【課題】レジストパターンの線幅を含んだパターン情報を求めるにあたり、そのパターン情報の精度を向上させることができる塗布、現像装置を提供すること。
【解決手段】下地膜を形成するときの処理パラメータに応じて基板面内の下地膜の膜厚分布を求める手段と、光照射部の照射領域から反射された光を受光する受光部が受光した光についてその波長と光強度との関係を示す光強度分布を取得する手段と、レジストパターンのパターン情報と、下地膜の膜厚と、前記光強度分布とを対応付けたデータが記憶された記憶部と、前記光照射部の光の照射位置における下地膜の膜厚を前記膜厚分布から求め、その下地膜の膜厚と取得した光強度分布とに対応するパターン情報を前記データに基づいて求める手段と、を備えるように塗布、現像装置を構成し、膜厚分布によるパターン形状の測定誤差を抑える。 （もっと読む）

【課題】ヒートモード型のフォトレジスト層に凹部または低耐久性部を形成する際に発生する異物を除去しながら凹部または低耐久性部を形成することができるパターン形成方法と、この方法を用いた凹凸製品の製造方法、発光素子の製造方法および光学素子の製造方法を提供する。
【解決手段】ヒートモードの形状変化が可能なフォトレジスト層１２に、集光した光を照射することで複数の凹部１５を形成するパターン形成方法であって、フォトレジスト層１２に対して不活性な気体である空気を吹き付けて、フォトレジスト層１２上で移動させながら光を照射して凹部１５を形成する。 （もっと読む）

【課題】ヒートモード型のフォトレジスト層に凹部を形成する際に発生する異物の影響を抑制することができる凹部形成方法と、この方法を用いた凹凸製品の製造方法、発光素子の製造方法および光学素子の製造方法を提供する。
【解決手段】ヒートモードの形状変化が可能なフォトレジスト層１２に光源を含んで構成される光学系５０から集光した光を照射することでフォトレジスト層１２に複数の凹部１５を形成する凹部形成方法であって、フォトレジスト層１２の凹部形成面１２Ａを重力方向に向けて凹部１５を形成する。 （もっと読む）

【課題】半導体集積回路、プリント配線基板又は液晶パネルの製造に用いることのできるフォトレジスト技術に関し、従来の反応現像画像形成法により形成されるフォトレジストの耐熱性を向上させ、かつ適正な現像時間を確保する手段を提供する。
【解決手段】所望のパターンでマスクされたフォトレジスト層に紫外線を照射し、その後この層をアルカリを含む溶剤で洗浄することから成る現像画像形成法において、該フォトレジスト層が、アマダンタン骨格を有する耐熱性ポリカーボネート樹脂と光酸発生剤とから成り、該アルカリがアミンであることを特徴とする反応現像画像形成法。 （もっと読む）

【課題】液浸露光に於いて、レジストパターンの倒れ、プロファイルの劣化が少なく、液浸液への溶出が抑制された液浸露光用レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）重合溶媒として、鎖状ケトン、環状ケトン、鎖状エーテル及び環状エーテルからなる群から選択される溶剤を用いて製造された、特定の、シクロアルキル構造を有する繰り返し単位を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する液浸露光用レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】最終的に得られるポリイミドの化学構造を問わず大きな溶解性コントラストを得られ、形状が良好なパターンを得ることができ、簡便に合成できて安価に入手可能な、高感度の感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表わされる繰り返し単位を有するポリイミド前駆体、及び、光塩基発生剤を含有する、感光性樹脂組成物である。
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【課題】感度、残膜率、保存安定性に優れた、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法であって、硬化させることにより耐熱性、密着性、透過率などに優れる硬化膜が得られる、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法を提供すること。
【解決手段】解離性基が解離することで、カルボキシル基を生じる特定のアクリル酸系構成単位とカルボキシル基と反応して共有結合を形成し得る官能基を有する構成単位を含有し、アルカリ不溶性若しくはアルカリ難溶性であり、且つ、酸解離性基が解離したときにアルカリ可溶性となる樹脂、分子内に２個以上のエポキシ基を有する化合物、及び、波長３００ｎｍ以上の活性光線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物、及び、それを用いた硬化膜形成方法。 （もっと読む）

【課題】スペーサー形成時に発生する揮発成分量が極めて少なく、さらにスリットダイ塗布法による高速塗布にも対応できる感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】上記感放射線性樹脂組成物は、［Ａ］カルボキシル基およびカルボン酸無水物基よりなる群から選択される少なくとも１種の基、ならびにペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）に代表される特定の多価チオール化合物に由来する基を有し、且つゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）とポリスチレン換算数平均分子量（Ｍｎ）の比（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．０〜２．８である重合体、［Ｂ］重合性不飽和化合物ならびに［Ｃ］感放射線性重合開始剤を含有する。 （もっと読む）

【課題】レジスト被膜の除去性を低下させないで、長期間に渡る剥離液の繰返し再使用が可能であるばかりか、導電性高分子の表面抵抗や導電性高分子と基材との密着性も悪化さず、さらに、経済性や安全性にも優れており、廃棄物が少なくできるため環境にも悪影響を及ぼさない導電性高分子膜上のレジスト被膜の除去方法を提供。
【解決手段】レジスト被膜を除去後の剥離液を、細孔径２〜５ｎｍであって、分画分子量が１０００〜４０００のセラミックフィルターを用いて膜濾過することにより、レジスト被膜を該剥離液から取り除き、導電性高分子膜上のレジスト被膜の除去に再使用する。 （もっと読む）

【課題】処理に用いられた処理ガスがユニット外部へ流出することを抑制できる技術を提供する。
【解決手段】密着強化処理を行う密着強化処理ユニット１において、密閉された処理空間Ｖを形成するチャンバ１０と、処理空間Ｖに所定の処理ガス（気化した密着強化剤）を供給する処理ガス供給部５０と、処理空間Ｖ内に配置され、基板Ｗを載置するプレート２０とを備える。プレート２０には挿通孔２２が形成され、挿通孔２２には昇降移動して基板Ｗの裏面を突き上げ支持する支持ピン３０が挿通されている。この挿通孔２２と支持ピン３０との間隙を封止部８０により封止する。 （もっと読む）

【課題】感度、残膜率、保存安定性に優れた、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法であって、硬化させることにより耐熱性、密着性、透過率などに優れる硬化膜が得られる、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法を提供することである。
【解決手段】解離性基が解離することで、カルボキシル基を生じる特定のアクリル酸系構成単位を含有し、アルカリ不溶性若しくはアルカリ難溶性であり、且つ、酸解離性基が解離したときにアルカリ可溶性となる樹脂、エポキシ基含有ラジカル重合性単量体から誘導される構成単位を含有する樹脂、分子内に２個以上のエポキシ基を有する化合物（但し、エポキシ基含有ラジカル重合性化合物からなる構成単位を含有する前記樹脂を除く。）、波長３００ｎｍ以上の活性光線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物、及び、それを用いた硬化膜形成方法。 （もっと読む）

【課題】 薄膜エッチング方法を提供することを課題とする。
【解決手段】 紫外光でフォトマスクを介して基板上の光学樹脂層について露光を行い、そして焙焼プロセスを通じてすでに露光された光学樹脂層を気化させ、また露光していない部分を残して薄膜として形成することで前記光学樹脂層の気化された箇所に補填し、再度紫外光で光学樹脂層に対して全面露光を行い、また再度高温焙焼を通じて基板上の光学樹脂層の全部を気化させ、必要な薄膜パターンを残すことで、設備と製造の低コストの状況において、薄膜エッチングの精度を向上させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】膜残りや画素の欠落のない良好な現像を与え、高濃縮化が可能な感放射線性組成物用濃縮現像液を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ金属炭酸塩、（Ｂ）アルカリ金属炭酸水素塩、（Ｃ）クミルフェノールのポリアルキレンオキサイド付加物又はフェニルエチル基置換フェノールのポリアルキレンオキサイド付加物の少なくとも１種からなる界面活性剤成分、（Ｄ）特定の可溶化剤成分及び（Ｅ）水からなる感放射線性組成物用濃縮現像液。 （もっと読む）

【課題】屈折率、可視領域での透明性、及び耐熱性に優れる硬化物（硬化塗膜）となり得る感光性組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構成単位を有する重合体（Ａ）、感光性化合物（Ｂ）、硬化剤（Ｃ）、及び溶剤（Ｄ）を含有することを特徴とする感光性組成物。
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【課題】光透過率及びコントラストに優れた赤色画素を有し、画素上の異物発生がなく、又は異物の発生が極めて少ないカラーフィルターの製造方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）基板に赤色顔料を含有するネガ型レジスト組成物を塗布する工程、（Ｂ）プレベークする工程、（Ｃ）露光・現像する工程、及び（Ｄ）ポストベークする工程を有するカラーフィルターの製造方法であって、（Ｄ）ポストベークを減圧下で行うことを特徴とするカラーフィルターの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】現像後のレジストパターンのディフェクト、特に微細なスカムやマイクロブリッジの発生を抑制でき、またラインエッジラフネスの小さいレジスト組成物の製造方法、レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）特定の繰り返し構造単位を含有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、（Ｃ）溶剤、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物を製造する方法であって、濾過工程を含み、その過程においてナイロンからなる濾過膜を有するフィルターを通過させることを特徴とするポジ型レジスト組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】高コントラストのパネル設計であっても、画素形成後の研磨やＯＣ層形成などの工程を追加することなく、低コストかつ平易な方法で、ブラックマトリックスと着色画素との境界部分での盛り上がりが抑制され、高品質の画像を表示することができるカラーフィルタ及びその製造方法並びに液晶表示装置を提供する。
【解決手段】コントラストが５０００以上であり、かつ、ブラックマトリックスを構成する隔壁４の側面と底面との成す角度θが１０°〜３５°の範囲にあるとともに、該角度θの相対標準偏差が０．１５以下であることを特徴とするカラーフィルタ及びそれを備えた液晶表示装置。現像によってアンダーカットの長さが１．０〜８．０μｍの隔壁により構成されるブラックマトリックスを形成した後、ベークすることにより、ブラックマトリックスの隔壁側面が上記角度となるように熱変形させる。 （もっと読む）

【課題】光透過率及びコントラストに優れた青色画素を有し、黄変のないカラーフィルターの製造方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）基板に青色顔料を含有するネガ型レジスト組成物を塗布する工程、（Ｂ）プレベークする工程、（Ｃ）露光・現像する工程、及び（Ｄ）ポストベークする工程を有するカラーフィルターの製造方法であって、（Ｄ）ポストベークを減圧下で行うことを特徴とするカラーフィルターの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】高感度で、ポリイミド前駆体の種類を問わず大きな溶解性コントラストを得られ、結果的に十分なプロセスマージンを保ちつつ、形状が良好なパターンを得ることができる感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】アントラセン骨格もしくはチオキサントン骨格を有し、塩基発生部位としてＣＨ_２２−Ｙ^＋Ｘ⁻（ここでＹ^＋は特定の第４級アンモニオ基、Ｘ⁻はそのカウンターイオン）が置換された特定の化合物である光塩基発生剤、及びポリイミド前駆体を含有する感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】現像残渣が少なく、感光後の基板密着性に優れ、良好な矩形の断面プロファイルを有する黒色パターンが得られる固体撮像素子用黒色感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】少なくとも、黒色用色材、光重合性化合物、及び光重合開始剤を含み、水酸化テトラメチルアンモニウム０．１質量％及びノニオン系界面活性剤を含むｐＨ（２３℃）８〜１２の現像液を用いて２３℃で現像したときの光線未照射領域の溶解速度が０．００５μｍ／ｓｅｃ以上０．０６０μｍ／ｓｅｃ以下である固体撮像素子用黒色感光性樹脂組成物である。 （もっと読む）