【課題】カラーフィルタの各着色画素の矩形性を向上させ、且つ赤色画素の形成時に残渣が生じないようにする。
【解決手段】支持体上に第１色目として、ドライエッチング法を用いて、ストライプ状の赤色パターン２７を形成後、青色層３３Ｂを形成し、赤色パターン及び青色層をドライエッチングして、青色・赤色画素２０Ｂ，２０Ｒ及び、緑色画素形成領域３９を形成する。次に緑色層を形成し、赤色画素２０Ｒが露出されるまで、支持体の全露出面を平坦化処理する。 （もっと読む）

【課題】現像後の解像性及び密着性並びに耐サンドブラスト密着性に優れ、サンドブラスト用のマスク材として被加工基材に微細なパターンを歩留まりよく加工できる感光性樹脂組成物、感光性樹脂積層体、被加工基材の表面加工方法及びプラズマディスプレイの背面板の製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性高分子化合物：２０〜８０質量％、（Ｂ）特定ポリウレタンプレポリマー：１０〜７０質量％、（Ｃ）少なくとも１つの末端エチレン性不飽和基を有する付加重合性モノマー：５〜６０質量％、及び（Ｄ）光重合開始剤：０．０１〜２０質量％を含有する感光性樹脂組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】直線性に優れた金属パターンを形成する方法、およびその方法に使用することができる転写フィルムを提供すること。
【解決手段】支持フィルム上に、（Ａ）レジスト層、（Ｂ）圧延により形成された金属箔、および（Ｃ）粘着層がこの順に積層されてなり、前記レジスト層（Ａ）の形成時の流れ方向が、前記金属箔（Ｂ）の圧延方向と略平行であることを特徴とする金属パターン形成用転写フィルム。 （もっと読む）

【課題】薄い膜厚でも優れたフッ酸耐性を示す感光性樹脂組成物及び当該感光性樹脂組成物を用いた被加工ガラス基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】上記感光性樹脂組成物は、酸基含有アクリル系樹脂と脂環式エポキシ基含有不飽和化合物との反応により生成したアルカリ可溶性樹脂（Ａ）と、３官能以上のモノマー（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）と、末端に下記式（１）又は（２）で表される基を有するアミノシランカップリング剤（Ｄ）と、を含む。


（ここで、式（１）及び（２）中のＲ^１及びＲ^２はそれぞれ独立して水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基である。） （もっと読む）

【課題】
従来は、一色につき一台づつの現像処理装置であり、Ｒ、Ｇ、Ｂの処理工程のうち一台が停止すると、他の色の基板も処理ができず、稼働時間が低減する、また、上流工程から送られてくる基板におけるレジスト色がＣＩＭからの情報と万一、異なっていたとしてもそれに対処できない。さらに現像液をタイミングよく交換できない、という課題がある。
【解決手段】
本発明は、基板にコートされたレジストの色を検出し、前記検出された色に基づいて現像処理する。また、本発明は、露光等の前処理された基板を、複数の現像処理装置で選択的に処理できる構成とする。さらに、現像・洗浄処理後に残存するレジストの状態を検出するレジスト状態検出し複数有する供給部を選択する。 （もっと読む）

【課題】ダブルパターニング法における第一のレジストパターンに対して行うフリージングプロセスにおいて、フリージング処理によって、（１）第一のレジストパターンの線幅が変動しない、（２）第一のレジストパターンのラインエッジラフネス（ＬＥＲ）が悪化しない、という要件を満たすフリージングプロセス用の表面処理剤およびそれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】カルボジイミド基を有する化合物を含有することを特徴とするレジストパターン形成用表面処理剤。 （もっと読む）

【課題】 モリブデン酸化物を腐食させることなく、モリブデン酸化物層上のフォトレジストを現像できるフォトレジスト用現像液を提供する。
【解決手段】 特定の第四級アンモニウム塩（例えば、水酸化テトラメチルアンモニウム等）と、特定のアルキルアミン（例えば、オクチルアミン等）とを含有するフォトレジスト用現像液を、特にモリブデン酸化物層上のフォトレジストの現像に用いる。 （もっと読む）

【課題】 遮光性を有し、熱処理により退色することのない画像表示装置用の隔壁を、簡便に作業性よく形成することができる感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、画像表示装置の隔壁の形成方法及び画像表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 画像表示装置の隔壁を形成するための感光性樹脂組成物であって、前記感光性樹脂組成物が、（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）光重合性化合物、（Ｃ）光重合開始剤、（Ｄ）無機系黒色顔料及び（Ｅ）界面活性剤を含み、前記（Ｂ）光重合性化合物が、分子内に少なくとも１つの不飽和基及びイソシアヌル環構造を有する光重合性化合物を含有する、感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】現像液の濾過装置に使用する限外濾過フィルターの逆洗浄方法を改良し、濾過効率の向上と限外濾過フィルターの長寿命化を実現する現像液濾過装置を提供すること。
【解決手段】複数の限外濾過フィルターを有する現像液濾過装置であって、限外濾過フィルターの濾液を貯留するＡ、Ｂ、２基の逆洗浄タンクを有し、１つの限外濾過フィルターの濾液を逆洗浄タンクＡに貯留し、この濾液を用いて該限外濾過フィルターの逆洗浄を行う一連の逆洗浄工程と、他の１つの限外濾過フィルターの濾液を逆洗浄タンクＢに貯留し、この濾液を用いて該限外濾過フィルターの逆洗浄を行う一連の逆洗浄工程を含み、該２つの一連の逆洗浄工程を、その時間周期をほぼ２分の１ずらして交互に実施し、現像液濾過装置に含まれるすべての限外濾過フィルターに対して、順次逆洗浄を実施することを特徴とする現像液濾過装置。 （もっと読む）

【課題】現像方式の異なる被処理基板にそれぞれ対応することができ、且つフットプリントの増加を低く抑えることのできる現像処理装置を提供する。
【解決手段】露光処理後の被処理基板Ｇに対し現像処理を施す現像処理装置３０であって、被処理基板Ｇに対する所定の現像処理機構を有する第一の現像処理部３１と、基板搬送方向に沿って、前記第一の現像処理部３１の後段に配列され、前記第一の現像処理部３１とは異なる現像処理機構を有する第二の現像処理部３４と、前記第一の現像処理部３１の上方に設けられ、前記被処理基板Ｇを、前記第一の現像処理部３１をバイパスさせて前記第二の現像処理部３４に搬送する第一の基板搬送部３２と、前記第二の現像処理機構３４の上方に設けられ、前記第一の現像処理機構３１により現像処理が施された被処理基板Ｇを、前記第二の現像処理部３４をバイパスさせて後段に搬送する第二の基板搬送部３５とを備える。 （もっと読む）

【課題】カバーフィルムの剥離性が良好であり、かつ、カバーフィルムをカットする際のカッターの汚れが抑制される感光性転写材料を提供する。
【解決手段】仮支持体と、三角錐の圧子で０．５ｍＮの荷重で測定した際の硬度が１．０以上４．５以下である熱可塑性樹脂層と、感光性樹脂層と、カバーフィルムと、をこの順に有する感光性転写材料である。 （もっと読む）

【課題】ヒートモードの形状変化が可能なフォトレジスト層をレーザ光で除去して凹部を形成する場合において、レーザ光のフォーカスを安定させ、良好に加工を行う。
【解決手段】表面にヒートモードによる形状変化が可能なフォトレジスト層２０を有する基板１０を用意する準備工程と、フォトレジスト層２０にレーザ光を照射してフォトレジスト層２０の一部を除去する露光工程と、を有するパターン形成体の製造方法である。露光工程におけるレーザ光として、フォトレジスト層２０の表面において反射した反射光をＡ、フォトレジスト層２０を介してフォトレジスト層２０と基板１０との界面において反射した反射光をＡ′、フォトレジスト層２０が除去された基板１０の表面部分において反射した反射光をＢとしたとき、ＡとＢの位相差またはＡ′とＢの位相差が±９０°以内となるような波長のレーザ光を用いる。 （もっと読む）

【課題】メンテナンスが容易な基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１００は、インデクサブロック１１、塗布ブロック１２、現像ブロック１３およびインターフェイスブロック１４を備える。塗布ブロック１２は、塗布処理部１２１、搬送部１２２および熱処理部１２３を備える。現像ブロック１３は、現像処理部１３１、搬送部１３２および熱処理部１３３を備える。熱処理部１２３，１３３は、搬送部１２２，１３２から離間する方向に移動可能に設けられる。熱処理部１２３，１３３を移動させることにより、熱処理部１２３と搬送部１２２との間に作業スペース２００が形成され、熱処理部１３３と搬送部１３２との間に作業スペース３００が形成される。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィを利用した微細加工を行うために使用される新規なフォトレジスト用化合物、上記のフォトレジスト用化合物を用いたフォトレジスト液、および上記のフォトレジスト液を使用して所望の表面をエッチングするエッチング方法の提供。
【解決手段】下記一般式(Ａ)で表される化合物。


[一般式(Ａ)中、Ｘ¹およびＸ²は、酸素原子、等を表し、ｍおよびｎは０〜３の範囲の整数を表し、Ｒ¹〜Ｒ³は水素原子または置換基を表し、Ｌ¹およびＬ²は二価の連結基を表す。] （もっと読む）

【課題】 変質層及び堆積層のうちの少なくとも一方からなる阻害層を有する有機膜パターンに対して均一な溶解変形処理を行うことが可能な溶解変形用薬液を提供する。
【解決手段】 溶解変形用薬液は、Ａ）アルカリ成分と、B）アミンを除く有機溶剤と、を含有する。前記Ａ成分が、アミンである。前記Ｂ成分が、アルコール類、エーテル類、 エステル類、 ケトン類、グリコールエーテル類、ニトリル類、及び アミド類の少なくとも何れか１つを含む。 （もっと読む）

【課題】低い露光量（特に２００ｍＪ／ｃｍ^２未満）でパターン形成された際も、解像性に優れ、かつ後工程のポストベークでもパターン矩形性が劣化しない感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】樹脂と、オキシム系光重合開始剤と、紫外線吸収剤と、全固形分中における含有量が３０質量％以上である、水素結合性基を有するモノマーと、を含有し、固体撮像素子の画素形成に用いられる感光性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】もろい材料からなる型を用いての転写成型プロセスに適した、優れた成型性を有する高屈折率感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】下記（ａ）〜（ｄ）成分：（ａ）式：Ｒ^１_２Ｓｉ（ＯＨ）_２で示されるシラノール化合物、式：Ｒ^２_ａＲ^３_ｂＳｉ（ＯＲ^４）_{４−ａ−ｂ}で示されるアルコキシシラン化合物、及び触媒を混合し、積極的に水を添加することなく重合させる方法で得られる、ポリオルガノシロキサン１００質量部、（ｂ）光重合開始剤０．１〜３０質量部、（ｃ）紫外線吸収剤、及びヒンダードアミンを含む光安定剤からなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物０．１〜２０質量部、及び（ｄ）１分子内に１つ又は２つの（メタ）アクリロイル基を有する化合物からなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物１０〜１０００質量部、を含む感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 変質層及び堆積層のうちの少なくとも一方からなる阻害層を有する有機膜パターンに対して均一な溶解変形処理を行うことが可能な溶解変形用薬液を提供する。
【解決手段】 溶解変形用薬液は、アミド類とニトリル類とのうちの少なくとも何れか一方を含有する。前記アミド類がＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドである。前記ニトリル類がアセトニトリルである。 （もっと読む）

【課題】短波長をカットした光源を使用した場合でっても高感度であり、例えば１，０００Ｊ／ｍ^２以下の露光量でも十分なスペーサー形状が得られ、弾性回復性、ラビング耐性、透明基板との密着性、耐熱性等にも優れた液晶表示素子用スペーサーを形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】上記感放射線樹脂組成物は、〔Ａ〕（ａ１）不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸無水物よりなる群から選ばれる少なくとも１種と、（ａ２）前記（ａ１）以外の不飽和化合物の共重合体、〔Ｂ〕重合性不飽和化合物、ならびに〔Ｃ〕下記化合物Ｎｏ．１


に代表される特定のオキシムエステルを含有する。 （もっと読む）

【課題】明度およびコントラストの高い赤色フィルタセグメントを形成しうるカラーフィルタ用赤色着色硬化性組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】（Ａ−１）アントラキノン系赤色顔料、（Ａ−２）アゾ系赤色顔料、（Ａ−３）アゾ系黄色顔料、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）多官能性単量体、（Ｄ）光重合開始剤、（Ｅ）溶剤を含有するカラーフィルタ用赤色着色硬化性組成物。 （もっと読む）