【課題】大気圧プラズマによる部分的な表面処理を利用して、高い平坦性及び液晶の配向性の均一さを確保した液晶パネルを提供する。
【解決手段】液晶パネルの製造において、透明電極９１を形成した透明なガラス基板９０の全面に亘って配向膜となるポリイミド膜９２を形成し、透明電極の端子部の位置に対応する配向膜の部分を該配向膜の他の部分から仕切るようにマスク７７を配置し、大気圧及びその近傍の圧力下において電極７８と配向膜との間で気体放電を発生させ、この気体放電により所定のガスの励起活性種を生成し、該励起活性種に配向膜の部分を選択的に曝露して除去する。 （もっと読む）

【課題】ウエハのチャージアップを抑制可能な枚葉式のウエハ洗浄装置を提供する。
【解決手段】ウエハ洗浄装置１０は、ウエハ１１を水平に保持するチャック１２と、チャック１２に保持されたウエハ１１に対向するステージ１３とを備える。ステージ１３の表面には、洗浄液を供給する洗浄液供給孔、リンス液を供給するリンス液供給孔および洗浄後の廃液を排出する廃液排出口２４が形成されている。ウエハ１１を回転させることなく、ウエハ表面１１ａとステージ１３との間隙に洗浄液またはリンス液を滞留させて、洗浄またはリンスを行う。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板を真空吸着によってクールプレート上に密着させ冷却処理を行っても、吸着を解除時に、ガラス基板は軋んだり破壊しないガラス基板の冷却方法、及びプリベーク装置を提供する。
【解決手段】ガラス基板６０をクールプレート２１に接近させた位置でリフトピン２３の下降を一旦停止させ、ガラス基板の温度がクールプレートの温度に近づいた時点でリフトピンの下降を再開させ、ガラス基板をクールプレート上に載置し、真空吸着により密着させた冷却を継続して行う。リフトピンの下降を一旦停止させる機構、下降を再開させる機構、真空吸着により密着させた冷却を継続して行う機構を具備する。 （もっと読む）

【課題】 種々の積層構造を有する加工対象物を高精度に切断し得るレーザ加工方法を提供する。
【解決手段】 本レーザ加工方法は、間隙が設けられるように貼り合わされた複数の基板１５，１７を有する加工対象物１において、基板１５の内部に集光点を合わせてレーザ光を照射することで基板１５の内部に改質領域７を形成すると共に、基板１７の内部に集光点を合わせてレーザ光を照射することで基板１７の内部に改質領域７を形成し、これらの改質領域７によって、加工対象物１の切断予定ラインに沿って加工対象物１のレーザ光入射面３から所定距離内側に切断起点領域を形成する工程と、加工対象物１に対して応力を印加することで切断起点領域を切断の起点として切断予定ラインに沿って加工対象物１を切断し、間隙が設けられるように貼り合わされた複数の基板を有する機能素子を複数得る工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】半透過型液晶表示装置において、スペーサの位置制御性を高くして、コントラスト及び輝度を向上させる。
【解決手段】アクティブマトリクス基板２０と、アクティブマトリクス基板２０に対向して配置され、有色の着色層４ａを含むカラーフィルタ層４が設けられた対向基板３０ａと、両基板２０及び３０ａの間に設けられセル厚を規定する複数の球状のスペーサ５と、反射表示を行う反射領域Ｒ、及び透過表示を行う透過領域Ｔをそれぞれ有し、マトリクス状に配列された複数の画素と、対向基板３０ａの各反射領域Ｒに着色層４ａに重ねて設けられ、反射領域Ｒにセル厚を透過領域におけるセル厚よりも薄くするためのクリア層９とを備えた液晶表示装置であって、クリア９層は、着色層４ａの一部を露出させると共に、各スペーサ５を配置させるスペーサ配置部Ｈを有している。 （もっと読む）

【課題】 基板を処理するときの水平面に対する基板の角度を容易に変更することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】 処理槽３３には、処理空間３８が形成される。この処理空間３８には、基板保持部３４と、第１および第２洗浄液噴射ノズル４１ａ，４１ｂと、第１および第２乾燥用気体噴射ノズル４２ａ，４２ｂとが設けられる。基板保持部３４は、処理空間３８内で、基板３２を保持する。第１および第２洗浄液噴射ノズル４１ａ，４１ｂは、基板３２に洗浄液を噴射する。第１および第２乾燥用気体噴射ノズル４２ａ，４２ｂは、基板３２に乾燥用気体を噴射する。姿勢変化手段３７は、処理槽３３の姿勢を変化させる。処理槽３３の姿勢が変化すると、処理槽３３の処理空間３８に設けられる基板保持部３４および各ノズル４１ａ，４１ｂ，４２ａ，４２ｂの姿勢も変化する。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、力学特性に優れる光学フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス転移温度が１５０℃以上のポリマーからなるフィルムを、１軸または２軸の方向に延伸した後、または、延伸しながら、前記ポリマーの架橋反応を行うことを特徴とする光学フィルムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】液晶や有機ＥＬディスプレー用のフィルム基板として利用するに十分な表面平坦性を有する粘土薄膜を製造する方法を提供する。
【解決手段】粘土または粘土と添加剤からなり、粘土粒子が配向して積層した構造を有する粘土薄膜の製造方法であって、粘土または粘土と添加剤を、水、有機溶剤、又は水と有機溶剤との混合溶媒よりなる分散媒に分散させ、粘土ペーストを作製するペースト作製工程と、該粘土ペーストを基材上に塗布し薄膜を形成する塗布工程と、該薄膜を平坦化する平坦化工程と、該薄膜から水、有機溶剤、又は水と有機溶剤を除去する乾燥工程と、該基材から該薄膜を剥離する剥離工程とを有することを特徴とする。粘土薄膜の表面粗さＲａは１００ｎｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】設置環境にかかわらずチャンバ内を効率よく所定の圧力に制御することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】この基板処理装置１は、薬液処理を行うときには、スライドドア１５ｂを閉鎖して薬液処理室１２内を密閉する。そして、薬液処理室１２内の圧力を計測し、その計測結果に基づいて薬液処理室１２内の圧力を調節する。このため、基板処理装置１の設置環境にかかわらず、薬液処理室１２内を所定の圧力に制御できる。また、薬液処理室１２は、チャンバ１０内に部分的に形成された領域である。このため、最小限の領域を対象として、効率よく圧力を制御できる。 （もっと読む）

【課題】歩留まりの向上が容易な液晶パネルの製造方法を提供する。
【解決手段】熱処理された大型ガラス基板51は、熱処理されていない大型ガラス基板に比べ、化学的な研磨による薄板化処理での研磨速度が遅い。４００℃の温度履歴で作製した大型アレイ基板52と、２２０℃以下の温度履歴で作製した大型対向基板54とを張り合わせてからケミカル研磨液に同時に浸漬させて同時に取り出す。大型アレイ基板52の大型ガラス基板51の厚さが大型対向基板54の大型ガラス基板の厚さより厚くなる。液晶パネルの歩留まりを低下させる要因を少なくできる。
（もっと読む）

【課題】 高度の光学的機能を発現することができ、しかも、安価で量産性に優れた光学構造体及びその製造方法並びにそれを備えた表示装置を提供する。
【解決手段】 本発明のプラスチックフィルム基板１は、可視光域の光に対して透明なプラスチックフィルム２の表面に着色層３が形成され、この着色層３には、レーザ光により選択除去してなる開口部４が複数、マトリックス状に形成され、これらの開口部４によりプラスチックフィルム２の表面の一部が露出面５とされていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】非接触支持されるワークの接触／非接触の状態を簡易かつ確実に検査することができる非接触支持装置の検査方法を提供する。
【解決手段】搬送装置は、導電性を有しかつ平坦面である表面部から気体を噴出させる浮上テーブル１２を備え、該浮上テーブル１２による気体の噴出に伴い板状のワークＷが非接触状態で支持される。かかる搬送装置の接触検査に際し、テストワークＷＴを導電性面側を下にして浮上テーブル１２に搭載するとともに、浮上テーブル１２の表面部とテストワークＷＴとにテスタＴを接続する。そして、その状態で浮上テーブル１２から気体を噴出させてテストワークＷＴを浮上状態とし、テスタＴによる計測結果に基づきこれら浮上テーブル１２とテストワークＷＴとの接触の状態を検査する。 （もっと読む）

【課題】簡便な方法で製造可能であり、軽量であり、従来よりもさらに高い耐熱性及び低い線膨張係数をも兼ね備える有機／無機複合体のフィルム、及びそのようなフィルムを簡便に製造する方法、並びにそのようなフィルムを備えた積層フィルム、透明導電性フィルム及びディスプレイ基板を提供する。
【解決手段】有機高分子材料及び無機微粒子を含む有機／無機複合体からなるフィルムであって、ゲル分率が８０％以上であり、荷重０．２Ｎ／ｍｍ²、測定温度５０〜３００℃における伸びが５％以下であることを特徴とするフィルム；有機高分子材料及び無機微粒子を含む樹脂組成物を板状に成形して板状体を得る工程、及び前記板状体を延伸処理及びエネルギー線処理に供する工程を含むフィルムの製造方法；並びに前記フィルムを含む積層フィルム、透明導電性フィルム、フラットパネルディスプレイ素子基板及び液晶ディスプレイ基板。 （もっと読む）

【課題】 液晶装置等の電気光学装置において、ダミー画素と表示画素との境界付近における画質の不連続な変化を防止し且つダミー画素が占める領域の増大を抑制する。
【解決手段】 電気光学装置は、基板上に、画素領域に配置された複数の画素部と、複数のダミー画素領域に夫々配置されたダミー画素部とを備えている。ダミー画素領域の配列ピッチは、画素領域の配列ピッチより小さく、且つ、画素領域の一辺から離れるに従って徐々に小さくなる。ダミー画素領域のうち画素領域に隣接する第１ダミー画素領域の配列ピッチの画素領域の配列ピッチに対する大きさの比率は、第１ダミー画素領域に対して画素領域とは反対側に隣接する第２ダミー画素領域の配列ピッチの第１ダミー画素領域の配列ピッチに対する大きさの比率よりも大きい。 （もっと読む）

【課題】
表面平滑性、耐溶剤性、低熱膨張性及び耐熱性に優れ、フラットパネルディスプレイ素子基板等として有用な有機・無機複合体からなるフィルム等、該フィルム等上に透明導電層が積層された透明導電性フィルム等、及びこの透明導電性のフィルム等を構成要素とするフラットパネルディスプレイを提供する。
【解決手段】
熱可塑性樹脂中に無機微粒子が分散した有機・無機複合体からなる成形体であって、耐溶剤性指数が０．８以上であり、熱可塑性樹脂及び無機微粒子を含む樹脂組成物を溶融成形した後、得られたフィルム状成形物に、相対湿度６５％以下の環境下にてエネルギー線を照射して得られるフィルム等、このフィルム等に透明導電層を積層した透明導電性のフィルム等、この透明導電性のフィルム等を構成要素とするフラットパネルディスプレイ。 （もっと読む）

【課題】 化学的耐久性、低熱膨張性、高歪み点、低比重、高ヤング率などの特性を有し、しかも泡などの欠陥が少なく製造安定性に優れる無アルカリガラスを提供する。
【解決手段】 30〜300℃における平均熱膨張係数が30〜35×10^-7/℃、歪み点が670℃以上、ヤング率が70ＧＰａ以上、比重が2.4未満、液相温度が1200℃未満、10^1.5Ｐａ・ｓの粘度を示す温度が1600℃未満、50℃の濃度1モル/Ｌの硝酸水溶液に50時間浸漬した際の質量減少が1ｍｇ/ｃｍ²未満である無アルカリガラス、および実質的にＢａＯ、ＺｎＯおよびＰｂＯを含まず、ＳｉＯ₂ 65.0〜70.0モル％、Ａｌ₂Ｏ₃ 9.5〜12.5モル％、Ｂ₂Ｏ₃ 8.5〜11.5モル％(ただし、ＳｉＯ₂＋Ａｌ₂Ｏ₃＋Ｂ₂Ｏ₃ 87.5〜90.0モル％)、Ｂ₂Ｏ₃/(ＳｉＯ₂＋Ａｌ₂Ｏ₃) 0.12〜0.14、ＭｇＯ 2.5〜4.0モル％未満、ＣａＯ 5.0〜10.0モル％、ＳｒＯ 0.1〜2.5モル％(ただし、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ 10.0〜12.5モル％)を含む無アルカリガラスである。 （もっと読む）

【課題】 耐熱性を満足しつつ、透明性に優れかつ線膨張率が小さい、樹脂材料を提供する。
【解決手段】 セルロースを含有する不織布（ａ）とセルロース以外の樹脂（ｂ）とからなり、（ａ）成分が０．１重量％以上９９重量％以下であり、（ｂ）成分が１重量％以上９９．９重量％以下であることを特徴とする複合体。セルロースを含有する不織布（ａ）の空孔がセルロース以外の樹脂（ｂ）で充填されていることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 転写技術を用いてデバイス形成を行う場合において、転写不良を低減すること。
【解決手段】 一方面側に剥離層(12)を有する第１基板(10)の当該一方面側に被転写体(14)を形成する第１工程と、第２基板(16)の一方面と上記第１基板の一方面との相互間に接着材(18)を介在させることによって上記第１基板と上記第２基板とを接合する第２工程と、上記第１基板の上記剥離層にエネルギーを付与することによって当該剥離層と上記第１基板との界面又は剥離層層内に剥離を生じさせる第３工程と、上記第１基板と上記第２基板とを分離し、上記被転写体を上記第１基板から上記第２基板へ転写する第４工程と、を含み、上記第１基板として上記第２基板よりも撓みやすいものが用いられる、薄膜デバイスの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】積層製品における基板間の接着材料と流体材料との接触を防ぎ、液体材料の充填及び基板の積層を同時に行いながら基板を接着する積層製品の製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも一方に可撓性がある第１の基板１及び第２の基板７を備える積層製品の製造方法において、壁構造２が配置された第１の主面１９を有する第１の基板１を設け、壁構造２が形成する窪み内に接着材料６の一部を提供し、第２の主面２３を有する第２の基板７を設け、ニップ領域において第１、２の主面が向かい合った状態で第１、２の基板を接合しニップ領域で圧力を加え、壁構造２の外側の流体材料８が、接着材料６及び窪み内のいかなる流体材料からも分離するように基板間に流体材料８を供給し、流体材料８を収容する積層エリアのサイズを増大させるように液体材料８を加えてニップ領域、基板間の相対的移動を生じさせることを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 耐熱性、光学特性および力学特性に優れており、かつ線熱膨張係数が小さなプラスチックフィルムを提供すること。
【解決手段】 ガラス転移温度（Ｔｇ）が２５０℃以上で、２５℃から２５０℃までの測定範囲での線熱膨張係数が−２０〜４０ｐｐｍ／℃で、かつ４２０ｎｍの光線透過率が７０％以上であることを特徴とするフィルム。 （もっと読む）