【課題】欠陥の検出、並びに欠陥タイプ及び欠陥原因の分類を行う。
【解決手段】検出された欠陥の画像に関する欠陥マスク画像を受け取るステップと、複数のランドマークマスク画像を受け取るステップ（３０４）と、第１のランドマークマスク画像を用いて、上記検出された欠陥と上記第１のソースラインとの間のソース欠陥接続性計測を算出するステップ（５００）と、第２のランドマークマスク画像を用いて、上記検出された欠陥と上記第１のゲートラインとの間のゲート欠陥接続性計測を算出するステップ（５０２）と、上記ソース欠陥接続性計測及び上記ゲート欠陥接続性計測が共に０でない場合に、上記ソース欠陥接続性計測及び上記ゲート欠陥接続性計測に基づいて、上記検出された欠陥に関する欠陥タイプを識別するステップと、を含んでいる。 （もっと読む）

【課題】
ヘッド先端部に接触センサを搭載し欠陥との接触によりこれを検出する方法によっては、欠陥検出時に欠陥を引きずりウエハ表面に傷をつける可能性がある。
【解決手段】
試料の表面に照明光を照射するプリスキャン照射工程と、散乱光を検出するプリスキャン検出工程と、該散乱光に基づき該試料の表面に存在する所定の欠陥の情報を得るプリスキャン欠陥情報収集工程と、を備えるプリスキャン欠陥検査工程と、該試料の表面と近接場ヘッドとの距離を調整して該試料の表面を照射する近接場照射工程と、近接場光応答を検出する近接場検出工程と、該近接場光に基づき所定の欠陥の情報を得る近接場欠陥情報収集工程と、を備える近接場欠陥検査工程と、該所定の欠陥の情報をマージして該試料の表面に存在する欠陥を検査するマージ工程と、を有する試料の表面の欠陥検査方法である。 （もっと読む）

【課題】例えば自走式電線点検装置を使用したビデオ映像に適した処理を行う。
【解決手段】撚られた複数の素線が表面に露出している電線に沿って撮像手段を移動させながら撮影した電線の複数の連続画像に基づいて電線の異常を検出する異常検出方法において、複数の連続画像４のうち、１枚の基準画像中の基準となる素線境界の位置情報及び素線の幅情報の入力を受け付け記憶する初期値設定処理（ステップＳ４３）と、連続画像の各々について素線の境界を検出して素線表面画像を切り出す画像切り出し処理（ステップＳ４４，Ｓ４５）と、素線表面画像中の素線の表面の明るさの変化に基づいて素線の異常を検出する異常検出処理（ステップＳ４６〜Ｓ４８）を備えている。 （もっと読む）

【課題】第１表面に対向する第２表面による反射像の影響を受けずに被評価物体の表面形状を精度よく評価することができるようにする。
【解決手段】評価装置は、評価対象である板ガラスなどの被評価物体３の表面３ａに映し出されたストライプパターン１を、ＣＣＤカメラ２によって撮像するように構成されている。ストライプパターン１は、光源の発光面に設けられている。また、被評価物体３の裏面３ｂには、屈折率が被評価物体３の屈折率に近い反射抑制層２０が、裏面３ｂに接するように配置されている。ＣＣＤカメラ２によって撮像された画像は、演算装置としてのコンピュータ４に取り込まれ、コンピュータ４によって画像解析が行われる。 （もっと読む）

【課題】検査感度を向上させることができるパターン検査装置を提供する。
【解決手段】第１の検出データと前記第１の遅延データとから解像限界以下のパターンのデータを抽出する第１の抽出部３３と、前記抽出された第１の検出データに係るデータの注目画素に対する周辺領域の出力レベルの平均値を演算し、前記抽出された第１の検出データに係るデータの出力レベルと前記平均値との差を演算する第１の出力変位演算部３４ａと、前記抽出された第１の遅延データに係るデータの注目画素に対する周辺領域の出力レベルの平均値を演算し、前記抽出された第１の遅延データに係るデータの出力レベルと前記平均値との差を演算する第２の出力変位演算部３４ｂと、前記第１及び第２の出力変位演算部による演算結果に基づいて、パターン欠陥を検出する。 （もっと読む）

【課題】表面の凹凸、輪郭線近傍の欠陥等の存在を高い精度で検出することができ、良品判定を確実に行うことができる画像処理装置、画像処理方法、及びコンピュータプログラムを提供する。
【解決手段】撮像手段で撮像された、良品に関する複数の第一の多値画像を取得し、取得した第一の多値画像の画素ごとに、撮像手段からの距離を濃淡値に変換した第一の距離画像を生成する。生成した第一の距離画像の画素ごとの濃淡値の、良品判定を行うための分布範囲を算出する。判定対象物に関する第二の多値画像を取得し、取得した第二の多値画像の画素ごとに、撮像手段からの距離を濃淡値に変換した第二の距離画像を生成する。生成した第二の距離画像の画素ごとの濃淡値が対応する分布範囲に含まれているか否かを判断する。 （もっと読む）

【課題】処理装置によって基板上に成膜する処理を含む製造プロセスによって製造される又は製造された製造品について、上記基板上に異常が生じたか否かを検査するマクロ検査方法であって、マクロレベルの異常を客観的に検出することができるものを提供すること。
【解決手段】或る処理装置による処理を受けた後の製造品を撮像して検査対象マクロ画像を取得する一方、その製造品がその処理装置による処理を受ける以前に、その処理装置による処理を受けた同種の製造品を撮像して得られたマクロ画像の中から、比較の基準となる比較基準マクロ画像を用意する（Ｓ１０１，Ｓ１０２）。検査対象マクロ画像と比較基準マクロ画像との間で、互いに類似している程度を定量的に表す類似度を算出する（Ｓ１０３）。類似度が予め決められた管理範囲から外れたかどうかを判断する（Ｓ１０４）。 （もっと読む）

【課題】１枚の対象基板の測定結果だけで，パーティクル分布が異常か否かを極めて容易に判定できるようにする。
【解決手段】パーティクル分布解析を行う対象基板について，その基板上のパーティクル座標データからパーティクル相互間距離についてのヒストグラムデータを作成するとともに，その対象基板上のパーティクルと同数のパーティクルを計算上ランダムに分布させた複数枚の仮想基板について，パーティクル相互間距離のヒストグラムデータを作成する。これら対象基板と各仮想基板のヒストグラムデータ群との差異に基づいて，対象基板のヒストグラムデータについて仮想基板のランダムなヒストグラムデータ群からの距離を数値化した判定データを算出して表示部に表示する。 （もっと読む）

【課題】塗膜で光を反射させたときの明暗の境界の鮮明さを定量的に表す評価値を用い、従来の官能評価と合致する評価を得ることができ、評価のばらつきを抑えることが可能な塗装ムラ評価値算出方法、塗装ムラ評価値算出装置、及び塗装ムラ評価方法を提供する。
【解決手段】塗膜へ光を照射し、当該光の正反射光が入射しない角度から撮像した画像を複数の領域に区分し、各領域の明度を求めて近傍の領域間の明度差に基づき、画像全体での明度の勾配に係る値を求め、塗膜の塗装ムラの評価値とする。塗膜Ａのように階調的に変化する場合と、塗膜Ｂのように急激に変化する場合とでは塗膜Ｂの方が明暗の境界が鮮明となり、塗装ムラの評価は悪くなる。算出される明度の勾配に係る値により、定量的な塗装ムラの評価が可能となる。 （もっと読む）

【課題】カラー画像に基づいて高精度に外観の良否判定ができる外観検査装置を提供する。
【解決手段】輝度平均値算出部１２は、各フィルタ画像データＤrf，Ｄgf，Ｄbfからそれぞれ輝度平均値Ａvr，Ａvg，Ａvbを求める。平均値比較部１３は、その求めた輝度平均値Ａvr，Ａvg，Ａvbから、ルックアップテーブルＬＴを使って、異物と背景色とのコントラストが最も大きいフィルタ画像データを選択する。そして、異物判定処理部１４は、その選択した異物と背景色とのコントラストが最も大きいフィルタ画像データに基づいて画像処理を行う。従って、各フィルタ画像データＤrf，Ｄgf．Ｄbfの中から、異物と背景色とのコントラストが最も大きいフィルタ画像データを使って画像処理を行い異物と背景色との判断を行うことから、閾値の設定も容易でかつ高精度の異物検出が可能となる。 （もっと読む）

【目的】経時的な、光量変化やセンサの各受光素子自体の感度変化に起因するセンサの出力レベル変化を補正する。
【構成】センサ出力データの補正装置は次回路を備える。オフセット回路は試料を照明して、透過或いは反射して得られる光を受光して画像データを出力するセンサからの出力データを入力し、オフセット補正を行う。ゲイン補正回路はゲイン補正係数を入力し、入力されたゲイン補正係数でゲイン補正を行う。平均値算出回路はオフセット補正とゲイン補正が行われたセンサの出力データのうち、透過の場合はパターンから光が透過する位置で、反射の場合はパターンから光が反射する位置で取得したセンサの出力データを用いて、各画素値の平均値を演算する。ゲイン補正係数算出回路は設定された基準値からの平均値の変化率を用いてゲイン補正に用いるゲイン補正係数を補正し前記ゲイン補正回路にフィードバックする。 （もっと読む）

【課題】ガラス板上に形成された電極パターンの形状欠陥部を少ない測定回数で精度よく検出できる検査装置、検査方法およびこれらを用いた画像表示用パネルの製造方法を提供することを目的としている。
【解決手段】電極パターンを有するガラス板（被検査物１０６）の裏面に光を照射する第１投光装置１０１と、ガラス板の表面に斜め方向から光を照射する第２投光装置１０９と、ガラス板の表面を撮像する撮像装置１０２と、ガラス板の表面を撮像装置１０２に結像させるレンズ系１０３と、撮像装置１０２で撮像したガラス板の表面の画像を画像処理して、電極パターンの形状欠陥部を検出する処理装置とを備え、第１、第２投光装置１０１、１０９による照明条件が、ガラス板の内部に形成された内部気泡の画像、ガラス板の画像、電極パターンの画像の順に輝度が高くなるように設定されている。 （もっと読む）

【課題】ＲＧＢ画素部のフォトレジストの膜厚ムラや素ガラス部のＢＭパターン、ＲＧＢパターン、ＰＳ／ＶＡパターンやマークや品種番号のパターン欠けや高さ不良の発生を防止するムラ検査装置を提供する。
【解決手段】カラー液晶表示装置に用いるカラーフィルタ基板を製造する工程において、ガラス基板に塗布されたフォトレジストの膜厚ムラを検査する装置であって、ガラス基板を搬送する搬送手段と、前記搬送されるガラス基板を照明する照明手段と、前記照明されたガラス基板を撮像する手段と、撮像された画像を処理する画像処理手段と、前記画像処理された画像に基づいて、ガラス基板の着色画素部のフォトレジストの膜厚ムラを判定する判定処理手段と、着色画素部外の素ガラス部のフォトレジストの膜厚ムラを判定する判定処理手段と、を備えたことを特徴とするカラーフィルタ基板のムラ検査装置。 （もっと読む）

【課題】ガラス板上に形成された電極パターンの形状欠陥部を少ない測定回数で精度よく検出できる検査装置、検査方法およびこれらを用いた画像表示用パネルの製造方法を提供することを目的としている。
【解決手段】電極パターンを有するガラス板（被検査物１０６）の表面に光を照射する投光装置１０１と、この電極パターンを撮像する撮像装置１０２と、電極パターンを撮像装置１０２に結像させるレンズ系１０３と、撮像装置１０２で撮像した電極パターンの画像と予め登録した電極パターンの原画像とを比較して電極パターンの形状欠陥部を検出する処理装置とを備え、電極パターンで反射した反射光の輝度と、ガラス板で反射した反射光の輝度との差が所定以上になるように投光装置の光量が設定されている。 （もっと読む）

【課題】照明条件の制約を受けず、特殊な装置が必要なく、フラッシュによる強調表現を避けつつ、対象物の表面の特徴を得る。
【解決手段】通常光でカメラ（図示せず）により対象物の表面を撮影する通常光撮影手段１００と、通常光でない特殊光でカメラ（図示せず）により表面を撮影する特殊光撮影手段１１０と、通常光撮影手段１００で撮影された画像と特殊光撮影手段１１０で撮影された画像とを蓄積するデータ蓄積手段１２０と、各画像の輝度の分散を求め、分散により輝度を正規化し、正規化後の各画像の相関を求める画像相関処理手段１３０と、画像相関処理手段で得られた差分画像を表示手段１５０に出力する表面特徴検出手段１４０とを備える。 （もっと読む）

【課題】ユーザの意図を反映可能な分類条件設定機能を有する二分木構造を用いて欠陥を分類する装置の提供。
【解決手段】欠陥検査装置から取得される検出信号を基に抽出される欠陥の特徴量に基づいて二分木構造の分類器を用いて欠陥を分類する欠陥分類方法であって、予め欠陥クラスと対応付けられた特徴量データとの教示に基づいて、二分木構造の分岐点毎に、分岐の両側のグループにそれぞれ属する欠陥クラス、分岐に使用する特徴量および判別基準からなる分岐条件を設定することにより前記二分木構造の分類器を構築する分類器構築過程を有し、該分類器構築過程において、さらに予め欠陥クラス毎並びに全体および最悪のピュリティおよびアキュラシーの目標分類性能について優先順位をつけて指定しておく優先順位指定過程と、前記設定した分岐条件による前記指定した目標分類性能を満足するか否かを項目毎に評価して該項目毎の評価結果を表示する。 （もっと読む）

【課題】
試料全面を短時間で走査し，試料に熱ダメージを与えることなく微小な欠陥を検出することができるようにする。
【解決手段】
光源から発射されたパルスレーザをパルス分割し、パルス分割したパルスレーザを回転しながら一方向に移動している試料の表面に照射し、パルス分割されたパルスレーザが照射された試料からの反射光を検出し、反射光を検出した信号を処理して試料上の欠陥を検出し、検出した欠陥に関する情報を表示画面に出力する欠陥検査方法において、パルス分割したパルスレーザの光強度の重心位置をモニタし、モニタしたパルス分割されたパルスレーザの光強度の重心位置を調整するようにした。 （もっと読む）

【課題】検出または検査されるべき物体が位置する可能性のある二次元視野のデジタル画像を取得し、画像の分析と物体の状態の決定と記録を行う、物体の自動光電子検出および検査のための方法および装置を提供する。
【解決手段】決定は、物体が視野に位置する複数の画像から得られる証拠に基づき、一般に複数の視点に対応して行われる。物体が視野に位置する証拠は、検出のために使われ、物体が適切な検査基準を満たす証拠は検査のために使われる。複数の視点が継続動作中の物体に対し得られるように高速で画像を取得し解析するための方法および装置が開示される。 （もっと読む）

【課題】帯状材料に発生する周期性欠陥の有害度を適正に判定することができる帯状材料の周期性欠陥検査方法および装置を提供する。
【解決手段】搬送中の帯状材料の表面欠陥を検出し、検出した表面欠陥のうち、搬送方向に周期性を有する一群の欠陥を周期性欠陥として抽出し、抽出したそれぞれの周期性欠陥について少なくとも欠陥の発生する幅方向位置と欠陥サイズと搬送方向の欠陥発生ピッチとを含む特徴量を算出し、前記帯状材料のコイル毎にそれぞれの周期性欠陥が発生する搬送方向の起点位置と消滅する終点位置との差である発生長さを算出し、連続する複数のコイル内で抽出された前記周期性欠陥のうち、少なくとも前記幅方向発生位置及び欠陥発生ピッチが略同じものを一つの周期性欠陥と判定し、各コイル内の欠陥発生長さの総和である欠陥発生累積長さを求め、前記特徴量と前記欠陥発生累積長さとに基づいて前記周期性欠陥の有害度を判定する帯状材料の周期性欠陥検査方法である。 （もっと読む）

【課題】輪郭線近傍の欠陥や色の相違についても、適切な特徴量を選択することにより、高い精度で存在を検出することができ、良品判定を確実に行うことができる画像処理装置、画像処理方法、及びコンピュータプログラムを提供する。
【解決手段】撮像手段で撮像された、良品に関する複数の第一の多値画像を取得し、取得した第一の多値画像の画素ごとに、色成分に関する画素値、及び異なる二方向におけるエッジ強度を少なくとも含む複数の特徴量を抽出する。抽出した複数の特徴量のうち、いずれか１つの特徴量の選択を受け付け、選択を受け付けた特徴量を抽出して、良品判定を行うための分布範囲を算出する。判定対象物に関する第二の多値画像を取得し、取得した第二の多値画像の画素ごとに、選択を受け付けた特徴量を抽出し、抽出した特徴量に対応する分布範囲に含まれているか否かを判断する。 （もっと読む）