バックライト用回折光学素子及びそれを用いた液晶表示装置
【目的】 簡単な構造で光を配光し、平面を略均一に照明するバックライト用回折光学素子及びそれを用いた液晶表示装置を提供する
【構成】 バックライト用回折光学素子であって、光源からの光を回折し、光軸中心よりも周辺部の方が強度の強い環状の強度分布で回折光を射出することを特徴とする。
【構成】 バックライト用回折光学素子であって、光源からの光を回折し、光軸中心よりも周辺部の方が強度の強い環状の強度分布で回折光を射出することを特徴とする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、バックライト用光学部材に関し、特に、液晶表示装置等の透過型表示装置を、背面からLED等の光源を用いて照明するバックライト等と共に使用されるバックライト用回折光学素子及びそれを用いた液晶表示装置に関するものである。
【背景技術】
【0002】
表示装置として液晶表示装置(LCD)は、既存のCRT方式の表示装置に比較し、薄型軽量であり、現在広く普及しつつある。LCDは自発光型の表示装置ではないため、別途これを照明する光源を配置する必要がある。低消費電力化や表示の明るさ向上といった要求が高まる中、この光源からの照明光をいかに効率良くLCDに照射させるかが大きな課題となってきている。
【0003】
従来、光源として、発光ダイオードパッケージに搭載されたレンズから発せられた光の大部分が該発光ダイオードパッケージのパッケージ軸にほぼ垂直となるように、該レンズ内の光を内部で導き直すもので、発光ダイオードパッケージにより発せられた光が、該レンズの鋸歯状部により屈折され、該レンズの全内部反射により反射される光源を使用するものが開示されている(特許文献1)。
【特許文献1】特開2003−8081号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
しかしながら、上記特許文献1に記載されたような従来の光学部材では、特殊な形状のレンズ等を付加することにより光を配光するため、組立の際にLEDやレンズ等の各部材の位置合わせを行う必要があった。特に、パネル直下に配置するサイドエミッタ型のLED光源を使用する場合、LEDチップに反射鏡や特殊な形状のレンズ等を付加する必要があった。ここで、サイドエミッタ型の光源とは、光源の配光分布のピークが正面(0度)から側面(90度)方向に倒れているものをいう。なお、射出光のピーク角度は、ランプ間距離やその他の拡散シートや輝度向上フィルム等の光学部材との兼ね合いで最適設計される場合も含む。
【0005】
本発明は従来技術のこのような問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、簡単な構造で光を配光し、平面を略均一に照明するバックライト用回折光学素子及びそれを用いた液晶表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明は、上記課題を解決するバックライト用回折光学素子であって、光源からの光を回折し、光軸中心よりも周辺部の方が強度の強い環状の強度分布で回折光を射出することを特徴とする。
【0007】
また、回折光学素子は、フーリエ変換ホログラムからなることを特徴とする。
【0008】
また、フーリエ変換ホログラムは、位相型の計算機ホログラムとして構成されていることを特徴とする。
【0009】
さらに、本発明は、上記課題を解決するバックライト用回折光学素子を用いた液晶表示装置であって、光源と、光源に対向して配置された前記回折光学素子と、前記回折光学素子を射出した光の光路中に配置された透過型液晶表示素子とを備えたことを特徴とする。
【発明の効果】
【0010】
本発明によれば、回折光学素子が環状に強度の強い分布を持つように出力するので、簡単な構造でサイドエミッタ型の光源を実現でき、平面を略均一に照明することができる。また、光源の光軸方向と垂直な方向に多少のズレが生じても所望の配光分布を得ることができる。したがって、LEDチップ等の光源の発光面積が異なっても同じ配光分布が得られるため、発光面積を変更した場合でも設計変更の必要がない。
【発明を実施するための最良の形態】
【0011】
図1は本発明のバックライト用回折光学素子及びそれを用いた液晶表示装置の実施形態を示す断面図、図2はバックライト部の斜視図である。図1及び図2において、Lは光源の一例としてのLED、1は回折光学素子の一例としてのホログラム、2は透過型液晶表示素子の一例としての液晶パネル、3は拡散板である。また、LED及びホログラムでバックライト部を構成し、バックライト部及び液晶パネルで液晶表示装置を構成する。
【0012】
図1に示すように、本実施形態では、ホログラム1を直下型バックライトLEDに対向して配置し、さらに、拡散板3を介して液晶パネル2を平行に配置する。ホログラム1は、本実施形態では、フーリエ変換ホログラムを使用している。フーリエ変換ホログラムは計算機ホログラムでも良いし、また、表面レリーフ型、振幅型、体積型であっても良い。
【0013】
図2に示すように、LEDを並べたLEDアレイLaとホログラム1とは、1組として構成し、複数列に並べて配置され、全液晶パネル面に対応することが好ましい。なお、光源Lとホログラム1とは密着して配置してもよい。
【0014】
図3は、ホログラム1の配光分布の概略を示す図である。光源Lから発光された光は、ホログラム1により回折され、回折光は光軸中心よりも周辺部の方が強度の強い環状の強度分布で出力される。
【0015】
図4及び図5は、シミュレーションでの配光分布を示す図である。
【0016】
図4は、±30度に配光分布を持つ緑色LED光源の光に対して、本実施形態のホログラム1により回折した回折光をシミュレーションで表した図である。図4に示すように、ホログラム1は、回折した回折光がホログラム1の法線から約±35度の方向で環状に強度の強い分布を持つように出力する。
【0017】
図5は、配光がランバシアン分布を持つ緑色LED光源の光に対して、本実施形態のホログラム1により回折した回折光をシミュレーションで表した図である。図4に示すように、ホログラム1は、回折した回折光がホログラム1の法線から約±80度の方向で環状に強度の強い分布を持つように出力する。
【0018】
このように、ホログラム1が環状に強度の強い分布を持つように出力するので、簡単な構造でサイドエミッタ型の光源を実現でき、平面を略均一に照明することができる。また、光源の光軸方向と垂直な方向に多少のズレが生じても所望の配光分布を得ることができる。したがって、LEDチップ等の光源の発光面積が異なっても同じ配光分布が得られるため、発光面積を変更した場合でも設計変更の必要がない。
【0019】
次に、本実施形態のホログラム1の作製方法について説明する。
【0020】
図6は、本実施形態のホログラムの原版の製造方法を実施する工程を示す図である。5は原画、6はフーリエ変換像、7は基板、8はクロム層、9はフォトレジスト、10は原版である。なお、基板7は、ガラスやシリコン原板等である。
【0021】
まず、ステップ(1)において、原画5を作成し、次に、ステップ(2)において、原画5のフーリエ変換像6を、計算機でFFT等の計算をして作成する。フーリエ変換像6は二値以上に多値化したフーリエ変換像6である。次に、ステップ(3)において、基板7上に、クロム層8、フォトレジスト9を積層したものに電子ビーム描画露光やマスク露光等を施し、凹凸パターンの潜像をフォトレジスト9に形成する。次に、ステップ(4)において、フォトレジストの潜像をポジ現像する。次に、ステップ(5)において、フォトレジストパターンにあわせてウェットエッチングによりクロム層8をエッチングし、余分なクロムを除去する。続いて、ステップ(6)において、ドライエッチングにより基板7を所定深さエッチングし、除去する。次に、ステップ(7)において、残りのフォトレジスト9を剥離する。
【0022】
次に、ステップ(8)において、全面にフォトレジスト9を再塗布する。次にステップ(9)において電子ビーム描画露光やマスク露光を施し、ステップ(10)において現像する。続いて、ステップ(11)において、フォトレジストパターンにあわせてウェットエッチングによりクロム層8をエッチングする。次に、ステップ(12)において、ドライエッチングにより基板7をエッチングする。この際、ステップ(6)でしたエッチングの半分の深さだけ行う。続いて、ステップ(13)において、残りのフォトレジストを剥離し、ステップ(14)において、残りのクロムを全て除去する。このような処理を施すことで、原版10が得られる。
【0023】
図7乃至図10は、本発明のフーリエ変換ホログラムを作製する方法を示す図である。図7及び図8は、第1実施形態としてスタンパーを用いる場合を示す。図7は、スタンパーを作製する工程を示す図である。10は原版、11は導電性膜、12はスタンパーである。まず、ステップ(15a)において、ステップ(14)で得られた原版10に導電性膜11を蒸着する。次に、ステップ(16a)において、ニッケルメッキ(電鋳)を行い、ステップ(17a)において、原版10をはがしてスタンパー12としての金型を形成する。
【0024】
次に、図8は、図7で作成したスタンパーによりフーリエ変換ホログラムを大型化する工程を示す。12はスタンパー、13は熱可塑性樹脂である。ステップ(18a)において、ステップ(17a)で作成したスタンパー12により、熱可塑性樹脂13に押圧スタンプを行い、スタンパー12の幅だけ熱可塑性樹脂13を搬送して止める。ステップ(19a)において、熱可塑性樹脂13のステップ(18a)で押圧スタンプされた部分の隣接部分に別に押圧スタンプを行い、再度スタンパー12の幅だけ熱可塑性樹脂13を搬送して止める。これを繰り返すことで、大型化することができる。
【0025】
図9及び図10は第2実施形態としてのUV複製原版を使用する場合を示す。図9は、UV複製原版を作成する工程を示す図である。10は原版、14は複製原版用基板、15はUV硬化樹脂、16はUV複製原版である。まず、ステップ(15b)において、ステップ(14)で得られた原版10にUV硬化樹脂15を塗布し、その上に複製原版用基板14を押し付ける。複製原版用基板14は、PETフィルム又はポリカーボネートフィルム等を使用する。次に、ステップ(16b)において、UV照射をし、UV硬化樹脂15を硬化させる。続いて、ステップ(17b)において、原版10をはがすと、UV複製原版16が形成される。
【0026】
次に、図10は図9で作成したUV複製原版16によりフーリエ変換ホログラムを大型化する工程を示す。16はUV複製原版、17はエンボスローラ、18はUV硬化樹脂を塗布した基材、19はUV照射装置である。ステップ(18b)において、ステップ(17b)で作成したUV複製原版16をエンボスローラ17の周囲に配置する。続いて、ステップ(19b)において、UV複製原版16を周囲に配置したエンボスローラ17と、エンボスローラ17の下に設けた他のローラとでUV硬化樹脂を塗布した基材18を挟持し、エンボスローラ17を回転させることで、UV硬化樹脂を塗布した基材18はエンボスパターンが形成されながら搬送され、その下流でUV照射装置によりUV照射され、硬化され、大型化される。
【0027】
次に、図11において他の大型化の実施形態を説明する。図11は、原版10を作成せずに、直接大型化するステップアンドリピートの方法を示す図である。20は大型の基板である。ステップ(1)及びステップ(2)は前記図3で説明したものと同様な工程であり、フーリエ変換像6を作成する。UV複製原版16として、図8のステップ(19a)で得られた大型化されたフーリエ変換ホログラムを用いても良い。
【0028】
次に、ステップ(3−1)において、大型の基板20には、前記図3のステップ(3)で示したのと同様にクロム層8、フォトレジスト9が塗布されており、大型の基板20に、電子ビーム描画露光やマスク露光等を施し、凹凸パターンの潜像をフォトレジストに形成し、次いで、大型の基板20をフーリエ変換像6の幅の寸法分搬送し止める。続いてステップ(3−2)において、再度大型の基板20に、電子ビーム描画露光やマスク露光等を施し、凹凸パターンの潜像をフォトレジストに形成し、次いで、大型の基板20をフーリエ変換像6の幅の寸法分搬送し止める。これを繰り返すことで大型の基板20に露光する。
【0029】
次に、図7で示したステップ(4)からステップ(14)までの工程を大型の基板20に施すことで大型化される。したがって、大型のバックライト用回折光学素子が作成できるようになり、用途が拡大し、様々なものに適用できるようになる。
【図面の簡単な説明】
【0030】
【図1】本実施形態を示す断面図である。
【図2】本実施形態を示す斜視図である。
【図3】本実施形態のホログラムの配光分布の概略を示す図である。
【図4】シミュレーションでの配光分布を示す図である。
【図5】シミュレーションでの配光分布を示す図である。
【図6】本実施形態のホログラムの原版の製造方法を示す図である。
【図7】本実施形態のスタンパーの製造方法を示す図である。
【図8】本実施形態の大型化したホログラムの第一の製造方法を示す図である。
【図9】本実施形態のUV複製の製造方法を示す図である。
【図10】本実施形態の大型化したホログラムの第二の製造方法を示す図である。
【図11】本実施形態の大型化したホログラムの他の製造方法を示す図である。
【符号の説明】
【0031】
1…ホログラム(回折光学素子)、2…液晶パネル(透過型液晶表示素子)、3…拡散板、5…原画、6…フーリエ変換像、7…基板、8…クロム、9…フォトレジスト、10…原版、11…導電性膜、12…スタンパー、13…熱可塑性樹脂、14…複製原版用基板、15…UV硬化樹脂、16…UV複製原版、17…エンボスローラ、18…UV硬化樹脂を塗布した基材、19…UV照射装置、20…大型の基板、L…LED(光源)
【技術分野】
【0001】
本発明は、バックライト用光学部材に関し、特に、液晶表示装置等の透過型表示装置を、背面からLED等の光源を用いて照明するバックライト等と共に使用されるバックライト用回折光学素子及びそれを用いた液晶表示装置に関するものである。
【背景技術】
【0002】
表示装置として液晶表示装置(LCD)は、既存のCRT方式の表示装置に比較し、薄型軽量であり、現在広く普及しつつある。LCDは自発光型の表示装置ではないため、別途これを照明する光源を配置する必要がある。低消費電力化や表示の明るさ向上といった要求が高まる中、この光源からの照明光をいかに効率良くLCDに照射させるかが大きな課題となってきている。
【0003】
従来、光源として、発光ダイオードパッケージに搭載されたレンズから発せられた光の大部分が該発光ダイオードパッケージのパッケージ軸にほぼ垂直となるように、該レンズ内の光を内部で導き直すもので、発光ダイオードパッケージにより発せられた光が、該レンズの鋸歯状部により屈折され、該レンズの全内部反射により反射される光源を使用するものが開示されている(特許文献1)。
【特許文献1】特開2003−8081号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
しかしながら、上記特許文献1に記載されたような従来の光学部材では、特殊な形状のレンズ等を付加することにより光を配光するため、組立の際にLEDやレンズ等の各部材の位置合わせを行う必要があった。特に、パネル直下に配置するサイドエミッタ型のLED光源を使用する場合、LEDチップに反射鏡や特殊な形状のレンズ等を付加する必要があった。ここで、サイドエミッタ型の光源とは、光源の配光分布のピークが正面(0度)から側面(90度)方向に倒れているものをいう。なお、射出光のピーク角度は、ランプ間距離やその他の拡散シートや輝度向上フィルム等の光学部材との兼ね合いで最適設計される場合も含む。
【0005】
本発明は従来技術のこのような問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、簡単な構造で光を配光し、平面を略均一に照明するバックライト用回折光学素子及びそれを用いた液晶表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明は、上記課題を解決するバックライト用回折光学素子であって、光源からの光を回折し、光軸中心よりも周辺部の方が強度の強い環状の強度分布で回折光を射出することを特徴とする。
【0007】
また、回折光学素子は、フーリエ変換ホログラムからなることを特徴とする。
【0008】
また、フーリエ変換ホログラムは、位相型の計算機ホログラムとして構成されていることを特徴とする。
【0009】
さらに、本発明は、上記課題を解決するバックライト用回折光学素子を用いた液晶表示装置であって、光源と、光源に対向して配置された前記回折光学素子と、前記回折光学素子を射出した光の光路中に配置された透過型液晶表示素子とを備えたことを特徴とする。
【発明の効果】
【0010】
本発明によれば、回折光学素子が環状に強度の強い分布を持つように出力するので、簡単な構造でサイドエミッタ型の光源を実現でき、平面を略均一に照明することができる。また、光源の光軸方向と垂直な方向に多少のズレが生じても所望の配光分布を得ることができる。したがって、LEDチップ等の光源の発光面積が異なっても同じ配光分布が得られるため、発光面積を変更した場合でも設計変更の必要がない。
【発明を実施するための最良の形態】
【0011】
図1は本発明のバックライト用回折光学素子及びそれを用いた液晶表示装置の実施形態を示す断面図、図2はバックライト部の斜視図である。図1及び図2において、Lは光源の一例としてのLED、1は回折光学素子の一例としてのホログラム、2は透過型液晶表示素子の一例としての液晶パネル、3は拡散板である。また、LED及びホログラムでバックライト部を構成し、バックライト部及び液晶パネルで液晶表示装置を構成する。
【0012】
図1に示すように、本実施形態では、ホログラム1を直下型バックライトLEDに対向して配置し、さらに、拡散板3を介して液晶パネル2を平行に配置する。ホログラム1は、本実施形態では、フーリエ変換ホログラムを使用している。フーリエ変換ホログラムは計算機ホログラムでも良いし、また、表面レリーフ型、振幅型、体積型であっても良い。
【0013】
図2に示すように、LEDを並べたLEDアレイLaとホログラム1とは、1組として構成し、複数列に並べて配置され、全液晶パネル面に対応することが好ましい。なお、光源Lとホログラム1とは密着して配置してもよい。
【0014】
図3は、ホログラム1の配光分布の概略を示す図である。光源Lから発光された光は、ホログラム1により回折され、回折光は光軸中心よりも周辺部の方が強度の強い環状の強度分布で出力される。
【0015】
図4及び図5は、シミュレーションでの配光分布を示す図である。
【0016】
図4は、±30度に配光分布を持つ緑色LED光源の光に対して、本実施形態のホログラム1により回折した回折光をシミュレーションで表した図である。図4に示すように、ホログラム1は、回折した回折光がホログラム1の法線から約±35度の方向で環状に強度の強い分布を持つように出力する。
【0017】
図5は、配光がランバシアン分布を持つ緑色LED光源の光に対して、本実施形態のホログラム1により回折した回折光をシミュレーションで表した図である。図4に示すように、ホログラム1は、回折した回折光がホログラム1の法線から約±80度の方向で環状に強度の強い分布を持つように出力する。
【0018】
このように、ホログラム1が環状に強度の強い分布を持つように出力するので、簡単な構造でサイドエミッタ型の光源を実現でき、平面を略均一に照明することができる。また、光源の光軸方向と垂直な方向に多少のズレが生じても所望の配光分布を得ることができる。したがって、LEDチップ等の光源の発光面積が異なっても同じ配光分布が得られるため、発光面積を変更した場合でも設計変更の必要がない。
【0019】
次に、本実施形態のホログラム1の作製方法について説明する。
【0020】
図6は、本実施形態のホログラムの原版の製造方法を実施する工程を示す図である。5は原画、6はフーリエ変換像、7は基板、8はクロム層、9はフォトレジスト、10は原版である。なお、基板7は、ガラスやシリコン原板等である。
【0021】
まず、ステップ(1)において、原画5を作成し、次に、ステップ(2)において、原画5のフーリエ変換像6を、計算機でFFT等の計算をして作成する。フーリエ変換像6は二値以上に多値化したフーリエ変換像6である。次に、ステップ(3)において、基板7上に、クロム層8、フォトレジスト9を積層したものに電子ビーム描画露光やマスク露光等を施し、凹凸パターンの潜像をフォトレジスト9に形成する。次に、ステップ(4)において、フォトレジストの潜像をポジ現像する。次に、ステップ(5)において、フォトレジストパターンにあわせてウェットエッチングによりクロム層8をエッチングし、余分なクロムを除去する。続いて、ステップ(6)において、ドライエッチングにより基板7を所定深さエッチングし、除去する。次に、ステップ(7)において、残りのフォトレジスト9を剥離する。
【0022】
次に、ステップ(8)において、全面にフォトレジスト9を再塗布する。次にステップ(9)において電子ビーム描画露光やマスク露光を施し、ステップ(10)において現像する。続いて、ステップ(11)において、フォトレジストパターンにあわせてウェットエッチングによりクロム層8をエッチングする。次に、ステップ(12)において、ドライエッチングにより基板7をエッチングする。この際、ステップ(6)でしたエッチングの半分の深さだけ行う。続いて、ステップ(13)において、残りのフォトレジストを剥離し、ステップ(14)において、残りのクロムを全て除去する。このような処理を施すことで、原版10が得られる。
【0023】
図7乃至図10は、本発明のフーリエ変換ホログラムを作製する方法を示す図である。図7及び図8は、第1実施形態としてスタンパーを用いる場合を示す。図7は、スタンパーを作製する工程を示す図である。10は原版、11は導電性膜、12はスタンパーである。まず、ステップ(15a)において、ステップ(14)で得られた原版10に導電性膜11を蒸着する。次に、ステップ(16a)において、ニッケルメッキ(電鋳)を行い、ステップ(17a)において、原版10をはがしてスタンパー12としての金型を形成する。
【0024】
次に、図8は、図7で作成したスタンパーによりフーリエ変換ホログラムを大型化する工程を示す。12はスタンパー、13は熱可塑性樹脂である。ステップ(18a)において、ステップ(17a)で作成したスタンパー12により、熱可塑性樹脂13に押圧スタンプを行い、スタンパー12の幅だけ熱可塑性樹脂13を搬送して止める。ステップ(19a)において、熱可塑性樹脂13のステップ(18a)で押圧スタンプされた部分の隣接部分に別に押圧スタンプを行い、再度スタンパー12の幅だけ熱可塑性樹脂13を搬送して止める。これを繰り返すことで、大型化することができる。
【0025】
図9及び図10は第2実施形態としてのUV複製原版を使用する場合を示す。図9は、UV複製原版を作成する工程を示す図である。10は原版、14は複製原版用基板、15はUV硬化樹脂、16はUV複製原版である。まず、ステップ(15b)において、ステップ(14)で得られた原版10にUV硬化樹脂15を塗布し、その上に複製原版用基板14を押し付ける。複製原版用基板14は、PETフィルム又はポリカーボネートフィルム等を使用する。次に、ステップ(16b)において、UV照射をし、UV硬化樹脂15を硬化させる。続いて、ステップ(17b)において、原版10をはがすと、UV複製原版16が形成される。
【0026】
次に、図10は図9で作成したUV複製原版16によりフーリエ変換ホログラムを大型化する工程を示す。16はUV複製原版、17はエンボスローラ、18はUV硬化樹脂を塗布した基材、19はUV照射装置である。ステップ(18b)において、ステップ(17b)で作成したUV複製原版16をエンボスローラ17の周囲に配置する。続いて、ステップ(19b)において、UV複製原版16を周囲に配置したエンボスローラ17と、エンボスローラ17の下に設けた他のローラとでUV硬化樹脂を塗布した基材18を挟持し、エンボスローラ17を回転させることで、UV硬化樹脂を塗布した基材18はエンボスパターンが形成されながら搬送され、その下流でUV照射装置によりUV照射され、硬化され、大型化される。
【0027】
次に、図11において他の大型化の実施形態を説明する。図11は、原版10を作成せずに、直接大型化するステップアンドリピートの方法を示す図である。20は大型の基板である。ステップ(1)及びステップ(2)は前記図3で説明したものと同様な工程であり、フーリエ変換像6を作成する。UV複製原版16として、図8のステップ(19a)で得られた大型化されたフーリエ変換ホログラムを用いても良い。
【0028】
次に、ステップ(3−1)において、大型の基板20には、前記図3のステップ(3)で示したのと同様にクロム層8、フォトレジスト9が塗布されており、大型の基板20に、電子ビーム描画露光やマスク露光等を施し、凹凸パターンの潜像をフォトレジストに形成し、次いで、大型の基板20をフーリエ変換像6の幅の寸法分搬送し止める。続いてステップ(3−2)において、再度大型の基板20に、電子ビーム描画露光やマスク露光等を施し、凹凸パターンの潜像をフォトレジストに形成し、次いで、大型の基板20をフーリエ変換像6の幅の寸法分搬送し止める。これを繰り返すことで大型の基板20に露光する。
【0029】
次に、図7で示したステップ(4)からステップ(14)までの工程を大型の基板20に施すことで大型化される。したがって、大型のバックライト用回折光学素子が作成できるようになり、用途が拡大し、様々なものに適用できるようになる。
【図面の簡単な説明】
【0030】
【図1】本実施形態を示す断面図である。
【図2】本実施形態を示す斜視図である。
【図3】本実施形態のホログラムの配光分布の概略を示す図である。
【図4】シミュレーションでの配光分布を示す図である。
【図5】シミュレーションでの配光分布を示す図である。
【図6】本実施形態のホログラムの原版の製造方法を示す図である。
【図7】本実施形態のスタンパーの製造方法を示す図である。
【図8】本実施形態の大型化したホログラムの第一の製造方法を示す図である。
【図9】本実施形態のUV複製の製造方法を示す図である。
【図10】本実施形態の大型化したホログラムの第二の製造方法を示す図である。
【図11】本実施形態の大型化したホログラムの他の製造方法を示す図である。
【符号の説明】
【0031】
1…ホログラム(回折光学素子)、2…液晶パネル(透過型液晶表示素子)、3…拡散板、5…原画、6…フーリエ変換像、7…基板、8…クロム、9…フォトレジスト、10…原版、11…導電性膜、12…スタンパー、13…熱可塑性樹脂、14…複製原版用基板、15…UV硬化樹脂、16…UV複製原版、17…エンボスローラ、18…UV硬化樹脂を塗布した基材、19…UV照射装置、20…大型の基板、L…LED(光源)
【特許請求の範囲】
【請求項1】
光源からの光を回折し、光軸中心よりも周辺部の方が強度の強い環状の強度分布で回折光を射出することを特徴とするバックライト用回折光学素子。
【請求項2】
前記回折光学素子は、フーリエ変換ホログラムからなることを特徴とする請求項1に記載のバックライト用回折光学素子。
【請求項3】
前記フーリエ変換ホログラムは、位相型の計算機ホログラムとして構成されていることを特徴とする請求項2に記載のバックライト用回折光学素子。
【請求項4】
光源と、光源に対向して配置された前記回折光学素子と、前記回折光学素子を射出した光の光路中に配置された透過型液晶表示素子とを備えたことを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載のバックライト用回折光学素子を用いた液晶表示装置。
【請求項1】
光源からの光を回折し、光軸中心よりも周辺部の方が強度の強い環状の強度分布で回折光を射出することを特徴とするバックライト用回折光学素子。
【請求項2】
前記回折光学素子は、フーリエ変換ホログラムからなることを特徴とする請求項1に記載のバックライト用回折光学素子。
【請求項3】
前記フーリエ変換ホログラムは、位相型の計算機ホログラムとして構成されていることを特徴とする請求項2に記載のバックライト用回折光学素子。
【請求項4】
光源と、光源に対向して配置された前記回折光学素子と、前記回折光学素子を射出した光の光路中に配置された透過型液晶表示素子とを備えたことを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載のバックライト用回折光学素子を用いた液晶表示装置。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【公開番号】特開2009−54313(P2009−54313A)
【公開日】平成21年3月12日(2009.3.12)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2007−217210(P2007−217210)
【出願日】平成19年8月23日(2007.8.23)
【出願人】(000002897)大日本印刷株式会社 (14,506)
【Fターム(参考)】
【公開日】平成21年3月12日(2009.3.12)
【国際特許分類】
【出願日】平成19年8月23日(2007.8.23)
【出願人】(000002897)大日本印刷株式会社 (14,506)
【Fターム(参考)】
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