【課題】 溶剤現像に対応可能であり、低温硬化可能であり、吸水率が十分に低く、耐湿熱性に優れ、厚膜でも解像度に優れ、硬化物が高いガラス転移温度を有する感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】 （Ａ）ポリアミック酸と、（Ｂ）重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤と、を含有し、上記（Ｂ）重合性化合物が、分子内にアミド結合及び２以上のエチレン性不飽和基を有する重合性化合物を含む、感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ(LWR)、露光ラチチュード(EL)及びフォーカス余裕度(DOF)に優れるネガ型現像用レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸分解性繰り返し単位を有し、酸の作用により極性が増大してネガ型現像液に対する溶解度が減少する樹脂と、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、１個または２個のフッ素原子を有する酸を発生する光酸発生剤と、（Ｃ）溶剤とを含有することを特徴とするネガ型現像用レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】平版印刷版の製造方法を開示する。
【解決手段】平版印刷版前駆体として有用な画像化されたポジ型の熱画像形成可能な多層画像形成要素を、溶媒系現像液を用いて現像する。現像は、画像化された画像形成要素を該現像液に浸漬することによって行なうことができる。 （もっと読む）

本発明は、感光性の金属含有組成物を基材に塗布し、感光性の金属含有組成物を乾燥し、感光性の金属含有組成物を化学線源にて露光し、及び金属含有組成物を後処理することによって金属含有フィルムを形成する方法に係る。該方法は、また、感光性の金属含有組成物を、マスク又は型を通して化学線源にて露光し、組成物の非露光部分を現像することを含む。本発明の他の具体例は、前記の方法によって形成された金属含有フィルム、三次元の物体又は物品である。本発明は、直接パターン化された金属含有フィルム及び微小デバイスの製造に有用である。 （もっと読む）

基材と、主鎖中にウレタンまたは尿素部分を含む第１のポリマーバインダーを含む単層画像形成性層とを有する赤外線感受性ポジ型画像形成性要素。第１のポリマーバインダーは、水に不溶性であり、かつ、弱アルカリ溶液に可溶性である。当該画像形成性要素を、画像形成し、シリケートおよびメタシリケートを含まない弱アルカリ性処理液を使用して処理することができる。画像形成され現像された印刷面に「ガム引き」するために当該処理液を使用することもできる。 （もっと読む）

【課題】レジスト材料として用いた場合に低温で分解除去することができ、未分解成分の残存量が極めて少ないネガ型感光性組成物を提供する。また、本発明は、該ネガ型感光性組成物を用いる導電パターンの形成方法を提供する。
【解決手段】非環状アセタール構造単位を有する（メタ）アクリル化アセタール樹脂（Ａ）と、光重合開始剤（Ｂ）とを含有するネガ型感光性組成物であって、前記非環状アセタール構造単位を有する（メタ）アクリル化アセタール樹脂（Ａ）は、特定の構造単位を有する樹脂であり、（メタ）アクリル化アセタール樹脂（Ａ）中の酸素原子数に対する炭素原子数の比は、２．３〜６．０であるネガ型感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】高い解像度と改善されたエッジラフネスとを備えるとともに、アルカリ現像可能な感光性組成物用の化合物、並びにそれを用いた感光性組成物、パターン形成方法を提供する。
【解決手段】１、２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホニル基又は１、２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホニル基を有する１、３、５−トリス（パラ−（パラ−ヒドロキシフェニル）フェニル）ベンゼン誘導体化合物、該感光性化合物と溶媒を含有する感光性組成物、並びに該感光性組成物を含む感光性層を形成する工程等を含むパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】版面のインキ汚れを長期間防止し、かつ紙粉付着防止する感光性樹脂凸版印刷版の製造方法およびそれに適した処理液の提供。
【解決手段】露光工程、現像工程および後処理工程を含む感光性樹脂凸版印刷版の製造方法であって、前記後処理工程が、熱処理、活性光源による後露光処理および電子線処理からなる群から選択される処理であり、前記後処理工程前又は後処理工程中に、前記凸版印刷版の版面に、シリコーン変性アクリルラテックス（Ａ）を付着させる工程を含む製造方法及びそれに用いられる版面用処理液。 （もっと読む）

【課題】 熱膨張係数を低くできるとともに、基材との接着性に優れるネガ型の感光性樹脂組成物、及び、それを用いた絶縁性保護膜、フレキシブルプリント配線板を提供する。
【解決手段】 ポリイミド前駆体樹脂、光重合性モノマー、及び光重合開始剤を含有するネガ型感光性樹脂組成物であって、前記ポリイミド前駆体樹脂は、芳香族テトラカルボン酸二無水物と２種類以上のジアミンとを縮合重合したものであり、前記ジアミン又は前記芳香族テトラカルボン酸二無水物として、ビフェニル骨格を持つモノマーを２種類以上含有すると共に、該ビフェニル骨格を持つモノマーの含有量は、芳香族テトラカルボン酸二無水物とジアミンとの合計量に対して５０モル％以上であり、前記ジアミンとして、テトラメチルジシロキサン骨格を持つジアミンを、ジアミン合計量に対して０．５モル％以上５モル％以下含有することを特徴とする、感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】重合性液晶を含む感光性組成物を基材に塗布した後、マスクを用いて露光し、感光性組成物塗布層の未硬化部分を有機溶媒で現像し、リンスしてパターン化された位相差制御機能層を形成する方法において、基材に上に感光性組成物の残渣を発生させることがなく、最適にパターン化された位相差制御機能層を形成することができるパターン化位相差制御機能層の形成方法を提供する。
【解決手段】本発明のパターン化位相差制御機能層の形成方法は、基材に塗布してプリベークした後、マスクを用いて露光した感光性組成物塗布層の未硬化部分を有機溶媒で現像、リンスした後、ポストベークしてパターン化された位相差制御機能層を形成する方法において、高分子界面活性剤として櫛形高分子カルボン酸類を含有する水系リンス液を用いてリンスすることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 溶剤現像に対応可能であり、低温硬化可能であり、吸水率が十分に低く、耐湿熱性に優れ、厚膜で解像度よく像形成が可能な感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 （Ａ）主鎖に炭素数５〜２０のアルキレン基を有するポリアミック酸と、（Ｂ）重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤と、を含有し、上記（Ｂ）重合性化合物が、分子内に４〜１０のエチレン性不飽和基を有する重合性化合物を含む、感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 溶剤現像に対応可能であり、低温硬化可能であり、吸水率が十分に低く、耐湿熱性に優れ、厚膜で解像度よく像形成が可能な感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】 （Ａ）主鎖に炭素数５〜２０のアルキレン基を有するポリアミック酸と、（Ｂ）重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤と、を含有し、上記（Ｂ）重合性化合物が、分子内に炭素数６〜２０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基及び２以上のエチレン性不飽和基を有する重合性化合物を含む、感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】有機薄膜上での塗布時の濡れ性、ＵＶ−ｉ線での感光特性及び有機薄膜に対する接着性に優れ、低温硬化が可能である感光性ポリオルガノシロキサン組成物、これを用いたポリオルガノシロキサン硬化レリーフパターン及びその形成方法、並びに半導体装置及びその製造方法の提供。
【解決手段】（ａ）特定構造のシラノール化合物と特定構造のアルコキシシラン化合物とを、触媒の存在下で水添加を行うことなく重合させて得られるポリシロキサン１００質量部、（ｂ）光重合開始剤０．２〜２０質量部、（ｃ）非イオン性界面活性剤０．０１〜１０質量部、並びに（ｄ）アルコール性水酸基を有する化合物及びケトン化合物から選択される少なくとも１種の有機溶媒１０〜１５０質量部、を含む感光性ポリオルガノシロキサン組成物。 （もっと読む）

有機構造体のフォトリソグラフィーパターニングのための直交方法を開示する。該開示された方法は、有機導体及び半導体の性能が他の攻撃的な溶媒によって不利な影響を受けないように、フッ素化溶媒又は超臨界CO₂を溶媒として利用する。一つの開示された方法では、フッ素化フォトレジストをHFE溶媒と一緒に利用することもできるが、他のフッ素化溶媒を使用することもできる。一実施態様において、該フッ素化フォトレジストはレゾルシンアレーンであるが、様々なフッ素化ポリマーフォトレジスト及びフッ素化分子ガラスフォトレジストを同様に使用することができる。例えば、ペルフルオロデシルメタクリラート（FDMA）と2-ニトロベンジルメタクリラート（NBMA）との共重合体は、フォトリソグラフィー処理において、フッ素化溶媒及び超臨界二酸化炭素とともに使用するのに適した直交フッ素化フォトレジストである。フッ素化フォトレジストとフッ素化溶媒との組合せは、当業者に公知の方法又はデバイスではまだ達成されていない、強固な直交方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】 剥離印刷法の印刷像のキレの悪さ、１５μｍ未満のライン幅の像パターンが不鮮明になることを改良する剥離印刷用感光性版を提供する。
【解決手段】 撥インキ機能（Ａ）を施し画線部とし、親インキ機能を施し非画線部とする剥離印刷版の全面にインキを塗布する第一の工程、
撥インキ機能（Ｂ）を施したブランケットを剥離印刷版に押圧し該版上の画線部上インキをブランケット上に転写する第二の工程、
ブランケットの画線部上インキを基板上に転写する第三の工程、とを含む画像形成法の剥離印刷版が、親インキ機能を提供する表面を備えた基材層と、基材層上にパターニングされた撥インキ機能を提供する感光性レジストからなる剥離印刷用感光性版であり、前記感光性レジストがシリコーン系樹脂と光重合開始剤を有する剥離印刷用感光性版。 （もっと読む）

本発明は、シクロヘキサンポリカルボン酸エステル可塑剤を含有している光重合性フレキソ印刷エレメントに関し、さらにはＵＶインキで印刷するための、特にはＵＶインキでナローウェブラベル印刷するためのフレキソ印刷板を作製するためのその使用にも関する。 （もっと読む）

【課題】優れた熱分解性及び感光性を有し、充分な膜厚を有する被膜を形成することが可能な焼結性レジスト組成物を提供する。また、該焼結性レジスト組成物を用いたマイクロ構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】マイクロ構造体の製造に用いられる焼結性レジスト組成物であって、（メタ）アクリル樹脂、光重合開始剤及び有機溶剤を含有し、上記（メタ）アクリル樹脂の含有量が２０〜５０重量％であり、上記（メタ）アクリル樹脂は、分岐構造を有する（メタ）アクリレートに由来するセグメントを４０〜９０重量％、及び、両末端が（メタ）アクリレートで変性されたポリオキシアルキレンエーテルオリゴマーに由来するセグメントを４〜２０重量％含有する焼結性レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】現像欠陥が低減されたネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定構造の酸分解性繰り返し単位を含有し、酸の作用によりネガ型現像液に対する溶解度が減少する樹脂、（Ｂ）光酸発生剤、及び（Ｃ）溶剤を含有するネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンを安定的に形成するために、ネガ型現像によるパターニングに於いて、パターン倒れ性能が良好で、かつトレンチパターン解像性の良好なネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定構造の酸分解性繰り返し単位を含有し、酸の作用によりネガ型現像液に対する溶解度が減少する樹脂、（Ｂ）光酸発生剤、及び（Ｃ）溶剤を含有するネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】画像部の良好な耐刷性を維持しつつ、湿式現像処理を経ることなく非画像部の良好なガム液処理による現像除去性を達成しうる平版印刷版原版、及び、その製版方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、（Ａ）赤外線吸収剤、（Ｂ）重合開始剤、（Ｃ）重合性モノマー、及び、（Ｄ）下記一般式（１）で表される基及び下記一般式（２）で表される基の少なくとも１種を側鎖に有する高分子化合物を含有する重合性組成物から構成され、露光後、ガム液を供給することにより未露光部を除去しうる画像記録層を有することを特徴とする平版印刷版原版
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