【課題】塗布膜に乾燥ムラが形成されるのを抑えることができる減圧乾燥装置を提供する。
【解決手段】基板１を収容するチャンバ部１０と、前記チャンバ部１０に基板１を収容した状態で基板１の裏面に当接して基板１を支持する基板支持部２０と、前記基板支持部２０を駆動制御する制御装置と、を備える減圧乾燥装置であって、前記制御装置は、チャンバ部１０が減圧乾燥環境下で、前記基板支持部２０を駆動制御することにより、基板支持部２０が基板１裏面に当接する当接位置を変更させる構成とする。 （もっと読む）

【課題】透明性及び耐熱透明性に優れ、誘電率が低く、高い絶縁破壊電圧を有する硬化膜を与える感光性樹脂組成物を提供すること、並びに、透明性及び耐熱透明性に優れ、誘電率が低く、高い絶縁破壊電圧を有する硬化膜及びその形成方法を提供すること。また、透明性及び耐熱透明性に優れ、誘電率が低く、高い絶縁破壊電圧を有する硬化膜を具備する有機ＥＬ表示装置、及び、液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】（Ａ）（ａ）カルボキシスチレン骨格を有するモノマー単位、及び、（ｂ）環状エーテル基、を有するモノマー単位を有するアルカリ可溶性樹脂と、（Ｂ）感光剤と、（Ｃ）溶剤と、を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】感光性樹脂組成物の保存安定性と現像寛容度に優れ、透明性、耐溶剤性及び耐熱性に優れた硬化膜を与える感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（成分Ａ）不飽和カルボン酸及び／又は不飽和カルボン酸無水物に由来するモノマー単位、及び、その他の不飽和化合物に由来するモノマー単位を含有し、エポキシ基及びオキセタニル基のいずれをも含有しないアルカリ可溶性樹脂、（成分Ｂ）ラクトン構造を含有する不飽和化合物に由来するモノマー単位、並びに、エポキシ基及び／又はオキセタニル基を含有する不飽和化合物に由来するモノマー単位を含有する架橋性樹脂、並びに、（成分Ｃ）感光剤、を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルタ基板の製造工程で発生する不良基板からカラーレジストを効率よく除去することが可能なカラーフィルタ基板再生用レジスト剥離液組成物、およびそれを用いたカラーフィルタ基板の再生方法を提供する。
【解決手段】（ａ）無機アルカリ水酸化物および／または第４級アンモニウム水酸化物、（ｂ）アミン化合物、（ｃ）有機溶剤、（ｄ）有機酸およびその塩、（ｅ）残量の水を含む組成とする。
無機アルカリ水酸化物として、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、および水酸化リチウムからなる群より選ばれる少なくとも１種を用いる。
第４級アンモニウム水酸化物として、水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウム、水酸化テトラブチルアンモニウム、水酸化トリメチルベンジルアンモニウム、水酸化トリメチル（２−ヒドロキシエチル）アンモニウムからなる群より選ばれる少なくとも１種を用いる。 （もっと読む）

【課題】安定した感度および解像度で着色パターンを形成し得る方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）顔料、（Ｂ）バインダー樹脂、（Ｃ）エチレン性不飽和結合を有し付加重合可能な化合物および（Ｄ）光重合開始剤を含む着色感光性樹脂組成物からなる層にフォトマスクを介して光線を照射したのち、該層の光線未照射領域を１０ｎｍ／秒以上６０ｎｍ／秒以下の溶解速度で水酸化カリウムを含む現像液に溶解させることを特徴とする着色パターンの形成方法であり、（Ｂ）バインダー樹脂が、式（Ｉ）


で示される化合物と多塩基酸との縮重合物である形成方法。 （もっと読む）

【課題】現像ムラが生じない塗膜を形成し得る着色硬化性樹脂組成物の製造方法を提供すること。
【解決手段】（１）着色硬化性樹脂組成物を構成する成分を混合し、混合物を得る混合工程、（２）混合工程で得られた混合物を攪拌する攪拌工程を含み、さらに攪拌工程で得られた混合物を、（３）２０℃以上４０℃以下の温度で、１０時間以上７２０時間以下静置する保温処理工程及び（４）濾過して濾液を回収する濾過工程を任意の順に含む、着色硬化性樹脂組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】波長３６５ｎｍや４０５ｎｍの光に対する感度が高く、膜内部硬化性に優れた硬化膜を形成可能な重合性組成物を提供する。
【解決手段】芳香環および複素芳香環から選択される単環構造と、カルボニル基と直接結合したオキシム基を含んでなる脂肪族単環構造と、から形成された縮環構造を有するオキシム系重合開始剤、および、（Ｂ）重合性化合物を含有する重合性組成物である。 （もっと読む）

【課題】 品質不具合が起こらず、ランニングコストが低く、プロセス管理が容易な現像装置、現像方法、及び現像液循環方法を提供すること。
【解決手段】 １）現像処理が行われる現像槽と、現像液を収容する現像液循環タンクと、前記現像液循環タンク内の現像液を前記現像槽に送る手段と、前記現像槽において現像処理に使用された後の現像液を前記現像液循環タンクに戻す手段とを備える現像液循環系、２）前記現像液を濾液と濃縮液とに分離する限外濾過フィルタ、及び３）前記現像液循環タンクから一部を取り出された現像液を収容する限外濾過濃縮液タンクと、前記限外濾過濃縮液タンク内の現像液を前記限外濾過フィルタに送る手段と、前記限外濾過フィルタにおいて分離された濃縮液を前記限外濾過濃縮液タンクに戻す手段と、前記限外濾過フィルタにおいて分離された濾液を前記現像液循環系に戻す手段とを備える濾液・濃縮液循環系を具備する現像装置。lang=EN-US> （もっと読む）

【課題】カラーフィルタ製造に用いられる限外濾過ユニットを備えた循環式現像装置において、現像液濃度測定器の精度確認ができ、校正作業負荷を減じ、測定ズレ・バラツキによる品質不具合が生じず、コスト軽減が可能な現像装置を提供する。
【解決手段】少なくとも、（１）現像ユニットと、（２）限外濾過フィルタを使用した濾過ユニットと、（３）濾液の濃度を測定し、現像液原液を補充する現像液濃度調整ユニットと、（４）現像液（濾液）を再度現像に供する現像液循環方式を用いた現像装置において、濾液の濃度測定器が、現像液主成分のＮａ_２ＣＯ_３標準液を自動測定する機能を有し、前記Ｎａ_２ＣＯ_３標準液の自動測定結果に基き、必要に応じて、該濃度測定器の自動校正を行う機構を有する。 （もっと読む）

【課題】高感度で、かつ、スペーサー形成後の密着性に優れたスペーサー用感放射線性樹脂組成物を提供する。また、本発明は、基板との密着性に優れたスペーサー及びその製造方法、並びに該スペーサーを備えた液晶表示素子を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸性基を有する樹脂、（Ｂ）重合性不飽和化合物、並びに（Ｃ）下記一般式（１）で表されるオキシムエステル化合物を含有するスペーサー形成用感放射線性樹脂組成物。


〔一般式（１）中、Ｒ及びＢは各々独立に一価の置換基を表し、Ａは二価の有機基を表し、Ａｒはアリール基を表す。〕 （もっと読む）

【課題】カラーフィルタとして用いたときに様々な原因による信頼性の低下を抑制した表示装置用カラーフィルタを製造する。
【解決手段】プラスチックフィルム上に熱処理してなるカラーフィルタ層を有し、前記カラーフィルタ層を形成するよりも先にカラーフィルタ層形成時の熱処理温度以上の温度で、前記プラスチックフィルムを加熱する表示装置用カラーフィルタの製造方法であり、前記プラスチックフィルムをカラーフィルタ層の形成より先に加熱するに際して、前記加熱を少なくともロール巻き出し装置、加熱炉、ロール巻き取り装置を備える熱処理装置を用いて連続的にロール・ツー・ロールで行う。 （もっと読む）

【課題】三次元表面パターンを有するユニットを形成する方法及びこの方法の使用の提供。
【解決手段】ベース層３上に、第１処理ステップにてフォトレジストを適用。第２処理ステップにて、予め定められたマスキング露光１３をフォトレジスト層９に施す。第３処理ステップにて、フォトレジスト層９の一部を現像除去し、犠牲層領域２５を有する初期表面パターンを得る。第４処理ステップにて、初期表面パターンを覆うコーティング２９、３１を、好ましくは交代層システムとして、特にスパッタリング法で適用。第５処理ステップにて、犠牲層領域２５を不安定化させるため初期表面パターンにエネルギーを適用。第６処理ステップにて、初期表面パターンに予め定められた処理温度にて高圧液体ジェット３３を作用させ、それにて犠牲層領域２５を覆うコーティング２９の少なくとも一部を最終表面パターンを得るために機械的に除去、又は少なくともこじ開ける。 （もっと読む）

【課題】半導体、液晶などの製造工程に使用される現像液などの薬剤を高濃度の原液を超純水などで希釈し、所望の濃度に調整するにあたり、不純物の混入を防ぐことができ、かつ設備がコンパクトな希釈装置を提供する。
【解決手段】薬剤及び希釈液が導入される希釈タンク１を備えている薬剤の希釈装置であって、希釈タンク１に、希釈タンク１内の液体を撹拌するための磁気浮上ポンプ２を設けるとともに、薬剤の濃度を測定する濃度計３を備え、薬剤の所望の濃度に基づいて、上記測定値を上記所望の濃度に近づけるように薬剤の量と希釈液の量を制御する。 （もっと読む）

【課題】パターン構造物（例えば、樹脂ブラックマトリクス）上に重なり部を有する着色パターンの形成に用いたときに、該重なり部における着色パターンの盛り上がりを低減できる感光性着色組成物を提供する。
【解決手段】着色剤、重合性化合物、バインダー、及び溶剤を含み、固形分濃度が７０質量％となるまで濃縮したときの粘度が２５℃において５０Ｐａ・ｓ以下である。 （もっと読む）

【課題】遮光性を有し、解像度及び基板への密着性が良好な画像表示装置用の隔壁を、簡便に作業性よく形成することができる感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、画像表示装置の隔壁の形成方法及び画像表示装置の製造方法の提供。
【解決手段】画像表示装置の隔壁を形成するための感光性樹脂組成物であって、前記感光性樹脂組成物が、（Ａ）（メタ）アクリル酸ブチル及び（メタ）アクリル酸を単量体単位として有するバインダーポリマー、（Ｂ）光重合性化合物、（Ｃ）光重合開始剤、（Ｄ）黒色顔料を含み、前記（Ｃ）光重合開始剤が、アクリジン系化合物、及びベンジルアルキルケタール系化合物を含有する感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】アニオン再生剤を含有しないことによる、形成されたフォトレジストの物性低下防止。
【解決手段】カルボニル基（Ｃ＝Ｏ）を主鎖に有するポリマーに、ジアゾナフトキノン化合物などの光酸発生剤のみを混合して成膜し、紫外線を照射して現像すると、従来よりも低い露光量で、従来と同様のネガ型フォトレジストを形成することができる。即ち、本発明は、基板上に、ヘテロ原子に結合したカルボニル基（Ｃ＝Ｏ）を主鎖に含む縮合型ポリマー及び光酸発生剤を含み、アニオン再生剤を含まないフォトレジスト層を設け、所望のパターンでマスクする段階、このパターン面に紫外線を照射する段階、及び該フォトレジスト層を現像液で処理する現像段階から成り、該現像液がテトラ置換アンモニウムヒドロキシド、低分子アルコール及び水を含む溶媒から成る反応現像画像形成法である。 （もっと読む）

【課題】パターン形成のタクトタイムの短縮を可能とし、またパターン層と誘電体層の一括焼成を可能にし、パターン形成のトータル的低コスト化が可能なパターニング方法を提供することを目的とする。
【解決手段】無機粉末と、カルボキシル基含有樹脂と、ガラスフリットと、溶剤からなるペーストを基板上に塗布する塗布工程と、塗布された前記ペーストを乾燥し、乾燥塗膜を形成する乾燥工程と、レーザー照射により、前記乾燥塗膜にパターンを描画するレーザー照射工程と、アルカリ溶液を用いて、前記パターンを現像する現像工程とを含むパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】レジストの溶剤とリンス液が異なる成分であってもレジストを再利用できる再生レジストの製造方法を提供すること。
【解決手段】使用前レジストを塗布工程Ｓ１０で塗布した後に、残余の使用済レジストを回収し、該使用済レジストから再生レジストを製造する方法であって、使用前レジストの溶剤が主としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）であり、塗布後の使用前レジストに、例えばＰＧＭＥのように、ＰＧＭＥＡより低沸点の他の溶剤を含むリンス液を添加して使用済レジストを得るリンス工程Ｓ２０と、この使用済レジストの回収工程Ｓ３０後に、他の溶剤を所定の濃度以下になるように分留する分留工程Ｓ４０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】レジスト材料に好適な、透明性、耐熱耐光性に優れた塗膜を与えうる、感光性の、新規な硬化性組成物を提供する。
【解決手段】Ａ）塩基性化合物、Ｂ）光酸発生剤およびＣ）１分子中に少なくとも２個のＳｉＨ基を有する変性ポリオルガノシロキサン化合物を含有することを特徴とする硬化性組成物およびその硬化物。 （もっと読む）

【課題】高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンを安定的に形成するために、ネガ画像の形成において、残渣系の欠陥を著しく低減できる、ネガ型現像液を用いたネガ画像形成方法を提供する。
【解決手段】（ア）基板上に、レジスト組成物を塗布する工程、（イ）活性光線又は放射線を照射する工程、及び（エ）ネガ型現像液を用いて現像する工程を含むパターン形成方法であって、ネガ型現像液を２ｍＬ／ｓｅｃ／ｍｍ^２以下の範囲で吐出することを特徴とするネガ画像形成方法。 （もっと読む）