【課題】光学高分子構造体の内部にフェムト秒レーザを照射し、加熱により、レーザ照射部と非照射部との屈折率差を大きくする光学素子の製造方法を提供する。また、回折効率の高い光学素子および伝播損失の少ない光導波路を有する光学素子を提供する。
【解決手段】本発明の光学素子の製造方法は、パルス幅が１０^-15秒〜１０^-11秒のフェムト秒レーザを光学高分子構造体の内部に照射することにより、照射部の屈折率を変化させるレーザ照射工程と、加熱を行なう加熱工程とを含み、加熱工程は、加熱温度を絶対温度でＴとし、光学高分子構造体を構成する材料のガラス転移点の絶対温度をＴ_gとするとき
、０．８≦Ｔ／Ｔ_g≦１．１３の条件で加熱することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 Ｘ線タルボ干渉計を構成する位相型回折格子及び振幅型回折格子を安定的に供給可能な製造方法を提供する。
【解決手段】基板６に形成されているネガ型のＸ線感光性樹脂３０に、Ｘ線透過部とＸ線吸収部とを備えるＸ線マスク３１を用いてＸ線を照射する。そして、前記Ｘ線透過部を通過したＸ線、及び、前記Ｘ線吸収部を通過することによって通過前の１／５０以上１／１０以下となるように強度が低下したＸ線によって、Ｘ線感光性樹脂３０を露光する（露光工程）。そして、非露光部分３４を除去することによって、基板上に樹脂壁３６を形成するとともに、隣り合う樹脂壁３６の先端同士を接続する膜状の架橋部３５を形成する（現像工程）。その後、前記架橋部３５を除去するとともに（除去工程）、電鋳法により、前記樹脂壁と樹脂壁との間にＸ線吸収金属部１１を形成する（電解メッキ工程）。 （もっと読む）

【課題】照度ムラ及び光量損失を抑えると共に薄型化を実現し、所望の形状及び偏光状態の光強度分布（再生像）を形成することができる計算機ホログラムを提供する。
【解決手段】入射光の波面に位相分布を与えて所定面に光強度分布を形成する計算機ホログラムであって、入射光の偏光状態を変化させる第１の異方性セル及び第２の異方性セルと、入射光の偏光状態を変化させない第１の等方性セル及び第２の等方性セルと、を有し、前記第１の異方性セルの光学軸の方向と前記第２の異方性セルの光学軸の方向とが互いに異なり、前記第１の等方性セルの厚さと前記第２の等方性セルの厚さとが互いに異なることを特徴とする計算機ホログラムを提供する。 （もっと読む）

【課題】光学性能を容易に且つ精度良く制御することができ、また、製造が容易で安価且つ安定した品質で製造することができる量産性に適したローパスフィルタを提供する。
【解決手段】基材１１上に凸状のレンズ体１３が略一定のピッチＰで二次元状に配列された構造体１０Ａと、構造体１０Ａのレンズ体１３間の溝１４を埋めた状態で溝１４に配置された中間体１５と、を備えたローパスフィルタ１０であって、レンズ体１３は第１物質で形成され、中間体１５は第２物質で形成され、溝の深さをｄ（μｍ）とし、第１物質の屈折率と第２物質の屈折率との差をΔｎとしたとき、ｄ・Δｎ（μｍ）の値が０．２０〜０．６０の範囲であり、レンズ体のピッチが１．０μｍ〜１００μｍの範囲にある。 （もっと読む）

【課題】光学性能を容易に且つ精度良く制御することができ、また、製造が容易で安価且つ安定した品質で製造することができる量産性に適したローパスフィルタを提供する。
【解決手段】基材１１上に一方向に延びる断面凸状のレンズ体１３が略一定のピッチＰで配列された構造体１０Ａと、構造体１０Ａのレンズ体１３間の溝１４を埋めた状態で溝１４に配置された中間体１５と、を備えたローパスフィルタ１０であって、レンズ体１３は第１物質で形成され、中間体１５は第２物質で形成され、溝１４の深さをｄ（μｍ）とし、第１物質の屈折率ｎ１と第２物質の屈折率ｎ２とし、前記第１物質の屈折率と前記第２物質の屈折率との差をΔｎとしたとき、ｄ・Δｎ（μｍ）の値が０．０２８〜０．３６６の範囲であり、前記レンズ体のピッチが０．５μｍ〜１００μｍの範囲にあることを特徴とするローパスフィルタ。 （もっと読む）

【課題】観察者の視軸と光学系の光軸との不一致による回折光学素子からの不要回折次数光（フレア光）の発生を低減する。
【解決手段】画像表示装置は、原画を形成する画像形成素子１と、該画像形成素子からの光束を複数の反射面６，７で反射して射出する第１の光学素子１０と、該第１の光学素子から射出した光束を射出瞳２に導く光学系１５とを有する。該光学系は回折光学素子３を含み、該光学系のうち回折光学素子よりも射出瞳側の部分２１ａが負の光学パワーを有する。 （もっと読む）

【課題】 高い回折効率が得られ、しかも透過率が良く、成形時及び成形後の形状安定性に優れた回折光学素子を得ること。
【解決手段】 基板上に中間層を介してベース部、回折格子が形成された素子部を少なくとも１つ有する回折光学素子であって、該ベース部と該回折格子は同じ材料より成り、該回折格子と該中間層の材料の消光係数を各々Ｋａ、Ｋｂを各々適切に設定すること。
なる条件を満たすこと。 （もっと読む）

【課題】従来の偽造防止転写箔より偽造防止効果が高く、且つ、真偽判定のために特殊な機器を必要としない偽造防止転写箔及びそれを転写した偽造防止媒体を提供する。
【解決手段】支持体上の片面に光学的可変素子（ＯＶＤ）を有する偽造防止用転写箔において、前記光学的可変素子（ＯＶＤ）の少なくとも一部が、反射光から得られる光学的効果によるパターンと、透過光による明暗の別パターンとを共に有することを特徴とする偽造防止用転写箔、及びそれを光線透過性のある紙やフィルム、カード等に転写した偽造防止媒体。 （もっと読む）

【課題】小型化と低コスト化を実現することができる光チャネルモニタを提供する。
【解決手段】回折格子４３には反射部４３ｂが設けられている。回折格子４３の反射部４３ｂにより反射された反射光の光軸上に、レンズ６および受光素子７１が設けられている。ＭＥＭＳミラー５２ａにより反射された回折光の一部は、回折格子４３の反射部４３ｂにより反射され、レンズ６を介して受光素子７１に照射される。このような簡便な構成で回折光の反射光の光量を容易に測定することができるので、結果として、小型化と低コスト化を実現するができる。 （もっと読む）

【課題】より正確なアライメントを行うことができる波長選択型光スイッチを提供する。
【解決手段】ミラー５２ａの中心を結ぶ第１の直線、すなわちＸ軸上にアライメントパタン６を設けることにより、例えば、入力ポートからＡＳＥ光を入力し、アライメントパタン６で反射された光のスペクトル形状を観察し、スペクトル形状が三角形となるように、ＭＥＭＳミラーアレイチップ５のＹ軸方向の位置を調整するという非常に簡単な方向ににより、ＭＥＭＳミラーアレイチップ５の高精度なアライメントを実現することができる。 （もっと読む）

【課題】サブミクロンサイズからミクロンサイズの周期性を有する高アスペクト比の微細凹凸構造材料を、非常に単純な方法でかつ広範囲に形成する。
【解決手段】基板（Ｄ）の少なくとも一部又は全体を少なくとも一軸方向に延伸（Ｆ）された状態の基板（Ｄ）上に表層（Ｅ）を形成し、基板（Ｄ）の延伸状態を解除したときに発生する圧縮歪みに基づき形成された凹凸構造を有し、前記凹凸構造のアスペクト比が0.2〜1.0の範囲にある、微細凹凸構造材料。 （もっと読む）

【課題】青色レーザ光に対する耐光性が良好であって、他の重合性液晶性化合物との相溶性にも優れた液晶性化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式で表され、Ｐ^１およびＰ^２の少なくとも一方は、アクリル酸基またはメタクリル酸基を含み、また、これらの少なくとも一方は、トランス−１，４−シクロヘキシレン基を含むオクタフルオロビフェニレン環を有する液晶性化合物。この液晶性化合物は、ベンゼン環にフッ素を含まない比較化合物よりも、短波長側まで低いモル吸光係数を示す。また、他の重合性液晶性化合物との相溶性にも優れている。
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【課題】赤外、近赤外、および可視の領域だけでなく紫外領域でも使用でき、高い屈折率に起因して高い設計の自由度を有し、レリーフ面の凹部が他の材料で埋められても回折機能が失われず、さらにハイパワーレーザ用途でも安定して使用し得るレリーフ型回折光学素子を提供する。
【解決手段】 レリーフ型回折光学素子は、光回折を生じさせる凸部と凹部を含むレリーフ面を有し、回折される光が通過すべき領域の少なくとも部分的領域の材質がダイヤモンドであることを特徴としている。なお、そのダイヤモンドの消衰係数は、波長５２０ｎｍの光に関して０．０２１以下の値を有し、波長２５０ｎｍの光に関して０．０１０以下の値を有することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】装置全体の小型化を図りつつ、被投射面に表示影が投射されるのを抑え、画質の向上を図ることが可能なプロジェクタ及び照明装置を提供すること。
【解決手段】複数種の色光を含むレーザ光を射出する光源１１Ｒ，１１Ｇ，１１Ｂと、照明光を生成する複数の回折光学素子１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂと、反射型光変調素子２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂと、第１偏光分離膜４１及び第２偏光分離膜４２を有し、複数の反射型光変調素子２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂにおいて変調された光を合成する色合成部３０と、投射手段５０とを備え、第１偏光分離膜４１と第２偏光分離膜４２とが交差して設けられ、回折光学素子１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂが、第１偏光分離膜４１及び第２偏光分離膜４２のうち光源１１Ｒ，１１Ｇ，１１Ｂから射出された光が偏光分離される偏光分離膜と異なる偏光分離膜に入射しないように、色合成部３０に複数の光束を入射させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】累進部の両側に設けられた中間部側方に集中して生じる非点収差を低減することができる眼鏡レンズを提供する。
【解決手段】遠用部１Ａ、近用部１Ｂ、これらの遠用部１Ａと近用部１Ｂとの間で屈折力が累進的に変化する累進部１Ｃ、及び累進部１Ｃの両側に設けられた中間部側方１Ｄを備える。中間部側方１Ｄには回折構造４が設けられ、この回折構造４の縦軸ｙと横軸ｘとで異なるピッチとした。つまり、回折構造４を、フィッティングポイントＦＴに法線が通過するとともに互いに平行に配置された複数の直線から構成する。 （もっと読む）

【目的】 簡単な構造で光を配光し、平面を略均一に照明するバックライト用回折光学素子及びそれを用いた液晶表示装置を提供する
【構成】 バックライト用回折光学素子であって、光源からの光を回折し、光軸中心よりも周辺部の方が強度の強い環状の強度分布で回折光を射出することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線タルボ干渉計を構成する位相型回折格子及び／又は振幅型回折格子の製造方法を提供する。
【解決手段】この回折格子の製造方法は、シリコン基板Ｂの表面に感光性樹脂３１を形成して、リソグラフィー法により、感光性樹脂３１にマスク３４を用いたパターニングを行って現像により所定の感光性樹脂３１を除去し、ＩＣＰプラズマエッチング法により、当該感光性樹脂３１が除去された部分に対応するシリコン基板Ｂをエッチングして３次元構造体のスリット溝４１を形成した後、スリット溝４１に絶縁物を堆積又は注入して３次元構造体の絶縁物層６１を形成する。そして、ＩＣＰプラズマエッチング法により、感光性樹脂３１及びその感光性樹脂３１に対応するシリコン基板Ｂをエッチングして３次元構造体のスリット溝４２を形成して、電鋳法により、シリコン基板Ｂに電圧を印加してスリット溝４２にＸ線吸収金属部１１１及び１２１を形成する。 （もっと読む）

【課題】照度ムラ及び光量損失を抑えると共に、所望の形状及び偏光状態の光強度分布（再生像）を形成することができる計算機ホログラムを提供する。
【解決手段】入射光の波面に位相分布を与えて所定面に光強度分布を形成する計算機ホログラムであって、第１の方向の直線偏光に対する屈折率と前記第１の方向の直線偏光に直交する第２の方向の直線偏光に対する屈折率とが異なる異方性層と、前記第１の方向の直線偏光に対する屈折率と前記第２の方向の直線偏光に対する屈折率とが等しい等方性層とを有し、前記入射光の前記第１の方向の直線偏光成分の波面及び前記入射光の前記第２の方向の直線偏光成分の波面に互いに異なる位相分布を与えることによって、前記入射光の前記第１の方向の直線偏光成分が前記所定面に形成する第１の光強度分布と前記入射光の前記第２の方向の直線偏光成分が前記所定面に形成する第２の光強度分布とを異ならせていることを特徴とする計算機ホログラムを提供する。 （もっと読む）

【課題】投射距離の変更に伴うピント調整（劣化した解像度の補正）を簡単な構成で行うことができ、かつピント調整に必要なスペースを減少させて小型化を図ることができる光走査装置を提供する。
【解決手段】光走査装置は、光源からの光束を走査する走査手段１０３と、走査手段からの光束に中間像１０８を形成させる第１の光学系１０４Ａと、該中間像の位置を含む特定範囲Ａ内に配置され、第１の光学系からの光束から複数の光束成分を発生させる光束成分発生手段１０９と、複数の光束成分を被走査面１０５に向けて集光させる第２の光学系１０４Ｂと、光束成分発生手段を上記特定範囲内で移動させる移動手段１２０とを有する。 （もっと読む）

【課題】光量モニタ機能を有する新規な光学素子を提案することにより、光源装置、光走査装置および画像形成装置の小型化、低コスト化、省エネルギーを可能にする。
【解決手段】レーザ光束が入射される入射面と、レーザ光束が射出される射出面と、前記入射面または射出面のいずれか一方に設けられてレーザ光束を分岐する光線分岐手段である回折格子１０４と、光学素子１１２本体に一体的に取り付けられて回折格子１０４により分岐されたレーザ光束の一つを検出する光検知部材１０５とを備え、回折格子１０４により分岐されて光検知部材１０５に到達するレーザ光束は前記入射面および射出面に対して全反射条件を満たす。 （もっと読む）