【課題】高い放射線感度を有し、低露光量であっても所望のパターン寸法を有し且つ強度に優れるパターン状薄膜が得られ、短い時間で現像可能である感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）下記一般式（１）で表される化合物群から選択される少なくとも１種の（メタ）アクリレート化合物、及び（Ｃ）感放射線性重合開始剤を含有する感放射線性樹脂組成物。


式（１）中、Ｘは各々独立に、アクリロイル基、メタクリロイル基のいずれかを表す。 （もっと読む）

【課題】処理室内部の雰囲気が外部に漏洩することを確実に防止することができるとともに、処理室内のメンテナンスを外部から容易に行うことができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】塗布処理室２１は、縦フレームＦａを含むフレームにより形成された開口部２１ｚを有する。フレームには開口部２１ｚを開閉可能にメンテナンス用扉Ｄが設けられる。開口部２１ｚを取り囲むように、フレームに溝付きトリム５０１が設けられる。溝付きトリム５０１は、開口部２１ｚがメンテナンス用扉Ｄにより閉塞された状態でメンテナンス用扉Ｄに接触することによりメンテナンス用扉Ｄに対向する溝５０１ｇを有する。開口部２１ｚがメンテナンス用扉Ｄにより閉塞された状態で、溝付きトリム５０１の溝５０１ｇとメンテナンス用扉Ｄとにより形成された空間の雰囲気が吸引ユニットにより吸引される。溝５０１ｇの内側の空間が外部に対して陰圧に保たれる。 （もっと読む）

【課題】高い粘度を有すると共に、現像残渣の発生を抑制することのできる感光性組成物を提供することにある。また、良好な形状のパターンを有する焼成体を容易に得ることのできる焼成体の形成方法および良好な形状の構成要素を容易に形成することのできるフラットディスプレイパネルの製造方法を提供することにある。
【解決手段】感光性組成物は、（Ａ）少なくともガラス粉末を含有する無機粒子、（Ｂ）アルカリ可溶性重合体、（Ｃ）特定の多官能アクリレート化合物および（Ｄ）光重合開始剤を含有してなることを特徴とする。また、この感光性組成物は、官能基数２〜３のアクリレート化合物を含有することが好ましい。焼成体の形成方法およびフラットディスプレイパネルの製造方法においては、上記の感光性組成物を材料として用いることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】塗布性に優れ、かつ感光特性等の感光性層間絶縁膜材料としての基本的性能が十分に高い感光性樹脂組成物、この組成物を用いたシリカ系被膜の形成方法、並びにこの方法により形成されるシリカ系被膜を備える半導体装置、平面表示装置及び電子デバイス用部材を提供する。
【解決手段】（ａ）成分：下記一般式（１）で表される化合物を含むシラン化合物を加水分解縮合して得られるシロキサン樹脂と、（ｂ）成分：（ａ）成分が溶解する溶媒と、（ｃ）成分：フェノール類又はアルコール類とナフトキノンジアジドスルホン酸とのエステル化合物と、（ｄ）成分：界面活性剤とを含有する感光性樹脂組成物。


［式（１）中、Ｒ^１は有機基を示し、Ａは２価の有機基を示し、Ｘは加水分解性基を示し、同一分子内の複数のＸは同一でも異なっていてもよい。］ （もっと読む）

【課題】樹脂組成物溶液中に含まれるディフェクト要因となり得る微粒子を効果的に除去できディフェクトの発生を抑制することができる樹脂組成物溶液の製造方法、及び製造装置を提供する。
【解決手段】樹脂組成物溶液を収容するタンク１０に収容された樹脂組成物溶液を、タンク１０から排出し、送液手段及びろ過手段を有する循環経路にて循環ろ過させる樹脂組成物溶液の製造方法である。送液手段として、ダイアフラムポンプ１３を使用し、さらに、ダイアフラムポンプ１３の下流のポンプ吐出ライン２８ｐに第１のダンパー３０を有する循環経路にて循環ろ過を行う製造方法である。ダイアフラムポンプ１３に、第２のダンパー１３ｃを備えることがさらに好ましい。 （もっと読む）

【課題】撥液性に優れる硬化膜を形成することができるポジ型感光性組成物、該組成物による硬化膜、及び該硬化膜を有する表示素子を提供する。
【解決手段】フッ素を含むシルセスキオキサン基とアルカリ可溶性官能基とを有する、フッ素を含む重合体（Ａ）及び１，２−キノンジアジド化合物（Ｂ）を含有する感光性組成物を構成し、該組成物を焼成して硬化膜を形成し、該硬化膜を有する表示素子を提供する。 （もっと読む）

【課題】基板の処理中に異常が生じた場合に当該基板に損傷が加わることを抑制または防止できる枚葉型の基板処理装置および異常処理方法を提供すること。
【解決手段】基板処理装置は、１枚の基板を保持して回転させるスピンチャックと、スピンチャックに保持された基板に薬液を供給する薬液ノズルと、スピンチャックに保持された基板にリンス液を供給するリンス液ノズルと、基板処理装置の異常を検知する異常検知手段と、異常処理手段としてのメイン制御部とを備えている。基板の薬液処理中に基板処理装置に異常が生じると、異常検知手段により異常が検知され（ステップＳ４１）、メイン制御部によりリンス液ノズルが制御されて、異常処理の一工程としてのリンス処理が基板に行われる。これにより、基板表面から薬液が排除される。 （もっと読む）

【課題】解像性に優れ、低コストで、塩基性物質によって又は塩基性物質の存在下での加熱によって最終生成物への反応が促進される高分子前駆体の構造上適用可能な選択肢の範囲が広い感光性樹脂組成物及びその様な感光性樹脂組成物に利用可能な塩基発生剤を提供する。
【解決手段】塩基性物質によって又は塩基性物質の存在下での加熱によって最終生成物への反応が促進される高分子前駆体、及び、特定の構造を有し、電磁波の照射と加熱により、塩基を発生する塩基発生剤を含有することを特徴とする、感光性樹脂組成物、並びに特定の構造を有し、電磁波の照射と加熱により、塩基を発生することを特徴とする、塩基発生剤。 （もっと読む）

【課題】密着性の高い、品質の良好なブラックマトリクス（または遮光膜）を形成することができるブラックレジスト用感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）ウレイド基を含有するシランカップリング剤、（ｂ）黒色有機顔料、混色有機顔料及び遮光材からなる群から選ばれる１以上の遮光成分を含有する遮光性分散液、（ｃ）エポキシ基を２個以上有する化合物と、（メタ）アクリル酸との反応物を更に多塩基酸カルボン酸又はその無水物と反応させて得られた不飽和基含有樹脂、（ｄ）少なくとも１個以上のエチレン性不飽和結合を有する光重合性モノマー、及び（ｅ）光重合開始剤を含有することを特徴とするブラックレジスト用感光性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】 ダブルパターニング法における第一のレジストパターンに対して行うフリージングプロセスにおいて、フリージング処理および第二のレジストパターンの形成によって、第一のレジストパターンの線幅とＬＷＲが変動しないという要件を満たすフリージングプロセス用の表面処理剤、それを用いた表面処理方法及びレジストパターンの形成方法を提供すること。
【解決手段】 下記一般式（１）で示される構造を含むポリマー及び／又はオリゴマーであって、互いに重量平均分子量の異なる２種以上のポリマー及び／又はオリゴマーを含有することを特徴とするレジストパターン表面処理剤。
【化１】


式中、Ｘは単結合又は２価の連結基を表し、※はポリマーおよび／またはオリゴマー残基との連結部を表す。 （もっと読む）

【課題】撥液性に優れる硬化膜を形成することができるポジ型感光性組成物、このポジ型感光性組成物による硬化膜、及びこの膜を有する表示素子を提供する。
【解決手段】ケイ素数３以上の直鎖のシロキサン構造とラジカル重合性官能基とを有するラジカル重合性モノマー（ａ−１）と、フェノール性水酸基を有するビニルケトンであるラジカル重合性モノマー（ａ−２）とを含むモノマーのラジカル重合体（Ａ）と、１，２−キノンジアジド化合物（Ｂ）とを含有し、アルカリ可溶性重合体（Ｃ）を含有していてもよい感光性組成物を構成し、この感光性組成物から硬化膜を形成し、この硬化膜を表示素子中の膜に用いる。 （もっと読む）

【課題】ダブルパターニング法において、フリージング処理および第二のレジストパターンの形成によって、第一のレジストパターンの線幅とＬＷＲが変動しないフリージングプロセス用の表面処理剤、その処理方法及びレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表される構造を含むポリマー及び／又はオリゴマー（Ａ）と一般式（２）で表される化合物（Ｂ）とを含有するレジストパターン表面処理剤。


式中、Ｘは単結合又は２価の連結基、※はポリマーおよび／またはオリゴマー残基との連結部を表す。Ａは単結合又はｎ価の有機基、Ｂは単結合、アルキレン基、シクロアルキレン基、芳香族基を表し、該アルキレン基、該シクロアルキレン基、該芳香族基は置換基を有していてもよい。Ｎｕは求核性官能基、ｎは２から８の整数を表す。複数のＢ及びＮｕは各々同一でも異なっていてもよい。但し、Ａ、Ｂが共に単結合であることはない。 （もっと読む）

【課題】着色層を積層して形成されたスペーサが有する欠点を補うに際し、工程を増やすことなく、欠点を補うカラーフィルタ及びカラーフィルタの製造方法を提供すること。
【解決手段】スペーサ４は、３原色の内の少なくとも２原色の着色層を積層して形成され、スペーサ上に透明電極膜５及びスペーサの高さの調整を兼ねた絶縁層１７を有し、着色層上の透明電極膜は、液晶の配向を規制するスリット６を有すること。絶縁層は、透明電極膜にスリットを形成する際に用いるエッチング保護膜と同一材料で形成されたこと。フォトレジスト層１０への露光、現像により、絶縁層及び開口部を有するエッチング保護膜１５を形成する、スリット６を形成する、エッチング保護膜を剥離する、工程を具備する。 （もっと読む）

【課題】硬化後の膜の物性が、高温で硬化したものと遜色ない性能が得られ、かつ金属配線や金属層などの銅及び銅合金の腐食を抑制する感光性樹脂組成物、パターン硬化膜の製造方法及び電子部品を提供する。
【解決手段】感光性樹脂組成物は、（ａ）一般式（１）で示される繰り返し単位を有するポリベンゾオキサゾール前駆体（式中、Ｕ又はＶは２価の有機基を示し、Ｕ及びＶの少なくとも一方が炭素数１〜３０の脂肪族鎖状構造を含む基である。）と、（ｂ）感光剤と、（ｃ）溶剤と、及び（ｄ）複素環状化合物、チオ尿素類及びメルカプト基を有する化合物からなる群から選択される少なくとも１種の化合物とを含有する。
【化１】
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【課題】 ダブルパターニング法における第一のレジストパターンに対して行うフリージングプロセスにおいて、フリージング処理および第二のレジストパターンの形成によって、第一のレジストパターンの線幅及びＬＷＲが変動しないという要件を満たすレジストパターンの表面処理方法およびその表面処理方法を用いたレジストパターンの形成方法を提供すること。
【解決手段】 特定のラクトン構造を含有する樹脂によって形成されたレジストパターンと、一分子中に二個以上の求核性官能基を有する化合物とを固相−気相反応させる表面処理方法。 （もっと読む）

【課題】紫外線光の波長よりも十分小さい平均粒子径をもつ金属酸化物粒子を感光性ペースト中に均一に分散することができ、隔壁のパターン形成性と隔壁の白色化を両立できる感光性ペーストを提供する
【解決手段】
無機粒子ならびに感光性有機成分を含む有機成分からなる感光性ペーストであって、該無機粒子が低融点ガラス粉末と動的光散乱法による中心径０．００３〜０．０５μｍの金属酸化物粒子とを含み、該有機成分に少なくとも側鎖にアルコキシシラン基を有するアクリル共重合体を含有することを特徴とする感光性ペースト。 （もっと読む）

【課題】異物の混入が少ない硬化性着色組成物の製造方法を提供すること、さらに、該硬化性着色組成物を用いた歩留まりが高いカラーフィルタ及び固体撮像素子を提供すること。
【解決手段】Ａ）顔料を洗浄する顔料洗浄工程と、（Ａ）顔料を分散する顔料分散工程と、（Ａ）顔料、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）重合開始剤、（Ｄ）重合性化合物、及び（Ｅ）溶剤を混合する混合工程とを含み、前記顔料洗浄工程が、（Ａ）顔料をイオン交換水で洗浄する工程であることを特徴とする硬化性着色組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルタの各着色画素の矩形性を向上させ、且つ赤色画素の形成時に残渣が生じないようにする。
【解決手段】支持体上に第１色目として、ドライエッチング法を用いて、ストライプ状の赤色パターン２７を形成後、青色層３３Ｂを形成し、赤色パターン及び青色層をドライエッチングして、青色・赤色画素２０Ｂ，２０Ｒ及び、緑色画素形成領域３９を形成する。次に緑色層を形成し、赤色画素２０Ｒが露出されるまで、支持体の全露出面を平坦化処理する。 （もっと読む）

【課題】最終的に得られるポリイミドの化学構造を問わず溶解性コントラストを得られ、形状が良好なパターンを得ることができ、簡便に合成できて安価に入手可能な、感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】側鎖にヘミアセタール構造を有する下記式（１）で表わされる繰り返し単位を有するポリイミド前駆体、及び、光の作用によりカルボン酸を発生させる化合物を含有する、感光性樹脂組成物である。
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【課題】部品点数を削減するとともに、制限空間内での高いデザイン裕度を有する現像処理装置を提供する。
【解決手段】共通の筐体５０内に、相互に雰囲気を連通させた状態にて３つの現像処理ユニットＤＥＶが同じ高さ位置に一列に並設されている。現像液を供給するスリットノズル６１０および多孔ノズル６２０は、３つの現像処理ユニットＤＥＶに共用に設けられている。また、隣接する現像処理ユニットＤＥＶの間には、待機状態のスリットノズル６１０および多孔ノズル６２０を受け入れる待機ポッド７０が設けられている。待機ポッド７０は隣接する現像処理ユニットＤＥＶ間の仕切壁としても機能する。このため、新たに別途仕切板を設ける必要がなくなり、現像処理装置の部品点数を削減することができるとともに、筐体５０の制限空間内での高いデザイン裕度を持たせることができる。 （もっと読む）