【課題】基板の処理を行う処理部を複数備えた基板処理装置において、複数の基板処理を効率よく行う。
【解決手段】現像装置３０は、ウェハＷを保持して回転させるスピンチャック２１０と、ウェハＷの側方を囲むように設けられたカップ体２２０とを備えた処理部１３０と、ウェハＷ上に第１の現像液を吐出する第１の現像液ノズル１５１と、ウェハＷ上に第２の現像液を吐出する第２の現像液ノズル１５２と、第１の現像液ノズル１５１と第２の現像液ノズル１５２を共に支持する共有アーム１５０とを有している。第１の現像液ノズル１６１から斜め下方に吐出される第１の現像液の吐出方向と第２の現像液ノズル１６２から斜め下方に吐出される第２の現像液の吐出方向は、平面視において、それぞれウェハＷの回転方向と同一方向である。 （もっと読む）

【課題】 アルカリ現像性、露光感度、および解像度に優れ、その硬化物が、低温処理を採用した場合でも、基板との密着性および弾性回復特性に優れているカラーフィルター保護膜用感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】 種々の酸性基またはこれらの塩を含有する多官能（メタ）アクリレートモノマー（Ａ）、光ラジカル重合開始剤（Ｂ）、エポキシ基および／またはアルコキシ基を２個以上を分子内に有するカチオン重合性化合物（Ｃ）、２個以上の加水分解性アルコキシ基を有するシロキサン化合物（Ｄ）、および酸発生剤（Ｅ）を含有するアルカリ現像可能なネガ型の感光性樹脂組成物で、光照射による硬化物を２００℃以下でポストベークさせて形成されたカラーフィルター保護膜の弾性回復率が５０％以上であることを特徴とするカラーフィルター保護膜用感光性樹脂組成物（Ｑ）である。 （もっと読む）

【課題】着色剤として染料を用いた場合であっても、耐熱性、耐溶剤性が良好な着色パターンを形成することができる着色組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）着色剤、（Ｂ）バインダー樹脂、及び（Ｃ）２個以上のエポキシ基と、ケイ素原子に結合する２個以上のアルコキシ基を有する架橋剤を含有することを特徴とするカラーフィルタ用着色組成物。 （もっと読む）

【課題】 パターニングした１層のレジストを表面張力によって丸める、通常のリフロー法ではマイクロレンズの直径が大きくなると、レジスト材料が中央部に集まりづらくなるため、直径が大きなマイクロレンズの製作が難しいという問題があった。
【解決手段】 本発明は、パターニングしたレジストを加熱しつつ波長300nm前後の紫外線を照射して硬化させる工程であるUVキュア処理と、該硬化したレジスト上にレジスト塗布する工程、を繰り返し行い、レジスト層を多段に積み重ねていくことでレンズ形状に近い階段状レジスト構造を製作し、該階段状レジスト上に、さらにもう１層のレジストを塗布およびパターニングし、パターニング工程を終えたレジスト層をリフローすることにより、直径が比較的大きいマイクロレンズであっても、リフロー法により製作することを可能にしたものである。 （もっと読む）

【課題】低温かつ短時間での加熱・焼成が可能であると共に、高い放射線感度を有し、得られた硬化膜は耐熱性、透明性，耐溶剤性を有することで、フレキシブルディスプレイのスペーサー、保護膜、層間絶縁膜等の形成に好適に用いられ、さらに保存安定性に優れた感放射線性樹脂組成物を提供することである。
【解決手段】（Ａ）エポキシ基を有する化合物、（Ｂ）エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、（Ｃ）感放射線性重合開始剤、並びに（Ｄ）ケチミン及びアルジミンよりなる群から選ばれる少なくとも１種を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物によって達成される。 （もっと読む）

【課題】着色剤として染料を用いた場合であっても、耐熱性、耐溶剤性が良好な着色パターンを形成することができる着色組成物を提供すること。
【解決手段】次の成分（Ａ）〜（Ｃ）；
（Ａ）着色剤、
（Ｂ）エポキシ基を有する化合物、並びに
（Ｃ）ケチミン及びアルジミンよりなる群から選ばれる少なくとも１種
を含有することを特徴とするカラーフィルタ用着色組成物 （もっと読む）

【課題】表面硬度及び耐溶剤性に優れ、充分な透過率及び電圧保持率も有する層間絶縁膜を形成可能であり、かつ保存安定性に優れ、充分な放射線感度を有するポジ型感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】［Ａ］同一又は異なる重合体分子中にアセタール基を含む構造単位（１）とエポキシ基含有構造単位と下記式（ＩＩ）で表される構造が窒素原子に結合した基を含む構造単位（２）とを有する重合体、及び［Ｂ］酸発生体を含有するポジ型感放射線性組成物である。
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【課題】一般的な要求特性である透明性、表面硬度、耐溶剤性、及び電圧保持率を満足する層間絶縁膜を形成可能であり、かつ放射線感度に優れ、十分な保存安定性を有するポジ型感放射線性組成物、その組成物から形成される層間絶縁膜、並びにその層間絶縁膜の形成方法の提供。
【解決手段】［Ａ］同一又は異なる重合体分子中にアセタール基を含む構造単位とエポキシ基含有構造単位とを有する重合体、及び［Ｂ］下記式（２）で表される酸発生剤を含有するポジ型感放射線性組成物。
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【課題】硬度及び光沢性が高く、耐衝撃性に優れるとともに、所望の色を発色することが可能な発色材を提供する。
【解決手段】平滑な主面を有する金属下地膜と、前記金属下地膜の前記主面上に形成された、着色材からなる複数の島状部と、前記金属下地膜の前記主面上において、前記複数の島状部の間の空隙を埋めるとともに、上面が、前記複数の島状部の上面位置以上の高さに位置するように形成された金属膜と、を具えるようにして発色材を構成する。 （もっと読む）

【課題】残膜率が向上するレリーフパターンの製造方法、及び当該製造方法で形成されたレリーフパターンを有する電子部品を提供する。
【解決手段】ネガ型感光性樹脂組成物を用いて塗膜又は成形体を形成し、当該塗膜又は成形体に所定パターン状に電磁波を照射後、未露光部の塗膜を除去してパターンを形成する現像工程の前に、当該塗膜又は成形体を加熱する工程を有するレリーフパターンの製造方法であって、前記加熱する工程が、系外から積極的かつ継続的に気体が供給され、且つ、当該塗膜又は成形体から発生する揮発性成分が系外に積極的に除去される雰囲気下で、熱媒体を介するか、電磁波の輻射により、当該塗膜又は成形体を加熱する工程であることを特徴とする、レリーフパターンの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】硬化感度、透過率、ＩＴＯスパッタ適性、及び、コンタクトホールの形成性に優れた感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）カルボキシ基が酸分解性基で保護された残基を有するモノマー単位、又は、フェノール性水酸基が酸分解性基で保護された残基を有するモノマー単位（ａ１）と、架橋基を有するモノマー単位（ａ２）と、を含有する共重合体、（Ｂ）光酸発生剤、（Ｃ）式（ｃ１）で表される部分構造を分子内に少なくとも２つ有し、分子量が６００以上２，０００以下である化合物、及び、（Ｄ）溶剤、を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
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【課題】耐溶剤性及び耐熱透明性に優れる硬化膜が得られ、高い感度を有するとともに、露光量の変化に対するパターン形状の変化が小さい感光性樹脂組成物、硬化膜及びその製造方法、有機ＥＬ表示装置、並びに、液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】（Ａ）酸によりカルボキシ基を生成する式（Ia）で表される構造又は酸によりフェノール性水酸基を生成する式（Ib）で表される構造を有するモノマー単位（ａ１）、酸によりカルボキシ基を生成する式（IIa）で表される構造又は酸によりフェノール性水酸基を生成する式（IIb）で表される構造を有するモノマー単位（ａ２）、並びに、エポキシ基及び／又はオキセタニル基を有するモノマー単位（ａ３）、を含有する重合体、（Ｂ）光酸発生剤、並びに、（Ｃ）溶剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
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【課題】選択的位置のレジスト膜とその下地との密着性を高め、非選択的位置のレジスト膜の残渣を減少させる。
【解決手段】下地１に第１レジスト材３を塗布し（工程１―１）、所望パターンとは逆パターンで第１レジスト材３をパターニングして前記下地の表面のうち前記所望パターンの表面を露出させ（工程１―２）、該下地の前記露出された表面を疎水化処理し（工程１―３）、該疎水化処理後に下地１から前記パターニングされた第１レジスト材３を除去（工程１―４）して下地１に第２レジスト材２を塗布し、（工程１―５）、第２レジスト材２を前記所望パターンでパターニングする（工程１―６）。 （もっと読む）

【課題】撥インキ剤の相溶性に優れ、製膜後の表面外観ならびにパターン形状が良好であり、表面撥インキ性に優れる一方で、通常の洗浄や時間が経過しても表面撥インキ性を維持することができるアルカリ現像感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】撥インク剤としての含フッ素樹脂（Ａ）と、波長３００〜４５０ｎｍの紫外光に反応するアルカリ現像可能な感光性成分とを含んだアルカリ現像性感光性樹脂組成物であって、含フッ素樹脂（Ａ）が、所定のランダム又はブロック共重合体であると共に、平均分子量Ｍｗが２０００〜２００００の範囲であり、また、溶剤を除いた合計成分１００質量部に対する含フッ素樹脂（Ａ）の割合が、０．０５〜１質量部であることを特徴とするアルカリ現像性感光性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】電子線等の光照射によるパターン形成において、高感度、且つ、優れたパターン形状、及び経時安定性を達成可能なネガ型レジスト組成物、及び当該ネガ型レジスト組成物を用いたレリーフパターンの製造方法、及び当該ネガ型レジスト組成物を用いたフォトマスクの製造方法を提供する。
【解決手段】アルカリ可溶性樹脂、電子線を照射することにより酸を発生する酸発生剤、ヘキサアルコキシメチルメラミンモノマーを含むメラミン樹脂、及び、塩基性化合物を含有し、前記アルカリ可溶性樹脂は、濃度２．３８重量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）水溶液（水溶液温度２３℃）に対する現像速度が１０〜８０ｎｍ／ｓｅｃであり、且つ、前記塩基性化合物が、ベンゾイミダゾール、トリベンジルアミン、及びそれらに特定の置換基を有する誘導体よりなる群から選択される１種以上である、ネガ型レジスト組成物である。 （もっと読む）

【課題】アルカリ現像性、露光感度、および解像度に優れ、その硬化物が、低温処理を採用した場合でも、基板との密着性および弾性回復特性に優れているフォトスペーサ用感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】 親水性エポキシ樹脂（Ａ）、多官能（メタ）アクリレートモノマー（Ｂ）、エポキシ基および／またはアルコキシ基を２個以上を分子内に有するカチオン重合性化合物（Ｃ）、２個以上の加水分解性アルコキシ基を有するシロキサン化合物（Ｄ）、光ラジカル重合開始剤（Ｅ）、および酸発生剤（Ｆ）を含有するアルカリ現像可能なネガ型の感光性樹脂組成物で、光照射による硬化物を２００℃以下でポストベークさせて形成されたフォトスペーサの弾性回復率が５０％以上であることを特徴とするフォトスペーサ用感光性樹脂組成物（Ｑ）である。 （もっと読む）

【課題】 アルカリ現像性、露光感度、および解像度に優れ、その硬化物が、低温処理を採用した場合でも、基板との密着性および弾性回復特性に優れているフォトスペーサ用感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】 種々の酸性基またはこれらの塩を含有する多官能（メタ）アクリレートモノマー（Ａ）、光ラジカル重合開始剤（Ｂ）、エポキシ基および／またはアルコキシ基を２個以上を分子内に有するカチオン重合性化合物（Ｃ）、２個以上の加水分解性アルコキシ基を有するシロキサン化合物（Ｄ）、および酸発生剤（Ｅ）を含有するアルカリ現像可能なネガ型の感光性樹脂組成物で、光照射による硬化物を２００℃以下でポストベークさせて形成されたフォトスペーサの弾性回復率が５０％以上であることを特徴とするフォトスペーサ用感光性樹脂組成物（Ｑ）である。 （もっと読む）

【課題】紫外線領域における光に対する耐性に優れ、高感度で表示素子のスペーサー、保護膜、層間絶縁膜を形成しえる感放射線性樹脂組成物であり、表示素子のスペーサーとして、従来から要求されているラビング耐性と、高回復率と柔軟性を併せ持つ圧縮性能を維持しつつ、さらに高度の膜厚均一性を有する表示素子用の保護膜、層間絶縁膜ならびにその形成方法を提供することにある。
【解決手段】
（Ａ）カルボキシル基を有する重合体、（Ｂ）重合性不飽和化合物、（Ｃ）感放射線性重合開始剤、ならびに（Ｄ）下記式（１）または（２）で示される化合物から選ばれる少なくとも１種を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】可視光領域で十分に低い反射率を達成することができ、かつ、破壊強度に優れた遮光膜付ガラス基板の提供。
【解決手段】ガラス基板２０上に多層構造の遮光膜３０が形成されてなる遮光膜付ガラス基板であって、前記多層構造の遮光膜が、下記を満たす第１の酸窒化クロム膜（ＣｒＯ_x1Ｎ_y1）３１および第２の酸窒化クロム膜（ＣｒＯ_x2Ｎ_y2）３２が、透明基板側からこの順に積層された構造であることを特徴とする遮光膜付ガラス基板。０．１５＜ｘ₁＜０．５、０．１＜ｙ₁＜０．３５、０．４＜ｘ₁＋ｙ₁＜０．６５、０．０３＜ｘ₂＜０．１５、０．０９＜ｙ₂＜０．２５ （もっと読む）

【課題】低温での処理においても耐薬品性に優れた硬化されたパターンを製造することができる。また、この硬化されたパターンの製造方法を利用することにより、耐熱性の低い基板等を用いても、高品質の表示装置等を得ることが可能となる。
【解決手段】ケイ素含有アクリル樹脂、シロキサン化合物、感光物質及び溶剤を含む感光性樹脂組成物を基板に塗布して塗膜を得る工程と、塗膜を加熱及び減圧からなる群から選ばれる少なくとも１種の方法により乾燥する工程と、乾燥した塗膜をフォトマスクを介して露光する工程と、露光した塗膜を５０℃以上１５０℃以下で加熱する工程と、加熱した塗膜を現像してパターンを得る工程と、パターンを５０℃以上１５０℃以下で加熱して硬化されたパターンを得る工程とを含み、溶剤が、ヒドロキシ基含有溶剤を溶剤全量に対して５０質量％より多く含む溶剤である硬化されたパターンの製造方法。 （もっと読む）