３からの反射光を検出する検出光学系２００とを有する光学式欠陥検査装置において、校正用試料７００上の標準粒子の位置及び大きさを予め記憶した記憶部４１０と、校正用試料７００を検査対象とした場合に、標準粒子からの検出散乱光量を記憶部４１０に記憶された対応位置の標準粒子の既知の大きさと関連付け、検出散乱光量と真の値との相関関係を作成する校正処理部４０８と、検査ウェハを検査対象とした場合に上記相関関係に基づいて検出散乱光量を欠陥寸法に変換する信号処理部４０２とを備える。 （もっと読む）

【目的】 電流電圧変換回路の異物検出のためのダイナミックレンジが広く、従って測定可能な異物による散乱光の大きさの範囲が広く広範囲のサイズの異物を検出できる異物検出装置を提供すること、及び、ダイナミックレンジの広い部分を有効に利用して高分解能の異物検出を行うことができる異物検出装置を提供すること
【構成】
異物が存在するかもしれない検査対象物を照明するための照明光学系と、検査対象物からの散乱反射光を受光するための受光部と、該受光部からの電流信号を入力され、直流成分を除去して出力するための直流成分除去部と、該直流成分除去部からの出力を増幅するための増幅部と、該増幅部からの出力から異物を検出する異物検出部とを有することを特徴とする異物検出装置 （もっと読む）

【課題】熟練者でなくとも物品の外観検査用の感度ファイルが作成できる感度ファイル自動設定装置及びそれを備えた物品の外観検査装置の提供にある。
【解決手段】物品の外観検査のため予め熟練者により設定された感度基準ファイルが記憶された記憶装置１３と、入力された物品の外観情報に基づき前記記憶装置から最も近い感度基準ファイルを選択する選択手段１２ａと、該選択手段により選択された感度基準ファイルにより検査して搬入された物品が予め設定された良品率又は不良品率になるように前記感度基準ファイルのパラメータを自動感度微調整する自動感度微調整手段１２ｃとを備えた。 （もっと読む）

【課題】高倍率での検査を精度よく行う。
【解決手段】本願発明の装置調整方法は複数の大きさの欠陥の少なくとも１つの大きさの欠陥の個数がピークを有するウェハを用いて、フォーカスを変化させて各フォーカス値での欠陥検出数を取得し、所定の欠陥の大きさについて欠陥検出数がピークとなるフォーカス値を取得し、このフォーカス値を用いて装置のフォーカスの調整を行なう方法である。 （もっと読む）

【課題】基板が熱膨張した状態で欠陥検査を行っても正確な欠陥位置を得ることができ、生産効率を向上させることができるＰＤＰ用基板の欠陥検査装置および欠陥検査方法を提供する。
【解決手段】基板上に誘電体層が形成されてなるＰＤＰ用基板２０を載せる検査台２１と、ＰＤＰ用基板２０に光を照射する照明手段（同軸落斜照明手段２９）と、この照明手段によってＰＤＰ用基板２０に光を照射したときの反射光を検出する受光手段２８と、受光手段２８で検出したデータを用いて欠陥のサイズと位置を検出する欠陥検出手段（３４、３５）と、ＰＤＰ用基板２０の温度を検出する温度検出手段（光量−基板温度変換手段３１）と、この温度検出手段で検出した温度を用いて前記位置を補正して欠陥の補正位置を得る補正位置検出手段（３２、３３）と、欠陥のサイズと補正位置を用いて欠陥の良否判定を行う欠陥良否判定手段３６とを有する。 （もっと読む）

【課題】様々な領域を有する様々な被検査対象基板上に存在する微小な粒状異物や薄膜状の異物やスクラッチ等のキズ等などの欠陥を簡単な構成で、高速で、しかも高精度に検査できるようにした欠陥検査装置およびその方法を提供することにある。
【解決手段】照射光学系２０と、検出光学系３０と、画像処理部４０とを備え、前記照射光学系において、第１又は第２の光路に導かれたビーム光束を反射して下方に向けるミラー２６０３と、該ミラーで下方に向けられたビーム光束を平面上所定の傾き方向から傾斜角で被検査対象基板１上にスリット状ビーム９０として集束させるシリンドリカルレンズ２５１及び傾斜ミラー２６０４とを備えた欠陥検査装置。 （もっと読む）

【課題】透明な大型平板状製品の欠陥を容易に検査する。
【解決手段】検査対象の平板状透明製品１５を挟んで配置される一対の偏光子１，２と、一方の偏光子１を通して検査対象１５を照明する照明光源４と、一方の偏光子１と検査対象１５との間に配置される位相子３と、照明光源４から照明光が照射され一対の偏光子の他方の偏光子２から出射する透過光を検出する検出手段８と、検査対象１５を保持すると共に検査対象１５を平行移動させる移動手段５０と、検出手段８が検出した透過光データから評価値を算出し該評価値が増大する方向に偏光子１の光学軸の角度θ１と位相子３の光学軸の角度θ２とを独立に制御する演算手段１０とを備える。 （もっと読む）

試験対象物の異なる表面箇所に対応する複数の干渉分光信号から導出可能な情報と、試験対象物の複数のモデルに対応する情報とを比較することであって、複数のモデルは、試験対象物の１つまたは複数の十分に分解できない横方向の特徴に関連する一連の特性によってパラメータ化されている、比較すること、比較に基づいて十分に分解できない表面特徴についての情報を出力することを含む干渉分光解析法を開示する。
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【課題】ＣＲＴやＰＤＰなどのディスプレイデバイスの表示領域全体における輝度値を高精度、高速に測定し、画質検査を効率よく行う。
【解決手段】ディスプレイデバイスに所定の画像を表示させた後、撮像手段を用いて前記ディスプレイデバイスを撮像することにより前記撮像手段の各画素において画像データを得るステップと、輝度計を用いて前記ディスプレイデバイスの所定領域の輝度を測定して輝度測定値を得るステップと、前記画像データを用いて得られる前記所定領域での輝度値と前記輝度測定値とに差があるとき、その差を無くすように前記撮像手段の各画素の前記画像データを補正して補正画像データを得るステップとを有する。 （もっと読む）

【課題】 光量を定量評価できる光量計測装置および光量計測方法を提供する。
【解決手段】 ＣＣＤカメラ１２の無信号状態を作り、ゼロ点調整を行う。このとき、校正用シャッター２３は光路を遮断する実線で示す位置に駆動され、迷光がＣＣＤカメラ１２に入らない状態が確保される。このときのＣＣＤカメラ１２の出力信号は光量算出部５１に送られ、校正部５６は光量算出部５１に対し、この出力信号値を基準（ゼロ点）とする校正を実行する。また、校正用レーザ光源２１から出力された光は光アッテネータ２２により減衰され、可動ミラー９およびリレーレンズ１１を介してＣＣＤカメラ１２に入射する。光アッテネータ２２の減衰量を切り替えることで、正しく値付けされた光をＣＣＤカメラ１２に入射させる。このときのＣＣＤカメラ１２の出力信号は光量算出部５１に送られ、校正部５６は各出力信号値がそれぞれの光量に正しく対応するように、光量算出部５１に対する校正を実行する。 （もっと読む）

【課題】実際の半導体プロセスおいて発生する微小欠陥に対応した欠陥検出感度を十分に保証し、特に欠陥検査装置の照明手段の光源交換後の感度調整を判断する指標として製造管理に利用する。
【解決手段】パターン８と、サイズの異なるコーン欠陥であり、シリコン基板１上にランダムに形成された擬似欠陥部７とを備えた欠陥検出感度校正標準基板を用いて、欠陥検査装置の照明部２１におけるランプ２１ａの交換後の感度調整を判断する指標として製造管理に利用する。 （もっと読む）

【課題】 検査対象物のパターンの検査における参照画像の作成をパターンの特徴に応じて適切に行うこと。
【解決手段】 検査対象物の光学画像１００を取得する光学画像取得部１０と、検査対象物の画像のパターンの特徴に基づく特徴データ２０２を用いて、光学画像１００と検査対象物の設計データ２０１とから変換パラメータ２０４を求める変換パラメータ決定部２０３と、変換パラメータ２０４と設計データ２０１を演算処理して参照画像２００を作成する参照画像作成部２０と、を備えている、参照画像作成装置。
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【課題】
暗視野照明・反射散乱光検出を備えた欠陥検査装置において、検出器の変更のみで検査装置の感度を向上させる方法を提供すること。
【解決手段】
一次元もしくは二次元の光電変換イメージセンサの前段もしくは後段に電子増倍手段を有する検出器を有し、照明光を検査対象の斜方より照明する照明手段と検査対象からの反射散乱光を斜方もしくは上方に配した検出器で受光する検出手段を有し、検査対象を搭載したステージを走査するかもしくは検出器を走査することにより光学的に画像を取得し、画像処理等により検査対象の欠陥等を検査する。 （もっと読む）

【課題】錠剤表面形状やカメラレンズの画角によって生じる画像中の錠剤領域の輝度ムラを補正可能とし、検査精度の向上を実現する。
【解決手段】良品画像を取得し（Ｓ１００）、各錠剤の輝度平均値から第１基準データを生成し（Ｓ１１０）、この第１基準データに基づいて、錠剤領域を特定するための第１レベルを生成する（Ｓ１２０）。第１レベルによる２値化処理・領域特定処理を行い（Ｓ１３０，Ｓ１４０）、錠剤領域の輝度ムラから第２基準データを生成し（Ｓ１５０）、第２基準データに基づいて、錠剤領域単位で輝度ムラを補正する第２レベルを生成する（Ｓ１６０）。検査時には、検査画像を取得し、第１レベルによる２値化処理を行い、ポケット部に収容された錠剤の領域である錠剤領域を特定し、当該特定した錠剤領域毎に、第２レベルによる２値化処理を行って、各錠剤を検査する。 （もっと読む）

【課題】 卵を所定の処理速度で連続的に搬送させても個々の卵における内部異常の有無を高精度に判定することのできる検卵方法を提供する。
【解決手段】 第１測定部２で検査対象卵Ｅに光を照射し、検出された透過光データを分析して検査対象卵Ｅの光の透過度合いを判定し、判定された検査対象卵Ｅの光の透過度合いを露光時間制御部５に出力する。そして、前記露光時間制御部５が、該検査対象卵Ｅの光の透過度合いに応じた露光時間設定信号を前記第２測定部３の光電変換素子Ｒに出力し、該光電変換素子Ｒが検査対象卵Ｅにおける内部異常の判定のための透過光を受光する際に、前記露光時間制御部５から設定された露光時間で受光する。 （もっと読む）

【課題】装置構成の低コスト化と省エネルギー化を図り、複数の撮像条件の撮像を１度の副走査で行えると共に、複数の被観察物に対して同時に表面検査が行えるようにする。
【解決手段】回転する感光体ドラム１２に対して光源１１から間欠的に光を照射し、その正反射光部である輝線１２ａからの反射光を第１の撮像素子１４が撮像して得られる情報を照射タイミング調整部１６に送り、光源１１の照射タイミングを調整する。その際、観察条件変更部１５は、感光体ドラム１２の回転振れや表面形状変換による反射方向の輝線１２ａの変動に対して、一定の検出感度を実現するために、定常的に副走査方向に光源１１や撮像素子を周期的に移動させる。 （もっと読む）

【課題】認識エラーの少ないパターン認識装置およびパターン認識方法を提供することを目的とする。
【解決手段】透明基板に形成された透明電極のパターンを画像認識により検出するパターン認識において、読取画像の輝度分布をヒストグラム２４ａに表示させ、透明電極のパターン画像に対応する度数集積部２５ａと透明基板の背景画像に対応する度数集積部２５ｂとを切り分けるための第１の設定値Ｔ１，第２の設定値Ｔ２を設定する。パターン検出に際しては、第１の設定値Ｔ１以上の輝度値を有する画素の輝度値を最大階調値２５５に変換し第２の設定値Ｔ２以下の輝度値を有する画素の輝度値を最小階調値０に変換した明るさ補正画像を対象として、パターンマッチングを行う。これにより、認識対象の読取画像中の画像ノイズや異物による影響を排除して、安定した認識を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】プリント基板外観検査の検査画像撮像時において鏡面反射発生後に生じる劣化画像の補正を行う装置を提供する。
【解決手段】ポリゴンミラー３により偏向した光ビームを被検査物８上でＳ軸方向に走査し、反射光を受光素子７にて受光するセンサ部１と、前記センサ部１から出力される１ライン走査を順次行うことで得られる短冊状画像データを記憶する画像バッファ部１７と、所定の光強度以上の反射光が前記受光素子に入射する鏡面反射が発生したことを検出すると鏡面反射発生信号を出力する鏡面検出部２２と、鏡面反射が発生した撮像部を当該Ｓ軸方向と逆方向走査して得られる画像データを記録する鏡面反射部記録部２５とを備え、鏡面反射が発生したことを示す鏡面反射発生信号が存在するときは、画像バッファ部１７からの画像データと鏡面反射部記録部２５からの画像データを合成する。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェーハ上に形成された回路パターンの欠陥検査感度を正確に調整する。
【解決手段】半導体ウェーハ上に回路パターンとともに所定寸法の作り込み欠陥からなる欠陥検査用パターンを形成し、該回路パターンの欠陥検査に先立って該欠陥検査用パターンを検出し、その検出結果に基づいて検査感度の調整を行う。 （もっと読む）