【課題】の目的は、１種類の感放射線性樹脂組成物で層間絶縁膜、保護膜及びスペーサーを形成することが可能であり、さらに、層間絶縁膜、保護膜においては高感度、高平坦性、高密着性、高透過率、スペーサーにおいては高解像度、高感度を達成できる感放射線性樹脂組成物を提供することにある。
【解決手段】
（Ａ）共重合体、（Ｂ）重合性化合物、（Ｃ）感放射線性重合開始剤、（Ｄ）ヒンダードフェノール構造、ヒンダードアミン構造、アルキルホスフェート構造、チオエーテル構造を有する化合物の群から選ばれる少なくとも１つを含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】抵抗値が低いパターンを形成可能な、安価なアルミニウム含有感光性樹脂組成物、および該感光性樹脂組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）アルミニウム粉末、（Ｃ）（メタ）アクリル酸由来の構成単位を５〜２０重量％、アクリル酸エステル由来の構成単位を２５〜９５重量％、およびメタクリル酸エステル由来の構成単位を０〜７０重量％の範囲で有するアルカリ可溶性樹脂、（Ｄ）多官能（メタ）アクリレート、ならびに（Ｅ）光重合開始剤を含有することを特徴とするアルミニウム含有感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明は、下地に与える影響を抑制することができるとともにレジストの剥離性を向上させることができるレジスト剥離装置およびレジスト剥離方法を提供する。
【解決手段】被処理物に形成されたレジストを剥離するレジスト剥離装置であって、前記レジストに亀裂液を供給する亀裂液供給手段と、前記レジストに供給された亀裂液を乾燥させて前記レジストに亀裂を発生させる乾燥手段と、前記亀裂が発生したレジストに剥離液を供給する剥離液供給手段と、を備えたことを特徴とするレジスト剥離装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】低コストでガラス基板上にアライメントマークを形成する方法の提供。
【解決手段】ガラス基板上にポジレジストを塗布した後、該ポジレジストをフォトリソグラフィプロセスにより所定のマーク形状に加工し、その後、該ポジレジストの感光性を低下させる目的でポストベークを行うことを特徴とするガラス基板上にアライメントマークを形成する方法。 （もっと読む）

【課題】遮光部と着色部との密着性に優れ、コントラストに優れた画像表示を行うことが
できるカラーフィルターを提供すること。
【解決手段】本発明のカラーフィルターの製造方法は、基板上に感光性材料および熱硬化
性樹脂を含む遮光部形成用組成物を付与する工程と、感光性材料を露光することにより、
前記遮光部形成用組成物を、現像液に対する溶解性の高い易溶性部と溶解性の低い難溶性
部とを有するものとする工程と、現像により、難溶性部で仕切られた空間としてのセルを
複数個形成する工程と、セル内に着色剤および熱硬化性樹脂を含む着色部形成用材料を付
与する工程と、加熱により、遮光部形成用組成物中に含まれる熱硬化性樹脂を硬化させ遮
光部とするとともに、着色部形成用材料中に含まれる熱硬化性樹脂を硬化させ着色部とす
る工程とを有し、遮光部形成用組成物と着色部形成用材料とは、同種の熱硬化性樹脂成分
を含むものであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】露光されて水と反応することで可溶化される光反応成分を含有するフォトレジストを用いて、フォトレジスト層や各種の基材に微細な凹凸形状を安定して精度よく形成することが可能な凹凸形状の形成方法を提供する。
【解決手段】露光されて水と反応することで可溶化される光反応成分を含有するフォトレジストを基材１１上で固化して、厚さ５μｍ以上のフォトレジスト層１３を形成し（Ｓ２０）、フォトレジスト層１３を露光及び現像することで凹凸形状２０、３０を形成する方法であり、フォトレジスト層１３を形成後、フォトレジスト層１３を所定温度及び所定湿度に保たれた調湿環境内に、所定時間保持した後、露光する。 （もっと読む）

【課題】 得られる硬化物に十分なメルト性を得られながら十分な耐熱性が得られる感放射線性組成物、これを用いて形成されるマイクロレンズおよびその形成方法の提供。
【解決手段】 感放射線性組成物は、（Ａ）成分：不飽和二重結合基を有するポリシロキサンと、（Ｂ）成分：上記（Ａ）成分以外のポリシロキサンと、（Ｃ）成分：少なくとも２つ以上のメルカプト基を有する有機化合物と、（Ｄ）成分：感放射線剤と、（Ｅ）成分：溶剤とを含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】波長８００〜１０００ｎｍの近赤外線を吸収し、また、微細パターンを形成することが可能な近赤外吸収材用感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】近赤外線領域に吸収極大波長を有するフタロシアニン化合物を含む着色剤（Ａ）、バインダー樹脂（Ｂ）、光重合性化合物（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）及び溶剤（Ｅ）を含む近赤外吸収材用感光性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】優れた光学特性を有する光学部材の表面加工用の成形型調製に用いられるエッチングレジスト、該エッチングレジストを用いて得られる成形型の製造方法、及び該製造方法により得られる成形型を提供すること。
【解決手段】金属化合物として金属窒化酸化物を含有してなるエッチングレジスト。本発明のエッチングレジストの一態様としては、金属窒化酸化物が層を形成し、該金属窒化酸化物の層に加えて第１発熱層及び第２発熱層を含有し、これらが第１発熱層、金属窒化酸化物層、及び第２発熱層がこの順に積層されている態様が例示される。 （もっと読む）

【課題】基板の全面にわたって均一な品質の処理を行うことができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置は、基板を回転可能に保持する回転保持機構と、基板に処理液を吐出する吐出口を有する洗浄液ノズルと、前記洗浄液ノズルを平面視で基板Ｗの略中心と周縁との間で移動する洗浄液ノズル用移動機構と、回転保持機構と洗浄液ノズル用移動機構を制御して、基板を回転させ、かつ、処理液供給部を移動させて、処理液供給部から吐出された処理液を基板Ｗの全面に対して直接着液させる制御部と、を備えている。そして、処理液を基板Ｗの全面に対して直接着液させることで、基板Ｗの全面にわたって均一な処理を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】限外濾過ユニットを備えた循環式現像装置で、連続稼動・運用時の膜リークを早期に発見出来、膜リーク発生時に限外濾過フィルタ交換等の対応を早急に実施でき、現像工程起因の不良品の発生を減少させることが出来る現像装置及び現像方法を提供する。
【解決手段】（１）現像ユニットと、（２）複数の限外濾過フィルタを使用して現像液を濾過する濾過ユニットと、（３）濾液の濃度を測定し、現像液原液を補充して濃度を調整する現像液濃度調整ユニットと、（４）濃度調整された現像液（濾液）を再度現像に供するため、リザーブタンクに送液し、現像タンクに送液して再利用する手段とを備えた現像液循環ユニットと、から構成される現像液循環方式の現像装置において、前記濾過ユニット通過直後、前記濾液リザーブタンク貯留前の濾液の成分変動を測定することで、前記限外濾過フィルタの膜リークを経時で監視する機構を具備する。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルタ製造に用いられる限外濾過ユニットを備えた循環式現像装置であって、連続稼動・運用時の効率的な限外濾過フィルタの洗浄、再生が可能な現像装置を提供し、かつ、限外濾過ユニット全体の高寿命化が実現できる現像方法を提供する。
【解決手段】（１）現像ユニットと、（２）複数の限外濾過フィルタを使用して現像液を濾過する濾過ユニットと、（３）濾液の濃度を測定し、現像液原液を補充して濃度を調整する現像液濃度調整ユニットと、（４）濃度調整された現像液（濾液）を再度現像に供するため、リザーブタンクに送液し、現像タンクに送液して再利用する手段とを備えた現像液循環ユニットと、から構成される現像液循環方式の現像装置において、濾過ユニットに、限外濾過フィルタの再生用薬液を供給可能に、薬液供給用配管経路を具備する。 （もっと読む）

【課題】ダブルパターニング法において、第一のレジストパターンに対して行うフリージング処理及び第二のレジストパターンの形成による、第一のレジストパターンの線幅並びにＬＷＲの変動を抑制することができるフリージングプロセス用の表面処理剤及びそれを用いたレジストパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）エポキシ骨格あるいはオキセタン骨格を有する化合物、及び（Ｂ）化合物（Ａ）及びレジストパターンに対して不活性な樹脂またはオリゴマー、を含有することを特徴とするレジストパターン形成用表面処理剤。 （もっと読む）

【課題】高密度かつ高テーパ角の微細凹凸形状を形成することができる微細構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】非感熱性の無機レジストを主成分とする感熱層を基材上に形成し、感熱性の無機レジストを主成分とする非感熱層を感熱層上に形成する。感熱層を露光、現像し、感熱層に所定のマスクパターンを形成する。マスクパターンを用いて非感熱層をエッチングすることにより、微細凹凸パターンを基材上に形成する。 （もっと読む）

【課題】 感光性ペースト組成物およびパターン形成方法に関する。より詳しくは、フ
ラットパネルディスプレイなどのディスプレイパネル、電子部品の高度実装材料および太
陽電池材料などに用いられる電極などの微細なパターンを有する回路基板の製造において
、高感度かつ高精度のパターンを形成する場合に好適に使用することができる感光性ペー
スト組成物およびパターン形成方法を得る。
【解決手段】 表面の少なくとも一部がケイ素酸化物、ジルコニウム酸化物およびチタニウム酸化物から選ばれる少なくとも１種で被覆されてなるアルミニウム粉末（Ａ）、
ガラス粉末（Ｂ）、
アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）、
多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）、および
光重合開始剤（Ｅ）
を含有することを特徴とする感光性ペースト組成物 （もっと読む）

【課題】高い放射線感度を有し、現像工程やラビング工程においてパターンが剥離することがなく、液晶表示素子に使用したときに「焼き付き」を起こさないスペーサーまたは保護膜を形成することができ、しかもスリット塗布方式において塗布ムラの低減が可能であり、保存安定性に優れた感放射線性樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）重合性不飽和化合物、および（Ｃ）感放射線性重合開始剤を含有し、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂が、重合性不飽和カルボン酸および／または重合性不飽和カルボン酸無水物を含む単量体を、下記式（１）で表される化合物の存在下で重合する工程を経て製造された共重合体を含む感放射線性樹脂組成物によって達成される。
【化１】


〔式（１）において、Ｚ^１およびＺ² は相互に独立に炭素数４〜１８のアルキル基または置換されていてもよいベンジル基を示す。〕 （もっと読む）

【課題】優れた屈折率変調能を有し、体積収縮が極めて小さく、回折効率の高い体積型ホログラム記録用感光性組成物を提供する。
【解決手段】本発明の体積型ホログラム記録用感光性組成物の製造方法は、光カチオン重合性化合物（Ａ）、バインダーポリマー（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）、及び増感色素（Ｄ）を配合して体積型ホログラム記録用感光性組成物を調製する方法であって、前記光カチオン重合性化合物（Ａ）として、予め沸点以下の温度で加熱処理を施したものを用いることを特徴とする。前記光カチオン重合性化合物（Ａ）としては、分子内にエポキシ基、ビニルエーテル基及びオキセタニル基からなる群より選択された少なくとも１種のカチオン重合性基を１又は２以上有する化合物が好ましい。 （もっと読む）

【課題】放射線に対する高い感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有する感放射線性樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、［Ａ］アルカリ可溶性樹脂、［Ｂ］１，２−キノンジアジド化合物、及び［Ｃ］分子中に少なくとも１個のエチレン性不飽和結合を有し、かつトリメチロールプロパン若しくはペンタエリスリトールに由来する骨格、又はイソシアヌレート骨格を有する化合物を含む感放射線性樹脂組成物である。［Ａ］アルカリ可溶性樹脂は、（ａ１）不飽和カルボン酸及び／又は不飽和カルボン酸無水物、並びに（ａ２）エポキシ基含有不飽和化合物を含む不飽和化合物の共重合体であってよい。 （もっと読む）

【課題】放射線に対し高い感度を有し、密着性、高耐熱性、解像度、高透過率、高信頼性の層間絶縁膜を形成でき、またマイクロレンズの形成に用いる場合にあっては高い透過率と良好なメルト形状を有するマイクロレンズを形成でき、保存安定性に優れた感放射線性樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、（Ａ）共重合体、（Ｂ）１，２−キノンジアジド化合物を含有する感放射線性樹脂組成物であって、（Ａ）共重合体が、（ａ１）不飽和カルボン酸及び／又は不飽和カルボン酸無水物、並びに（ａ２）エポキシ基含有不飽和化合物を含む単量体を、下記式（１）で表される化合物の存在下で重合する工程を経て製造された共重合体を含む感放射線性樹脂組成物によって達成される。
【化１】



〔式（１）において、Ｚ^１およびＺ² は相互に独立に炭素数４〜１８のアルキル基または置換されていてもよいベンジル基を示す。〕 （もっと読む）

【課題】表面欠陥の発生を抑制したパターン形成方法の提供。
【解決手段】露光後、レジスト表面に酸性の膜を形成させてから、加熱処理を行い、現像をするパターン形成方法。ＡｒＦエキシマーレーザーなどの短波長光や液浸リソグラフィーなどの非常に微細なパターンを形成する場合に用いられる。 （もっと読む）