【課題】異物故障のない、安定した面状の感光層が得られ、プリント配線板、高密度多層板及び半導体パッケージ等の製造に好適に用いられる感光性フィルム及びその製造方法の提供。
【解決手段】本発明の感光性フィルムの製造方法は、バインダー、熱硬化促進剤、及び充填剤としてのシリカ化合物を含む分散液を調製する分散液調製工程と、前記調製された分散液を平均孔径が１０〜３０μｍのフィルターでろ過するろ過工程と、前記ろ過された分散液に重合性化合物及び熱架橋剤を添加して感光性組成物を調製する感光性組成物調製工程と、支持体上に、前記調製された感光性組成物を塗布し、感光層を形成する感光層形成工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】絶縁信頼性及びメッキ耐性を向上することができる感光性組成物、感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板の提供。
【解決手段】本発明の感光性組成物は、バインダー、重合性化合物、熱架橋剤、フィラー、及び光重合開始剤を含有してなり、バインダー、重合性化合物、及び熱架橋剤の混合物のＩ／Ｏ値の重量平均が０．７０以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】レジストパターンの剥離性が良好で、レジストパターンのスソ浮き発生性が少なく、メッキ銅剥がれが少ない感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性樹脂積層体を提供する。
【解決手段】（ａ）酸当量１００〜６００であるアルカリ可溶性樹脂：３５〜７０質量％、（ｂ）光重合可能な不飽和二重結合を有する化合物：２５〜６０質量％、（ｃ）光重合開始剤：０．１〜７質量％、及び（ｄ）特定のメルカプトトリアジン化合物：０．０３〜０．０９質量％、を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】従来の製造方法と比べて、実質的に作業性を向上することができ、金属膜の厚膜形成時でも製造効率の優れたパターンの製造できる転写フィルム、およびパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】支持フィルム上に、（Ａ）レジスト層、（Ｂ）金属層、および（Ｃ）粘着層が積層されていることを特徴とするパターン形成用転写フィルム。 （もっと読む）

【課題】 熱架橋剤としてエポキシ化合物を含み、保存安定性に優れる感光性組成物等の提供。
【解決手段】 本発明の感光性組成物は、バインダーと、光重合開始剤と、不飽和二重結合を少なくとも１つ有する重合性化合物と、熱架橋剤と、を含み、イオン交換樹脂を用いてイオン交換処理が施されていることを特徴とする。前記光重合開始剤は、例えば、オキシム誘導体からなる。前記イオン交換樹脂は、例えば、陽イオン交換樹脂及び陰イオン交換樹脂を混合してなるイオン交換樹脂からなる。該イオン交換処理は、例えば、バッチ法により行う。 （もっと読む）

【課題】メッキ前処理としてデスカム（Ｏ₂プラズマアッシング）処理を行っても、メッ
キ工程時のメッキ応力によるレジストパターンへの押し込みやレジストのクラックを抑制することができ、厚膜のメッキ造形物を精度よく形成することができるとともに、解像度および密着性などに優れるネガ型感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】特定の構造単位を有する共重合体（Ａ）と、式（３）の構造単位を有する化合物（ｂ１）又は式（４）の化合物（ｂ２）を含む架橋剤（Ｂ）と、感放射線性ラジカル重合開始剤（Ｃ）と、有機溶媒（Ｄ）とを含有するネガ型感放射線性樹脂組成物。
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【課題】フォトリソグラフィーによってパターニングした後、２００℃以下の低温でキュアすることができ、耐薬品性、機械特性に優れ（伸度６％以上）、低応力（３５ＭＰａ以下）、低収縮率（２５％以下）、低誘電率（３．２以下）で、溶剤としてγ−ＢＬを利用できるＬＳＩチップのバッファコート用や再配線層用として好適な感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ｉ）脂環式テトラカルボン酸二無水物、環状の脂肪族ジアミン、及び鎖状の脂肪族ジアミンを縮合した構造を有するポリイミド１００質量部に対し（II）３官能以上の多官能光重合性モノマー２０〜２００質量部、（III）光重合開始剤０．０２〜４０質量部を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 現像残りを生じさせない優れた現像性を有する感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造方法及びプリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）アクリル酸ブチルを共重合成分として含有するバインダーポリマー、（Ｂ）エチレン性不飽和重合性モノマ、（Ｃ）光重合開始剤及び増感剤、（Ｄ）下記一般式（１）で表されるベンゾトリアゾール誘導体を有する感光性樹脂組成物。
【化１】


（一般式（１）中、Ｒ^１は水素、炭素数１〜２０のアルキル基、又はアミノアルキル基である） （もっと読む）

【課題】基板を所望の温度で圧着ローラに供給して感光材料層を貼り付け、高品質な感光性積層体を効率的に製造することのできる感光性積層体の製造装置及び製造方法を提供する。
【解決手段】温度調節部１２０は、タッチパネル１１６で設定したラミネート目標温度と、放射温度計９８ａ〜９８ｈで検出したガラス基板２４の温度との差分を算出し、その差分に従って、Ｇって所定の温度パターンを温度パターン記憶部１２４から選択し、出力制御部１２６により各基板加熱部７４ａ〜７４ｅの石英ヒータ管９０ａ〜９０ｄを制御して、ガラス基板２４を加熱する。 （もっと読む）

【課題】疎水性めっき触媒受容領域を形成した基板の所望領域のみに選択的にめっき触媒を吸着させることができる触媒吸着方法、及び、それを用いた金属層付き基板の製造方法を提供する。
【解決手段】重合性基と相互作用性基とを有する化合物を含有し、硬化物が疎水性表面である感光性樹脂組成物を基板上に塗布する工程、パターン状に露光し、該組成物を硬化させる工程、未硬化物を現像除去する工程、及び、該基板に、めっき触媒と有機溶剤とを含有する水性めっき触媒液を接触させる工程、を含み、パラジウムをめっき触媒として含むめっき触媒液を接触させたときの、めっき触媒受容領域における吸着量をＡｍｇ／ｍ^２、未形成領域における吸着量をＢｍｇ／ｍ^２としたとき、下記式（Ａ）、（Ｂ）を満たす。
式（Ａ）：１０ｍｇ／ｍ^２≦Ａ≦１５０ｍｇ／ｍ^２
式（Ｂ）：０ｍｇ／ｍ^２≦Ｂ≦５ｍｇ／ｍ^２ （もっと読む）

【課題】本発明は、現像液と剥離液との溶質を同一材料とすることを目的とするものである。
【解決手段】本発明は、基板上に水溶性の感光性樹脂を形成する工程と、感光性樹脂を露光する工程と、感光性樹脂を現像液を用いて現像する現像工程と、現像工程の後に基板上に残った感光性樹脂を剥離液を用いて剥離する剥離工程と、膜パターンの材料を堆積する堆積工程と、を有する膜パターンの形成方法であって、剥離液と現像液とが同一の溶質からなり、剥離液の溶質の濃度が、現像液の溶質の濃度よりも高いことを特徴とする膜パターンの形成方法である。 （もっと読む）

【課題】 解像度に優れ、高精細なレジストパターンを形成すること。
【解決手段】 本発明のフォトレジストフィルムは、所望のパターンを露光した後に、現像液とガスとからなる混合流体を吹き付けて現像することにより、基板上にレジストパターンを形成する方法に用いられる、少なくとも感光性樹脂組成物層を有するフォトレジストフィルムであって、該感光性樹脂組成物層は、カルボキシル基含有ポリマー（Ａ）、エチレン性不飽和化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）を含有する感光性樹脂組成物からなり、かつ、該感光性樹脂組成物層の波長３６５ｎｍ及び／又は４０５ｎｍでの光線透過率が２５％以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】感度及び解像度が感光性重合体組成物、これを用いたレリーフパターンの製造法および電子部品を提供する。
【解決手段】（ａ）アルカリ水溶液可溶性のポリイミド前駆体であるポリアミド酸エステル又はアルカリ水溶液可溶性のポリイミド、（ｂ）光により酸を発生する化合物及び（ｃ）フェノール性水酸基を有する化合物を含有する感光性重合体組成物。前記（ａ）成分が、３，５−ジアミノ−安息香酸又はビス（３−アミノ−ヒドロキシフェニル）ヘキサフロオロプロパンを含む原料を用いて得られたものであり、前記原料由来のカルボキシル基又はフェノール性水酸基を有し、前記（ｃ）成分が、下記一般式（ＩＩＩ）


で表される化合物。 （もっと読む）

【課題】基板面内において均一な処理が可能で、かつ十分なスループットが得られるリフロー処理装置およびリフロー処理方法を提供すること。
【解決手段】リフロー処理装置１００は、基板Ｇが水平姿勢で搬送される搬送路Ｔと、搬送路Ｔに沿って基板を搬送する搬送機構８，９と、搬送路Ｔを含む搬送空間３に、基板Ｇの全幅に亘って、基板が通過することによりその上のレジストにリフロー処理が施される所定濃度の溶剤雰囲気を有するリフロー処理部Ｐを形成するノズルユニット１０とを具備し、ノズルユニット１０は搬送空間３の所定部分に溶剤を導入する溶剤導入ノズル６およびその所定部分から溶剤を排出する溶剤排出ノズル７を隣接した状態で配置してなり、溶剤導入ノズル６による溶剤の導入および溶剤排出ノズル７による溶剤の排出を調整してリフロー処理部Ｐを形成する。 （もっと読む）

【課題】現像後および加熱硬化後の優れたレリーフパターンを形成するアルカリ現像可能なポジ型感光性樹脂組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性フェノール樹脂、ポリヒドロキシスチレン、またはポリヒドロキシスチレン誘導体である重合物１００質量部に対して、（Ｂ）感光性ジアゾナフトキノン化合物１〜１００質量部、（Ｃ）架橋剤１０〜３０質量部、（Ｄ）下記グループ（１）で表される化合物のうち、少なくとも１つの酸誘導体化合物０．１〜３０質量部、及び（Ｅ）有機溶剤１００〜１０００質量部を含むことを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。
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【課題】めっき耐性の良好なポリイミド樹脂製レジストパターンを得ることができるレジストパターンの形成方法を提供すること。
【解決手段】本発明のレジストパターンの形成方法においては、シロキサン構造を有するアルカリ溶解性ポリイミド（Ａ）及びキノンジアジド構造を有する感光剤（Ｂ）を含む材料で構成されたフィルムを基板上に積層し、前記フィルムに対して露光・現像することにより前記基板上に所定のパターンを有するレジスト層を形成し、前記レジスト層に酸性の薬液に接触させた後に前記レジスト層を硬化させる。 （もっと読む）

【課題】アルカノールアミン系のレジスト除去用組成物では、レジスト除去能力が十分でなく、特に有機溶媒を分解しやすく、しかも半導体、フラットパネルディスプレー材料へのダメージが大きかった。
【解決手段】Ｎ−（シアノアルキル）−Ｎ’−（２−ヒドロキシアルキル）エチレンジアミンを含んでなるレジスト除去用組成物では、レジスト除去能が高く、なおかつ有機溶媒を分解せず、半導体、フラットパネルディスプレー材料へのダメージがない。Ｎ−（シアノアルキル）−Ｎ’−（２−ヒドロキシアルキル）エチレンジアミンとしては、Ｎ−（シアノアルキル）−Ｎ’−（２−ヒドロキシエチル）エチレンジアミン、（２−シアノエチル）−Ｎ’−（２−ヒドロキシエチル）エチレンジアミン、Ｎ−（２−メチル−２−シアノエチル）−Ｎ’−（２−ヒドロキシエチル）エチレンジアミン等が好ましい。 （もっと読む）

【課題】高精細なパターンを形成すること、かつ簡便な工程で形成が可能である導電性パターンの製造方法を提供する。
【解決手段】基材１と、基材上にパターン状に形成された光触媒含有層２とを有する光触媒含有層側基板３と、光触媒含有層中の光触媒の作用により特性が変化する特性変化層５を有するパターン形成体用基板６とを、所定の方向からエネルギーを照射することにより、特性変化層表面に特性の変化した特性変化パターンを形成する特性変化パターン形成工程と、前記特性変化パターンが形成されたパターン形成体用基板表面に、金属ペーストを塗布することにより、パターン状に金属ペーストを付着させる金属ペースト塗布工程と、前記特性変化パターンにパターン状に付着した金属ペーストを固化させて導電性パターンとする導電性パターン形成工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】光の照射により塩基を発生させる際に脱炭酸反応を伴うことがなく、膜強度の高い硬化膜が得られるうえ、高温耐性に優れた感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】光の照射により、脱炭酸反応を伴うことなくアミン化合物を発生する一般式（１）で表される光環化型の光塩基発生剤と、塩基反応性樹脂と、を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物によれば、高温耐性に優れ、膜強度の高い硬化膜が得られる。


［一般式（１）中、Ｚはアミノ基を表す。］ （もっと読む）

【課題】液処理装置の液処理ステージからの処理液の持ち出しを最小限のものとし、かつ基板への処理むらの発生を防止する。
【解決手段】現像ステージＳｔ１の内部に長さ寸法が基板１の幅方向の全長より長い寸法を有する排液ノズル１１が設置されており、その噴射通路１３は搬送される基板１に対して４５度以下となり、噴射口１３ａは基板１に対して平行な整流化面１５に開口しており、整流化面１５と基板１の表面１ａとの間には、均一な隙間Ｇを有するスリット状の通路が形成され、噴射口１３ａより前方側の部位には噴射通路１３の傾斜角より小さい角度の空気呼び込み壁１６が形成されており、噴射通路１３から噴射された加圧空気が噴射口１３ａから噴射する際に、コアンダ効果により整流化面１５への密着性が高くなり、スリット状の通路内でほぼ確実に基板１の表面と平行な流れにとなる。 （もっと読む）