【課題】四極電磁石の調整時間短縮を図ることのできる調整方法を提供する。
【解決手段】ビームライン上にビーム整形板２およびビームモニタ４を設置する。イオンビームを照射し、ビーム整形孔に通過させ、格子状に整形する。四極電磁石が励磁されていない場合、ビームモニタ４により、格子状配列形状のビーム形状が計測される。Ｘ方向においてイオンビームが集束するように、磁石３Ａを励磁する。励磁電流が増すごとに、格子状配列のＸ方向間隔は狭くなり、Ｘ方向配列の５つの格子点は一つの略長円となり、Ｙ方向に1つの点列（1×５）が形成される。点列形成を確認すると、Ｘ方向長さを計測する。励磁電流が増すごとに、Ｘ方向長さは短くなる。励磁電流を漸増し、各点（５点）の平均が基準サイズ以下になると、適切にビーム集束されたと判断し、端末７を介して、Ｘ方向集束調整完了指令を行ない、そのときの励磁電流値を記憶する。 （もっと読む）

【課題】電流値が変化しても脈動電流比を許容範囲内に収めることができる電磁石用直流電源装置を得ることを目的とする。
【解決手段】電源１からの電流をスイッチング駆動して出力するチョッパ回路２と、チョッパ回路の出力を平滑化するパッシブフィルタ３と、電流指令値ＶＳに出力電流が合致するように、スイッチング駆動の駆動を制御する電流制御回路５と、を備え、電流制御回路５は、出力電流Ｓ４２の電流指令値ＶＳからの偏差成分Ｓ５６を算出する偏差成分算出部（５４〜５６）と、電圧値Ｓ４１から脈動成分Ｓ５３を算出する脈動成分算出部（５１〜５３）と、脈動成分Ｓ５３と偏差成分Ｓ５６とに基づいて、スイッチング駆動を制御するゲート信号ＳＧを生成する駆動制御信号生成部（５７〜５９）と、を有し、脈動成分Ｓ５３は、電圧値Ｓ４１のうちの交流成分Ｓ５１を電流値Ｓ４２で除した値に基づいて算出する。 （もっと読む）

【課題】シンクロトロンの小型化に好適な機器の配置とそれを用いたシンクロトロン、及び当該シンクロトロンを用いた粒子線治療システムを提供する。
【解決手段】上記課題を解決する本発明の特徴は、加速又は減速した荷電粒子ビームを取り出すための第１出射用偏向器２０８及び第２出射用偏向器２０９を備え、第１出射用偏向器２０８と第２出射用偏向器２０９の間に複数の偏向電磁石２０２と第１の四極電磁石２０４を有し、第１の四極電磁石２０４は複数のいずれかの偏向電磁石２０２の間に設置され、第１出射用偏向器よりもビーム進行方向の上流側に配置される第２の四極電磁石と、第２出射用偏向器よりもビーム進行方向の下流側に配置される第３の四極電磁石を備えることにある。 （もっと読む）

【課題】 不要なイオンの放出を抑制することができ、不要なイオンによる下流の線形加速器側の汚染を低減する。
【解決手段】 レーザ光の照射によりイオンを発生させるレーザ・イオン源であって、真空排気される容器１０と、容器１０内に配置され、レーザ光の照射により多価イオンを発生するターゲット２１が収容された照射箱２０と、照射箱２０からイオンを静電的に引き出し、イオンビームとして容器１０の外部に導くイオンビーム引き出し部１２と、照射箱２０から引き出されたイオンビームを静電力により収束する静電レンズ５１と、静電レンズ５１の下流側の位置に設けられ、該位置で収束されたイオンビームを通過させるアパーチャ５２とを備えた。 （もっと読む）

【課題】作業効率を高めることができる中性子線照射システムを提供する。
【解決手段】中性子線照射システム１は、荷電粒子線Ｐが照射されて中性子線Ｎを発生させるターゲットＴと、減速体１０８を少なくとも含みターゲットＴを収容する収容部１０２と、被照射体へ照射する中性子線Ｎを収束させる収束部１０４と、被照射体を載置する治療台３２と、を備えている。また、中性子線照射システム１は、ターゲットＴ、収容部１０２及び収束部１０４に対して治療台３２を接近及び離間するように相対移動させる相対移動手段として、レール１１４、摺動部１１６及び駆動部１１７を備えている。よって、例えば中性子線Ｎの照射直後においても、放射化したターゲットＴ、収容部１０２及び収束部１０４に対して治療台３２を離間させることで、放射化の悪影響を受けずに治療台３２に医師等が近寄ることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】シンクロトロンの小型化が可能なビーム取り出し方法、ならびにそれを用いた小型粒子線治療システムを提供する。
【解決手段】上記課題を解決する本発明の特徴は、第１番目の出射用偏向器と第２番目の出射用偏向器を出射ビームの変位符号が同じ領域に設置し、第２番目の出射用偏向器の偏向方向を第１番目の出射用偏向器と逆方向とする。第２番目の出射用偏向器で偏向された出射ビームは周回軌道を交差し、変位の符号は逆転する。出射ビームは第１番目の出射用偏向器出口での軌道変位とは逆符号側で、十分なセパレーションがとれる位置に設置した第３目の出射用偏向器によってシンクロトロンから取り出す。 （もっと読む）

【課題】機器構成が単純であり、かつ多極電磁石の励磁量を変更する際の閉軌道誤差の発生によるチューンの変化を簡単な手順で抑制することが可能なシンクロトロンを提供することを課題とする。
【解決手段】荷電粒子ビームを加速して出射するシンクロトロンであって、シンクロトロン中を周回する荷電粒子ビームの位置を測定するビーム位置モニタと、シンクロトロン中を周回する荷電粒子ビームの軌道を補正する軌道補正手段と、シンクロトロンの周回軌道上に四極磁場以上の多極磁場を発生させる多極電磁石とを備え、さらにビーム位置モニタと多極電磁石が入れ子状に設置されていることによって、上記課題を解決することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、加速軌道に導入されるビームの広がりを抑えることができる加速器及びサイクロトロンを提供することを目的とする。
【解決手段】本発明のサイクロトロンは、イオン源から入射されるビームを通過させ加速軌道Ｔに導入するスパイラルインフレクタ２１を備え、スパイラルインフレクタ２１は、通過するビームＢを収束させるビーム収束手段として、ビームの通過軌道Ｓに直交する断面においてギャップを不均一とした正電極２３及び負電極２７を有する。 （もっと読む）

【課題】低コストで、線量の揺らぎが防止され設定量の線量が得られるビーム制御装置、粒子線照射装置、およびこれらの制御方法を提供する。
【解決手段】本発明のビーム制御装置は、シンクロトロン２を備え、シンクロトロン２からのベータトロン振動の共鳴を用いた粒子線ビームの取り出しを行うためのビーム制御装置１であって、シンクロトロン２内の粒子線ビームのセパラトリクス生成のための共鳴の次数に対応した多極電磁石６と、多極電磁石６の磁場強度を、生成したセパラトリクス面積を所望の大きさに保ちながら、高く制御することによって、前記粒子線ビームのビームスピルリップルを所定量以下に低減するビーム制御手段とを備えている。 （もっと読む）

【課題】スキャニング照射等で必要な粒子線の出射電流を簡便な制御機器で安定に変更可能な荷電粒子ビーム照射システムを提供すること。
【解決手段】入射された荷電粒子を偏向電磁石により偏向させて周回軌道に沿って周回させ荷電粒子ビームを形成し、荷電粒子を高周波加速空洞に印加する高周波電圧により加速し、収束用電磁石により荷電粒子ビームを収束させ、六極電磁石により周回軌道に共鳴を励起し、出射装置により荷電粒子を周回軌道から取り出す円形加速器から出射される荷電粒子ビームを照射対象に照射する荷電粒子ビーム照射システムにおいて、高周波加速空洞に印加する高周波電圧のパラメータを制御することにより、周回軌道から取り出す荷電粒子の出射電流を変更するようにした。 （もっと読む）

【課題】ビーム取り出しの高速ＯＮ／ＯＦＦが可能な環状加速器、ならびにそれを用いた、柔軟な照射に対応可能な粒子線治療システムを提供する。
【解決手段】上記課題を解決する本発明の特徴は、周回する荷電粒子ビームを加速・減速する環状加速器２００と、環状加速器を制御する加速器制御装置５０１とを備え、環状加速器２００は、荷電粒子ビームのビーム軌道上に、少なくとも１台の六極電磁場成分発生装置２６と、この六極電磁場成分発生装置２６の設置位置での荷電粒子ビームのビーム軌道を変位させる少なくとも１台の軌道偏向電磁石とを有し、加速器制御装置５００は、六極磁場成分発生装置２６を励磁して環状加速器２００から荷電粒子ビームを取り出している期間に、軌道偏向電磁石の励磁を開始するように制御することにある。 （もっと読む）

【課題】スポットスキャニング照射で治療精度を容易に向上できる粒子線治療システムを提供する。
【解決手段】粒子線治療システム１００は、シンクロトロン２００とビーム輸送系３００と照射装置５００から構成される。制御装置６００は、照射装置５００に荷電粒子ビームを供給する際には出射装置２６に印加する高周波電力をＯＮし、荷電粒子ビームの供給を遮断する際には出射装置２６に印加する高周波電力をＯＦＦした後に、シンクロトロン２００に設置した電磁石の励磁量を変化させて安定限界を広げ荷電粒子ビームの出射を停止し、次に荷電粒子ビームの供給を再開する前に安定限界を狭め荷電粒子ビームの一部を出射し、該荷電粒子ビームをビーム輸送系３００に設置した電磁石で遮断する。 （もっと読む）

【課題】磁極ギャップを所定の精度で管理でき、磁場精度の高い偏向電磁石を提供することを目的とする。
【解決手段】 荷電粒子ビームの周回軌道が形成される軌道面P_Oを挟むように所定の間隙M_Gをおいて対向するように配置された対となる磁極１１を備え、対となる磁極１１は、それぞれ周方向Ｓにおける端部１１ｅが着脱自在となっており、端部１１ｅは、それぞれ周方向Ｓ外側からのボルト締めにより、磁極の本体１１ｂに固定され、磁極の本体１１ｂには、それぞれ端部１１ｅを支えるための軌道面P_Oに平行で軌道面P_Oに対向する第１の受面P_bHと、軌道面P_Oと周方向Ｓに垂直で周方向Ｓの外側を向く第２の受面P_bVとが設けられ、第２の受面P_bVに設けられたボルト１３のねじ穴H_bB、および端部１１ｅに設けられたボルトの貫通穴H_eBは、当該ボルトのねじ先１３Ｐよりも頭１３Ｈの方が軌道面P_Oに近づくように、軌道面P_Oに対して傾いている。 （もっと読む）

【課題】簡単な制御で高周波の非正弦波の加速電圧を加速空洞に印加しビーム損失を改善する高周波加速装置を得る。
【解決手段】高周波の正弦波信号を出力する第１加速電圧信号生成装置６ａと、任意波形生成器１８により高周波の非正弦波信号を出力する第２加速電圧信号生成装置６ｂと、前記高周波の正弦波信号と前記高周波の非正弦波信号を切り替える加速電圧信号切替器７と、この加速電圧信号切替器７への切替えタイミング信号を発生する制御信号発生装置８と、この制御信号発生装置８の切替えタイミング信号により加速電圧信号切替器７で切り替え選択された前記高周波の正弦波信号と前記高周波の非正弦波信号のいずれかの信号を増幅し、加速電圧として加速空洞４に印加する電力増幅器５とを備えた。 （もっと読む）

【課題】発生磁場と印加電圧の周波数特性が一定ではない磁極材料を使用した四極又は六極電磁石においても設定磁場が得られる磁場発生装置及びシンクロトロンを得る
【解決手段】四極又は六極電磁石と、電磁石電源１０と、波形を発生する波形生成器９とを有する磁場発生装置であって、前記四極又は六極電磁石に発生する磁場１５と前記電磁石電源１０への入力電圧１２とから求めた前記四極又は六極電磁石の周波数特性を含む入出力の伝達関数から設定磁場を発生させる入力電圧１２を決定し、前記波形生成器９からこの入力電圧１２と同じ波形の入力信号１２を発生し、この入力信号１２を前記電磁石電源１０に入力して前記四極又は六極電磁石に電圧を印加して、前記設定磁場を得るように構成した。 （もっと読む）

駆動ビームを供給する駆動ビーム源と、加速ビームを供給する加速ビーム源と、駆動ビームと加速ビームの経路に配置された離調共振キャビティと、２ビーム集束装置とを含む２ビーム加速器装置及びその使用方法を提供する。離調された共振キャビティは、矩形、正方形、軸対称、及び又は、円筒状とすることができる。集束装置は、変形４つの磁石と、中央の開口と、中央の開口中のチャネルと、４つの磁石の一つの磁石中にあり、磁性材料でライニングされた非磁性材料のチャネルを有する開口とを備える４極磁石を含むことができる。 （もっと読む）

【課題】ビームラインが短く、分解能が高く、且つ短時間で２次元領域の測定が可能な分析装置、特にＸＡＦＳ分析装置又は小角散乱Ｘ線分析装置を提供すること。
【解決手段】荷電粒子発生手段によって生成された荷電粒子を内部に周回させる荷電粒子周回手段（１）と、
周回する荷電粒子の周回軌道（１３）上に配置された横長ターゲット（１４）に、周回する荷電粒子を衝突させて発生したＸ線を分光して単色Ｘ線を発生させる分光手段（２）と、
分光手段（２）から出力される単色Ｘ線を測定対象の試料（４）に照射し、試料（４）から出力されるＸ線を測定する測定手段（３）とを備える。 （もっと読む）

本発明は、癌腫瘍の多軸荷電粒子照射治療の一部として使用される荷電粒子ビーム加速方法及び装置を有する。加速器は、方向転換磁石、エッジ・フォーカス磁石、磁場収束磁石、及び抽出の利点を有するシンクロトロン、及び、シンクロトロンの全体のサイズを最小にし、厳しく制御された陽子ビームを供給し、必要な磁場のサイズを直接低減し、必要な動作電力を直接低減し、及びシンクロトロンから陽子を抽出する処理中であってもシンクロトロンにおける陽子の連続的な加速を可能にし、抽出された荷電粒子ビームのエネルギー及び強度を独立して制御する制御要素を備えている。 （もっと読む）

本発明は、癌腫瘍の荷電粒子照射と併用する荷電粒子ビーム抽出方法及び装置を有する。そのシステムは、高周波空洞システムを使用して荷電粒子の流れのベータトロン振動を誘導する。荷電粒子の流れの十分な振幅変調によって、荷電粒子の流れは箔などの部材を叩く。箔は荷電粒子の流れのエネルギーを低下させ、シンクロトロン１３０内の荷電粒子の流れの曲率半径が十分に小さくし、エネルギーが低下した荷電粒子の流れを最初の荷電粒子の流れから物理的に分離することができる。次に、物理的に分離された荷電粒子の流れは、供給される磁場及び偏向器の使用によって、シンクロトロン１３０から取り除かれる。 （もっと読む）

【課題】小型で簡素なイオンビーム伝送システムを実現する。
【解決手段】イオンビーム照射ヘッド７内に、高強度レーザー光４ａを照射してイオン２を発生させるテープターゲット３と、イオン発生位置の直後に位置するように設置され、テープターゲットから発生したイオンをコリメートしてヘッド外に発出させるキャピラリー基盤１を設けるように構成する。 （もっと読む）