【課題】ディスプレイの輝度向上の為にカラーフィルタに設けられる白色画素形成用の密着性の低さから困難であった、透過率の高い感光性白色組成物を密着性を保ちながら提供すること。
【解決手段】基板上に少なくともブラックマトリックス、複数色の着色画素と白色画素を有するカラーフィルタにおいて、前記白色画素を形成する感光性白色組成物が、少なくとも透明樹脂（Ａ）、光重合性モノマー（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）、体質顔料（Ｄ）、溶剤（Ｅ）からなり、透明樹脂（Ａ）と光重合性モノマー（Ｂ）の質量比率（Ｂ／Ａ）が０．５０〜１．２９の範囲で、かつ光重合性モノマー（Ｂ）と光重合開始剤（Ｃ）の質量比率（Ｃ／Ｂ）が０．２１〜０．８０の範囲である。 （もっと読む）

【課題】新液の使用量を抑えることができ、且つ、現像液の劣化によるフィルターの目詰まりを起こしずらい大型のカラーフィルタ形成用基板の現像処理装置を提供する。
【解決手段】ワーク８０を、処理面を上にして、搬送方向に直行する方向において水平から傾けた状態で搬送する搬送手段を有し、現像処理槽１０内の搬送方向の各位置においてワークが浴びた現像液４１ａを、ワーク処理面の傾斜に沿い流してワークから垂れ流すもので、現像処理槽１０内、底部と搬送されるワークとの間の位置に、搬送方向の所定の位置範囲においてワークから垂れ流された現像処理後の現像液４１ａを受けて回収し、回収した現像処理後の現像液４１ｂを廃液ラインへと流す、廃液回収手段６１を配している。 （もっと読む）

【課題】フェイルセーフ機構等の作動により動作が停止した場合であっても、基板上の現像液を除去することが可能な現像装置およびこれを備える塗布現像処理システムを提供する。
【解決手段】開示される現像装置は、基板を搬送する搬送機構と、前記搬送機構により搬送される前記基板に現像液を供給する現像液供給部と、前記現像液供給部に対し、前記搬送機構により搬送される前記基板の搬送方向の下流側に設けられ、前記現像液が供給されて表面が前記現像液で覆われた前記基板が前記搬送機構により搬送される現像領域と、前記現像領域において、前記搬送機構が停止したときに前記現像領域に在る前記基板に対して洗浄液を供給する洗浄液供給部とを備える。 （もっと読む）

【課題】気流制御を通して基板を均一に加熱することが可能な加熱処理装置およびこれを備える塗布現像装置を提供する。
【解決手段】基板を収容可能で、前記基板Ｓが通過する第１の搬入口６２Ｉおよび第１の搬出口６２Ｏを有する筐体と、前記第１の搬入口６２Ｉから前記第１の搬出口６２Ｏへ向かう方向に前記基板Ｓを搬送する第１の搬送機構と、前記第１の搬送機構により前記筐体内を搬送される前記基板Ｓを加熱するヒータ７２と、前記筐体に設けられる排気口であって前記第１の搬入口６２Ｉおよび前記第１の搬出口６２Ｏから前記排気口に至る気流を形成可能な当該排気口と、前記第１の搬入口６２Ｉおよび前記第１の搬出口６２Ｏの一方または双方に臨んで設けられ、吸気により前記気流を調整する当該吸気口とを備える加熱処理装置が開示される。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルタ用ガラス基板の再生において、ガラス基板の全面研磨を行うことなく、パターン形成の構成物である樹脂などの残渣を削除するカラーフィルタ用ガラス基板の再生装置及び方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板上に、少なくとも感光性黒色樹脂からなる遮光層及び感光性着色樹脂層でパターン形成されたカラーフィルタ用ガラス基板の再生方法であって、該パターン形成の不具合部を、水性の洗浄液を用いた前記遮光層及び感光性着色層の樹脂剥離、除去、洗浄手段と、その後の水洗洗浄及び乾燥手段と、さらに、欠陥検査機による残渣の検出手段と検出手段で画像認識された残渣を、レーザー照射で除去する手段を具備してなることを特徴とするカラーフィルタ用ガラス基板の再生装置である。 （もっと読む）

【課題】洗浄液としてのキレート過水液の濃度変化を抑制することが可能であり、その結果、使用するキレート過水液の材料費を低減することが可能な基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】基板洗浄装置１Ａは、循環路と、濃度センサ２１と、制御部２６とを備える。循環路は、キレート過水液１００を用いてガラス基板２００の洗浄を行なう洗浄槽１０と、キレート過水液１００を一時的に貯留する貯留槽１６と、これら洗浄槽１０および貯留槽１６を接続する送り管１８および戻し管１５とを含んでいる。濃度センサ２１は、キレート過水液１００の濃度を検出するためのものであり、送り管１８に設けられている。制御部２６は、濃度センサ２１によって検出された濃度情報に基づいて所定量の純水を貯留槽１６に供給することでキレート過水液１００の濃度管理を行なう。 （もっと読む）

【課題】再生レジスト中の固形分濃度を加熱残分法によらずに迅速に精度よく決定する手段を提供し、その上で膜厚のバラツキが小さくなるようにレジスト粘度を調整する手段を提供することである
【解決手段】回収した使用済みレジストの粘度を、溶剤を添加して目標とする粘度よりは高く設定された所定の粘度まで下げる工程、希釈したレジストの固形分濃度を、予め求めてある屈折率と固形分濃度の関係を示す検量線に基づいて算出する工程、固形分濃度が所定の値になるまで希釈したレジストに水を添加する工程、屈折率の測定と粘度の測定を行いつつ、溶剤と水で希釈したレジストが目標の粘度と固形分濃度になるまでさらに溶剤を添加する工程、とを有することを特徴とする使用済みレジストの調整方法及びその装置である。 （もっと読む）

【課題】現像処理を行うことなくパターン形成ができ、また、ラビング処理等による問題も改善され、液晶配向膜等に最適なパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】本発明に係るパターン形成方法は、ポリイミド膜によるレリーフパターンを形成するに際し、３５０℃以上の耐熱性を保持した上で、現像処理を施すことなく、添加する光酸発生剤または光塩基発生剤の選択により、露光部が未露光部に対して断面視で凹になるレリーフパターンや露光部が未露光部に対して断面視で凸となるレリーフパターンを形成することができる。また、本発明で得られたパターン（ポリイミド膜）は、レリーフパターンとされた状態で分子配向しているので、液晶を配向させるためのラビング処理を施すことなく、液晶配向膜等として最適なレリーフパターンを提供することができる。 （もっと読む）

【課題】簡便な方法で、十分な処理効果を得ることができるフォトリソグラフィー工程排水の処理方法を提供する。
【解決手段】フォトリソグラフィー工程排水に疎水性官能基を有するカチオン性有機高分子凝集剤を添加した後、固液分離処理を行う。 （もっと読む）

【課題】熱リソグラフィによってネガ型のパターンを形成する。
【解決手段】基板上に、オキソノール系色素からなるレジスト層を形成し、形成されたレジスト層上に走査速度１ｍ／ｓ以上３０ｍ／ｓ以下でレーザー光を走査し、レーザー光が走査されたレジスト層を、アルコールを主成分とする現像液で現像する。 （もっと読む）

【課題】基板表面上に吐出された処理液の滞留を防止し基板全面における処理の均一化を有効に達成できる基板処理装置を提供する。
【解決手段】スプレーパイプ部２２と、スプレーパイプ部２２の長手方向に一列に互いに近接して形設され処理液をその吐出口２６から基板Ｗの表面１０２へ吐出する複数のノズル部２４から構成される複数のスプレーノズル１４とを備える基板処理装置において、基板Ｗの表面１０２に対する複数のノズル部２４の吐出口２６の対向角度を、水平姿勢で搬送される基板Ｗの表面１０２の基板搬送方向Ｘに関して交差する方向における中央部付近から両端部付近にかけて、鉛直線に対して漸次大きくなるように、複数のノズル部２４を複数のスプレーパイプ部２２に形設することにより、基板Ｗの表面１０２上において吐出後の処理液の積極的な液流れを発生させる。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は感度及び解像性に優れる感放射線性樹脂組成物、並びにムラが少なく、透明性、現像密着性、比誘電率等に優れる層間絶縁膜を提供することである。
【解決手段】［Ａ］共重合体、［Ｂ］重合性不飽和化合物、［Ｃ］感放射線性重合開始剤及び［Ｄ］有機溶媒を含有し、［Ａ］共重合体が（Ａ１）構造単位、（Ａ２）構造単位、（Ａ３）構造単位、並びに（Ａ４）構造単位を含み、［Ａ］共重合体における（Ａ１）構造単位の含有割合が１モル％以上４０モル％以下、（Ａ２）構造単位の含有割合が１モル％以上１５モル％以下、（Ａ３）構造単位の含有割合が１モル％以上７０モル％以下、及び（Ａ４）構造単位の含有割合が１モル％以上３０モル％以下である感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、保存安定性と低温焼成とを両立し、かつ十分な感度を有する感放射線性樹脂組成物、耐溶媒性、比誘電率及び硬度に優れる層間絶縁膜、保護膜又はスペーサーとしての硬化膜、この硬化膜の形成方法、耐熱性、耐溶媒性、電圧保持率等に優れるカラーフィルタ、並びにこのカラーフィルタの形成方法を提供することである。
【解決手段】本発明は、［Ａ］（Ａ１）不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物と、（Ａ２）水酸基含有不飽和化合物とを共重合してなるアルカリ可溶性樹脂、［Ｂ］エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、［Ｃ］感放射線性重合開始剤、並びに［Ｄ］ブロックイソシアネート化合物を含有する感放射線性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】基板の端部領域におけるレジスト表面難溶化層の剥離及び再付着で生じるスジ状欠陥の発生を抑制する。
【解決手段】基板１の板厚中心に位置する中央面を含む仮想平面１ｂより上方に位置する上方吹き出し部２ａから、基板を乾燥させるための第１の気流４を基板に向けて斜め下向きに供給し、かつ仮想平面より下方に位置する下方吹き出し部２ｂから、基板を乾燥させるための第２の気流５を基板に向けて斜め上向きに供給しながら、基板が上方吹き出し部と下方吹き出し部との間を、端部領域を基板先頭部として通過するように、上方及び下方吹き出し部と、基板と、を相対移動させる。第２の気流の仮想平面と垂直な上向きの速度成分が、第１の気流の仮想平面と垂直な下向きの速度成分より小さくなるように第１及び第２の気流を制御する。 （もっと読む）

【課題】誘電率が低く、かつ、ヤング率及び耐熱性が高いパターン膜（以上、例えば、半導体素子デバイス等における層間絶縁膜に適した性能）を、高解像度で形成可能な感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、及び、パターン膜を提供する。更に、該感光性組成物を用いて製造される反射防止膜及び絶縁膜、並びに、これらを用いた光学デバイス及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】（Ａ）重合性基とかご状シルセスキオキサン構造を有する重合体と、（Ｂ）ＳｉＨ結合を有する化合物と、（Ｃ）光重合開始剤とを含有する感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、反射防止膜、絶縁膜、光学デバイス及び電子デバイス。 （もっと読む）

【課題】レジストの組成を変化させること無く、またプラズマ照射装置のような特別な装置を必要とせず、パターニングの精度を維持しつつ、インクの塗布量を確保することが可能な液滴塗布基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の液滴塗布基板の製造方法は、基板の一面上にレジスト層がパターン形成されてなる液滴塗布基板の製造方法であって、前記基板の一面を覆うように化学増幅型のレジストを塗布しレジスト層を形成する工程Ａと、前記レジスト層を所定のパターンで露光する工程Ｂと、前記レジスト層の表面を、フッ素を有する高分子を含有する修飾剤を用いて修飾する工程Ｃと、前記レジスト層を現像する工程Ｄと、を少なくとも順に備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】プラズマディスプレイパネルを製造するために用いる縦形現像装置において、基板に塗布される現像液のムラを低減した現像装置および現像方法を提供することを目的としている。
【解決手段】現像液を噴霧する現像室１７と、基板２２を洗浄する洗浄室１９と、現像室に現像液を供給する現像液供給系統と、予め感光性材料が配され所定のパターンに露光照射処理を施された基板２２を現像室１７から次の洗浄室１９に搬送する搬送ベルト２１とを備えた現像装置において、現像室１７から洗浄室１９にて基板表裏全体が水洗いされ、基板２２に付着した現像液や現像時に剥離した樹脂成分等を基板表面から洗い流しており、搬送方向に配列するｎ個のエアカット１８ａ・・・１８ｎのノズル幅をＷ１＞Ｗ２・・・＞Ｗｎにして、基板２２の現像液を除去する構成である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高い放射線感度を有し、また塗布ムラのない高度な平坦性（膜厚均一性）を有する表示素子用スペーサーを形成でき、さらに高速塗布が可能な感放射線性組成物、表示素子用スペーサー及びその形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、［Ａ］（メタ）アクリロイル基及びカルボキシル基を含有する芳香族樹脂、［Ｂ］重合性不飽和化合物、［Ｃ］感放射線性重合開始剤、並びに［Ｄ］有機溶媒を含有し、固形分濃度が１０質量％以上３０質量％以下であり、２５℃における粘度が２．０ｍＰａ・ｓ以上１０ｍＰａ・ｓ以下であり、かつ［Ｄ］有機溶媒として、少なくとも（Ｄ１）２０℃における蒸気圧が０．１ｍｍＨｇ以上１ｍｍＨｇ未満の有機溶媒を含む感放射線性組成物である。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、容易に微細かつ精巧なパターンを形成でき、保存安定性と短時間での低温焼成とを両立し、かつ十分な放射線感度及び現像性を有する感放射線性樹脂組成物、並びに耐熱性、圧縮特性等の要求特性に優れる硬化膜及び硬化膜の形成方法を提供することである。
【解決手段】［Ａ］（Ａ１）不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群より選択される１種以上と、（Ａ２）エポキシ基含有不飽和化合物とを含む単量体を共重合してなるアルカリ可溶性樹脂、［Ｂ］エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、［Ｃ］感放射線性重合開始剤、並びに［Ｄ］下記式（１）で表される化合物を含有する感放射線性樹脂組成物。
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【課題】基板の処理を行う処理部を複数備えた基板処理装置において、複数の基板処理を効率よく行う。
【解決手段】現像装置３０は、ウェハＷを保持して回転させるスピンチャック２１０と、ウェハＷの側方を囲むように設けられたカップ体２２０とを備えた処理部１３０と、ウェハＷ上に第１の現像液を吐出する第１の現像液ノズル１５１と、ウェハＷ上に第２の現像液を吐出する第２の現像液ノズル１５２と、第１の現像液ノズル１５１と第２の現像液ノズル１５２を共に支持する共有アーム１５０とを有している。第１の現像液ノズル１６１から斜め下方に吐出される第１の現像液の吐出方向と第２の現像液ノズル１６２から斜め下方に吐出される第２の現像液の吐出方向は、平面視において、それぞれウェハＷの回転方向と同一方向である。 （もっと読む）