【課題】ＴＤＩセンサ等のセンサのラインレート以上のスキャン速度で検査した場合、ＴＤＩセンサのラインレートとスキャン速度が非同期となり画像がボケてしまうため、ＴＤＩセンサのラインレート以上のスキャン速度では使えないという課題についての配慮がされていなかった。
【解決手段】ＴＤＩセンサのラインレートとステージスキャン速度を非同期で制御し、且つＴＤＩセンサの電荷蓄積による画像加算ずれの課題を解決するため、被検査物に細線照明を照射し、ＴＤＩセンサの任意の画素ラインのみに被検査物の散乱光を受光させる。また、ＴＤＩセンサのラインレートとステージスキャン速度の速度比によって、検出画素サイズの縦横比を制御する。 （もっと読む）

【課題】不規則なパターンが存在する場合でも、そのパターンの影響を受けずに欠陥を検出することができる欠陥検出方法および欠陥検出装置を提供することを目的とする。
【解決手段】欠陥検出方法は、画像入力工程ＳＴ１と、検査データ抽出工程ＳＴ２と、比較データ抽出工程ＳＴ３と、背景パターン方向算出工程ＳＴ４と、欠陥検出工程ＳＴ５とを備える。背景パターン方向算出工程ＳＴ４は、検査データおよび各比較データの比較を、各比較データを前記走査方向に移動しながら行い、その比較結果に基づいて撮像画像の背景パターン方向を算出する。また、欠陥検出工程ＳＴ５は、検査データおよび各比較データにおいて前記背景パターン方向に位置するデータの差分を求め、その差分値に基づいて欠陥を検出する。 （もっと読む）

【課題】検査対象物の不良品が誤って良品と判定される可能性を低減可能な外観検査装置を提供する。
【解決手段】外観検査装置（１）は、検査対象物を撮影した検査画像を取得する撮像部（３）と、検査画像から、検査対象物に関する特徴量を抽出する特徴量抽出部（５１）と、特徴量をサポートベクターマシンとして構成される識別器に入力することにより、検査対象物の良否を判定する良否判定部（５４）とを有する。そしてその識別器が不良品と判定する検査対象物から抽出される特徴量が含まれる領域である不良品特徴量領域が、サポートベクターマシンの学習により決定された不良品特徴量領域よりも広くなるように、不良品特徴量領域の境界が修正されている。 （もっと読む）

【課題】 たばこ加工産業の被覆紙テープの光学的検査方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、たばこ加工産業の被覆紙テープ２１、５０の光学的検査方法であって、被覆紙テープの内側または外側が難燃材料を有するゾーン５１、６１、６１（「ＬＩＰ」ゾーン）を備え、被覆紙テープ２１、５０の上のまたはその中のＬＩＰゾーン５１、６１、６１’の存在および／または別の特性が点検される方法に関する。本発明による方法は、被覆紙テープ２１、５０の光学的検査が、被覆紙テープ２１、５０で被覆されたたばこ加工産業のたばこ連続体２８で、または被覆紙テープ２１、５０で被覆されたたばこ加工産業の棒状物品３２、５６で行われることを特徴とする。 （もっと読む）

フーリエフィルタリングおよびイメージ比較を用いるマスク検査システムは、第１ディテクタと、動的フーリエフィルタと、コントローラと、第２ディテクタとを含んでよい。第１ディテクタは、検査システムのフーリエ面に配置され、かつマスクの領域によって生成されるパターン付き光の第１部分を検出することができる。動的フーリエフィルタは、パターン付き光の検出された第１部分に基づいてコントローラによって制御されてよい。第２ディテクタは、マスクの一部によって生成され、かつ動的フーリエフィルタを透過したパターン付き光の第２部分を検出することができる。さらに、マスク検査システムは、パターン付き光を別のパターン付き光と比較するためにデータ解析デバイスを含むことができる。結果的に、マスク検査システムは、マスクの領域上のあらゆる可能な欠陥をより正確にかつより高い解像度で検出することができる。 （もっと読む）

【課題】単結晶の欠陥の種類の判別を機械的に高い効率で行なうことができる欠陥密度測定方法を提供する。
【解決手段】単結晶の欠陥密度を欠陥の種類毎に測定する方法であって、下記の工程：
単結晶の観察面をエッチングして個々の欠陥にエッチピットを形成する工程、
同一観察視野中の複数のエッチピットについて一括して、個々のエッチピットの最大深さ、平均深さ、深さ曲率を測定する工程、および
個々のエッチピットの最大深さ、平均深さ、深さ曲率の基準値に対する大小関係により各エッチピットの種類を判定する工程を含む欠陥密度測定方法。 （もっと読む）

【課題】対象物の輪郭線の位置を安定して検出できるようにする。
【解決手段】ＣＰＵ１０は、カラーカメラ２の撮像により生成され、画像メモリ１２，１３，１４に格納されたＲ，Ｇ，Ｂの画像データにより構成される処理対象画像が２種類の色彩に色分けされていることを前提として、この処理対象画像のｘ軸またはｙ軸に沿う方向に長い矩形状の計測対象領域を設定する。そして、幅狭の矩形状の小領域を短い方の辺を走査方向に合わせて計測対象領域内に設定し、この小領域により計測対象領域内を所定の間隔で走査しつつ各走査位置における小領域内の平均色を求める。さらに、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色成分を軸とする色空間において、各走査位置で得た平均色を順に追跡し、追跡処理の起点からの距離が所定のしきい値を初めて超えた点を抽出し、この点に対応する平均色を得たときの小領域の位置を、２種類の色彩の境界位置として判別する。 （もっと読む）

【課題】 可視画像だけではとらえることの難しいひび割れなどの欠陥を検査する装置を提供する。
【解決手段】 可視画像撮像部２と赤外画像撮像部１０は、ともに同一の対象領域を撮像する。赤外画像欠陥部位特定手段１２は、当該赤外画像のいずれか１枚に基づいて、画像の濃度差によってパターン解析を行い、欠陥部位を特定する。赤外画画像検索領域設定手段１４は、赤外画像において、前記欠陥部位を含む検索領域を設定する。可視画像検索領域設定手段４は、赤外画像に設定された検索領域に対応させて、一連の可視画像に検索領域を設定する。可視画像高解像度処理手段５は、上記一連の可視画像に設定された検索領域について、高解像度化を行う。可視画像欠陥部位特定手段６は、高解像度化された一連の可視画像の検索領域に基づいて、画像の濃度差によってパターン解析を行い、欠陥部位を特定する。可視画像欠陥寸法特定手段８は、一連の可視画像の検索領域に基づいて、前記欠陥部位の寸法を特定する。 （もっと読む）

【課題】複写機、ファクシミリ、プリンタ、印刷機等の画像形成装置等に用いられる、物体表面の光沢ムラを比較的簡易な手法で定量的に測定して評価する光沢ムラ評価装置、光沢ムラ評価方法、かかる光沢ムラ評価装置を有するかかる画像形成装置、かかる光沢ムラ評価方法を実行するプログラムを格納した記録媒体の提供。
【解決手段】撮像された被評価サンプルＳＡの正反射光を含む画像の画素の光輝感成分と色彩成分とを算出する第１の算出手段８０と、光輝感成分の平均値と色彩成分の平均値とを算出する第２の算出手段８０と、光輝感成分の平均値からの偏差の空間周波数特性に、人の視覚特性を考慮した重み付け処理を行い積分して所定値を算出する第３の算出手段８０と、所定値に色彩成分の平均値を用いた色味の度合いで重み付け処理を行った光沢ムラ評価値を算出する第４の算出手段８０とを用いる。 （もっと読む）

【課題】検査対象物について検査装置を用いて得た検査計量値を基に検査対象物の良否を判定する検査装置において、検査を行っている過程で初期に設定された判定制度が維持されているかどうかを判定する判定処理の精度判定方法及び判定処理精度判定装置を提案する。
【解決手段】検査対象物について検査装置を用いて得た検査計量値を基に検査対象物の良否を判定する検査装置において、前記判定処理の精度を判定する方法であって、複数の良品について、当該検査装置を用いて得た複数の良品計量値が正規分布で表されると仮定して、良品平均値Ｍ_Ｇと、良品標準偏差σ_Ｇとを求め、複数の検査対象物について、当該検査装置を用いて得た複数の検査計量値が正規分布で表されると仮定して、検査平均値Ｍ_Ｓと、検査標準偏差σ_Ｓとを求め、前記良品平均値Ｍ_Ｇを中心として予め定められている範囲に設定されている良品平均範囲と、前記検査平均値Ｍ_Ｓとを比較する。 （もっと読む）

【課題】画像処理を行わずに検査を行うことができ、検査速度を向上することのできる長尺物の外観検査方法及びその装置を提供する。
【解決手段】撮像データ幅方向の複数の所定位置ごとに照射線Ｌの高さ方向位置データを求めることにより成る照射線位置データ群を各撮像データごとに作成し、撮像データ幅方向に隣接する２つずつの高さ方向位置データによって複数の高さ方向位置データ平均値を求め、撮像データ幅方向に隣接する２つの高さ方向位置データ平均値の一方から他方を引いた値を撮像データ幅方向の複数個所で求め、前記引いた値が所定の基準値を超え、且つ、超えた量が最大である撮像データ幅方向の位置を求め、該位置が撮像順に所定個数連続するか否かを判定することから、ホースＨの外周面に長手方向に延びる凹状の傷Ｋや凸状部が形成されていることを検出可能である。 （もっと読む）

【課題】フィルムロールの状態のままフィルムの平面性を非接触で且つ瞬時に検査できるフィルムの平面性検査装置および当該検査装置を使用した平面性検査方法を提供する。
【解決手段】平面性検査装置は、フィルムロール８の外周部を走査する走査装置１と、当該走査装置から得られた信号を処理する演算処理装置５とから成る。走査装置１は、レーザー光を照射する発光部２と、遮られなかったレーザー光を受光する受光部３と、受光した光量Ｆｚに応じて数値化信号を出力する信号変換素子４とを含み、かつ、フィルムロール８に対してその軸線と平行に且つ幅方向に沿って相対的に移動可能に構成される。演算処理装置５は、フィルムロール８の外径値およびそれらの平均値を演算し、各外径値と平均値との差を変位量として演算し、正の最大変位量を抽出する。平面性検査方法においては、正の最大変位量と予め設定された基準値とを比較してフィルムの良否を判別する。 （もっと読む）

【課題】太陽電池ウェハの表面全体の画像から，前記ソーマークの像のみを的確に抽出することにより，太陽電池ウェハの表面全体の前記ソーマークの形成状態を精緻な空間分解能で高速かつ定量的に検査できるようにすること。
【解決手段】太陽電池ウェハの表面の撮像により得られた入力画像データに対しソーマークの像の長手方向に直交する方向におけるエッジ強調処理を施してエッジ強調画像データを生成し（Ｓ２），そのエッジ強調画像データに対しソーマークの像の長手方向に平行な方向におけるハイパスフィルタリングを施してハイパス画像データを生成し（Ｓ３），エッジ強調画像データからハイパス強調画像データを差し引くことによりソーマークの像が抽出された検査用画像データを生成し（Ｓ４），検査用画像データに基づいてソーマークの形成状態の評価値を算出する（Ｓ５）。 （もっと読む）

【目的】一時的に発生する測定画像の偽像を排除できるパターン検査を行うこと。
【構成】試料のパターンを測定して測定画像を生成する測定画像生成部と、測定画像と基準画像とを比較する比較部と、を備え、測定画像生成部は、２画素以上で構成されるラインセンサを２段以上用いた時間遅延積分センサを２個以上つなげた受光装置を有し、各時間遅延積分センサの画素について、異常な画素値を除いた画素値の平均値を測定画像とする、又は、基準値を超える画素値を異常な画素値として除いた画素値の平均値を測定画像とする、又は、画素値の平均値と所定値の和を基準値とし、基準値を超える画素値を異常な画素値として除いた画素値の平均値を測定画像とする、又は、画素値と、全ての時間遅延積分センサの画素値の平均値との差の絶対値が基準値を超える画素値を異常な画素値として除いた画素値の平均値を測定画像とする、試料検査装置。 （もっと読む）

【課題】煩雑なしきい値設定を行うことなく、ノイズや検出する必要のない欠陥に埋没した、ユーザが所望する欠陥を高感度、かつ高速に検出することができる欠陥検査装置及びその方法を提供することにある。
【解決手段】本発明は、被検査対象物を所定の光学条件で照射する照明光学系と、被検査対象物からの散乱光を所定の検出条件で検出して画像データを取得する検出光学系とを備えた欠陥検査装置であって、さらに、入力される被検査対象物の設計データから特徴を算出し、前記検出光学系で取得される光学条件若しくは画像データ取得条件が異なる複数の画像データから特徴量を算出する特徴算出部と、該算出された設計データからの特徴と複数の画像データからの特徴量とを統合処理して欠陥候補を検出する欠陥候補検出部と、該検出された欠陥候補から前記特徴算出部で算出される設計データの特徴を基に致命性の高い欠陥を抽出する欠陥抽出部とを有する画像処理部を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】属人的な知識や経験に頼らなくても良好な検査精度を容易に実現することができる被検査体の検査装置を提供する。
【解決手段】検査装置は、被検査体１０００を撮像する撮像部と、被検査体画像１００４の各画素に複数の属性を対応づけて一般化画素１０１２を生成する画像統合部と、一般化画素１０１２に基づいて代表画素１０２１を設定する代表画素設定部と、複数の属性を次元とする空間１０１６における一般化画素１０１２と代表画素１０２１との距離に応じて決定された輝度を有する画素からなる新たな検査画像１０２８を作成する輝度演算部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】光学式撮像装置によって被写界深度を越える長さを持つ撮像対象物を、ピント位置を変えて順に複数回撮像し、各画素を単位として、得られた複数の画像の中から最もピントが合った画像を抽出する際に、コントラストがある境界部を適切に処理し、真にピントが合った画像を見出すこととなる技術を提供する。
【解決手段】棒状回転工具の刃先を順に撮像して得られた画像を基に、各画素位置の画素あるいは当該画素に加えて当該画素に隣接する画素の濃度を順に記録し、記録した画素の濃度の変化について、ラプラシアンフィルタにかけること、記録した画素の濃度の変化について平均化フィルタにかけること、さらに順に比較を行なうことを含む所定の処理を行って定まる画像が当該画素位置においてピントが合っていると判断する棒状回転工具の深度形状合成方法。 （もっと読む）

【課題】半導体チップの外観検査において、電極部やメサエッチ部の製造上の大きさのばらつきや位置ずれに拘わらず、検査精度の高い半導体チップの外観検査方法を提供する。
【解決手段】半導体ウエハ２２全体よりは十分に小さく且つその所定のＬＥＤチップ１０を含む局所領域内の複数のＮs 個のＬＥＤチップ１０の撮像パターンを、予め記憶する周辺パターン記憶工程( Ｓ５）と、半導体ウエハ２２内の複数のＬＥＤチップ１０のうちの所定のＬＥＤチップ１０の被検査面を選択するための検査パターンを、上記局所領域内の複数のＮs 個のＬＥＤチップ１０の撮像パターンに基づいて決定する検査パターン決定工程( Ｓ３、Ｓ４）とを、含む。検査パターンは、検査すべき所定のＬＥＤチップ１０が有する局所的な位置ずれや大きさのばらつきが反映されたものとなり、外観検査精度が高められる。 （もっと読む）

【課題】 ウェーハを検査するための方法。
【解決手段】 この方法は、基準画像を作り出すためのトレーニングプロセスを備える。トレーニングプロセスは、未知の品質の第１のウェーハの複数の画像を収集するステップを含み、第１のウェーハの複数の画像の各々が所定のコントラスト照明で収集され、および第１のウェーハの複数の画像の各々が複数の画素を備える。トレーニングプロセスはさらに、第１のウェーハの複数の画像の各々の複数の画素の各々に対する複数の基準強度を決定するステップと、第１のウェーハの複数の画像の各々の複数の画素の各々の複数の基準強度に対する複数の統計的パラメータを算出するステップと、算出された複数の統計的パラメータに基づいて第１のウェーハの複数の画像から複数の基準画像を選ぶステップとを含む。ウェーハを検査するためのこの方法は、第２のウェーハの画像を収集するステップであって、第２のウェーハが未知の品質であるステップと、複数の基準画像から第１の基準画像を選ぶステップと、第２のウェーハ上の欠陥の存在およびタイプの少なくとも１つをそれによって決定するために第１の基準画像と第２のウェーハの収集画像を比較するステップとを更に含む。
（もっと読む）

【課題】 ウェーハを検査するための方法およびシステム。
【解決手段】 このシステムは、光検査ヘッド、ウェーハテーブル、ウェーハスタック、ＸＹテーブルおよび振動絶縁装置を含む。光検査ヘッドは、複数の照明器、画像収集装置、対物レンズおよび他の光学部品を含む。このシステム及び方法は、明視野画像、暗視野画像、３Ｄ形状画像および検査画像の収集を可能にする。収集画像は、画像信号に変換され、かつ処理のためにプログラマブルコントローラに伝送される。ウェーハが動いている間、検査が実行される。収集画像は、ウェーハ上の欠陥を検出するための基準画像と比較される。基準画像を作り出すための例示的な基準作成プロセスおよび例示的な画像検査プロセスもまた、本発明によって提供される。基準画像作成プロセスは、自動プロセスである。 （もっと読む）