【課題】ＰＡＧ（光酸発生物質）二重層を用い、残留物が無くＬＥＲも僅かな犠牲ポリマー層、及び犠牲ポリマー層の分解方法と、これを使用して改良されたエアキャビティー、又はエアギャップを作製するための方法を提供する。
【解決手段】ＰＡＧ二重層はその中に光酸発生物質を組込み、上部のＰＡＧ濃度は構造物の低部より高い。ＰＡＧが非存在の犠牲層１５が基板１０上に形成される。犠牲層が乾燥された後、ＰＡＧ単層２０が形成され、層１５と層２０はＰＡＧ二重層２５を形成する。次いで二重層２５の像様暴露（光線照射３５）遮蔽物３０を使用して行われる。暴露部分は熱分解法によって除去されて、基板上に残った非暴露部分４０を残す。次いで保護被覆層５０が構造体上に配置され、部分４５の分解及び保護被覆５０を通る分解生成物の浸透のために適当な温度に加熱した後、エアギャップ５５が形成される。 （もっと読む）

【課題】所望の描画パターンにおける対角線方向に隣接する１対のエレメントについての電子ビーム描画を行った後の現像後パターンをより鮮鋭なものとする。
【解決手段】１対のエレメントＡ₁、Ａ₂の少なくとも一方のエレメントＡ₁について、一方のエレメントＡ₁についての半径方向Ｙへの偏向走査Ｄ₁の他方のエレメントＡ₂側の一端位置を、一方のエレメントＡ₁の設計上の配置における半径方向端部位置ｙよりも他方のエレメントＡ₂から離間した位置に設定し、半径方向Ｙへの偏向走査長さＬ₁が、一方のエレメントＡ₁の半径方向Ｙの設計上の長さＬよりも短くなるように描画する。 （もっと読む）

【課題】レンズ形成の工程数を低減して製造プロセスを簡略化することができると共に、所望の高屈折率レンズ形状を容易に形成しかつ高屈折率レンズ間のレンズ形状のバラツキをも抑えて安定したレンズ形状にする。
【解決手段】下地膜としての層間絶縁膜１１上に高屈折率膜のＳｉＮ膜１２ａを形成する高屈折率膜形成工程と、ＳｉＮ膜１２ａ上に感光性レジスト膜を成膜し、透過率階調マスクを用いて照射光量を平面的に制御して、感光性レジスト膜１７のレンズ形状に形成するレジストレンズ形状形成工程と、レンズ形状の感光性レジスト膜１７とＳｉＮ膜１２ａとを同時にエッチングすることにより、感光性レジスト膜１７のレンズ形状を反映した同じ高屈折率レンズ形状の層内レンズ１２に形成する高屈折率膜レンズ形状形成工程とを有している。 （もっと読む）

【課題】 位置決めの正確さおよび／または強健性が改善されたリソグラフィ投影装置のアライメント・システムを提供する。
【解決手段】 リソグラフィ装置の位置決めシステムは、位置決め放射線源１、第１検出器チャネルおよび第２検出器チャネルを有する検出システム、および検出システムと連絡する位置決定ユニットを有する。位置決定ユニットは、第１および第２検出器チャネルからの情報を組み合わせて処理し、組み合わせた情報に基づいて、第２オブジェクト上の基準位置に対する第１オブジェクト上の位置決めマークの位置を決定する。 （もっと読む）

【課題】回転傾斜露光装置において、液体槽に溜められた液体にレジストが浸されることなく、液体を介してレジストに露光光を照射することができるようにすること。
【解決手段】光出射部１００からの光が液体槽４０を通過して、液体中に浸されたレジスト防液構造体１０の開口３１ａからマスクＭを介してレジストＲに照射される。レジスト防液構造体１０は、防液部材３０、回転モータ２２等から構成され、防液部材３０内に液体が浸入しないように、マスクＭの透明基板が防液部材３０の開口３１ａを覆い開口３１ａを密封する。回転モータ２２が回転すると、ステージ部２１は防液部材３０と共に回転し、ステージ２１上に載置されたマスクＭとレジストＲからなる被照射物Ｗが回転する。マスクＭが開口３１ａを密封しているので、液体中にレジストＲを浸すことなく大気中で露光するよりレジストＲの表面に緩やかな斜面を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】露光後の熱反応型レジストの再酸化を抑制でき、現像差の減少を抑制して微細パターンを正確に形成できる微細パターン形成方法及び露光装置を提供すること。
【解決手段】本発明の微細パターン形成方法は、基材上に設けられ、加熱により還元反応する熱反応型レジスト材料を含んでなるレジスト層にパターンを形成する微細パターン形成方法であって、レジスト層の所定の領域を加熱還元する加熱期間と、不活性雰囲気下又は還元性雰囲気下において、レジスト層の所定の領域を冷却する冷却期間と、を含む還元工程と、レジスト層を現像する現像工程と、を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】緩く傾斜する傾斜形状を有する微細構造体を良好に製造する方法を提供する。
【解決手段】感光性樹脂へレーザ光を照射して微細構造体を得る微細構造体の製造方法であって、基板に感光性樹脂を塗布する塗布工程と、感光性樹脂に照射するレーザ光の光量を設定する光量設定工程と、感光性樹脂に、前記設定した光量に応じて、レーザ光の光量を変調させつつスキャニングする露光工程と、露光された前記基板を現像する現像工程と、を備える。製造する微細構造体は、角度が１０度以下の傾斜形状を含む。感光性樹脂は、感光性樹脂を感光、現像した後のレジスト残膜量と露光量とを対応づけたレジスト感度曲線のうち、レジスト残膜量の上限値の３０％から７０％までの範囲において、レジスト感度曲線の傾きが０．２８（μｍ／ｍＷ）より小さいことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】多段構造の寸法精度を向上したインプリントモールドの製造方法およびインプリントモールドを提供することを課題とする。
【解決手段】３次元の多段構造パターンを有するインプリントモールドの製造方法において、第１基板１１を選択的に除去して第１凹部パターン１４を形成する工程と、この工程で第１凹部パターン１４が形成された第１基板１１に、第２基板１５を貼り合わせる工程と、第２基板１５を選択的に除去して第２凹部パターン１６を形成する工程とを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ステージの回転により生じる液体の波（液面の乱れ）や気泡の影響を受けることがない回転傾斜露光装置を提供すること。
【解決手段】モータ２２により回転するステージ２１上に、マスクＭをレジストＲに密着させたワークＷが置かれ、これらが液体容器３０の液体中に浸されている。光出射部１０から出射する露光光は液体容器３０の底面から入射し、この露光光の光軸に対しステージ２１の表面は斜めに配置される。このため、ワークＷのレジストＲは斜め方向からの光により露光され、レジストＲにはマスクＭのパターンに応じた円錐や角錐状の立体形状のパターンが形成される。液体中にワークＷを浸しているので、大気中で露光するよりレジストＲの表面に緩やかな斜面を形成することができ、また、液体容器３０の底面（側面でもよい）から光を入射させているので、液面の乱れや気泡の影響を受けることがない。 （もっと読む）

マスク投影技術により固体の表面に微細構造を形成するためのレーザー設備のマスク及び／又はダイヤフラムを製造するための方法において、レーザー放射を散乱させる決められた不透過面部を、マスク及び／又はダイヤフラム基材に、後者をフェムト秒、ピコ秒、又はフッ素レーザー光を用いて粗化・改変させることにより製造する。このようなマスク及びダイヤフラムは、その寿命と精度が大幅に改善され、例えば、固体の表面の回折格子アレイに配置されて、高輝度のスペクトル色及び混合色を生成するのに用いられるブレーズド格子を形成するのに使用することができる。
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【課題】本発明は、大型サイズの円筒表面に、直接ナノメートル大きさのパターンを大面積で刻むための円筒状の磁気浮上ステージ及び露光装置に関する。
【解決手段】本発明は、磁気浮上原理で円筒を浮上し、非接触で回転及び軸方向に移送しながら円筒表面に直接ナノメートル大きさのパターンを刻むことができる新しい形態のステージと、円筒表面に光を照射する光源とを具現することにより、ナノメートル大きさの誤差で位置を能動制御できるなど、機械加工による誤差及び外乱を実時間的に補正することができて、結局、大型サイズの円筒表面にナノメートル大きさのパターンを効率的に加工できると共に、ステージと組み合わされ、光源と円筒表面との間を、部分的に真空環境が保持されるようにする差動真空手段を具現することにより、Ｘ線や電子ビーム、極紫外線(EUV)のような光源を適用することができる円筒状の磁気浮上ステージ及び露光装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】 加工対象物に、複数の加工跡がランダムに形成されるようにする。
【解決手段】 加工対象物ＯＢをセットしたテーブル２１を回転させるとともに、加工ヘッド３０から出射されたレーザ光により加工対象物ＯＢに形成されたレーザスポットを、テーブル２１に対して相対的にテーブル２１の半径方向に移動させた状態で、レーザ光源３１からパルス列状の加工用レーザ光が出射されるようにレーザ光源３１を駆動して、加工対象物ＯＢに、テーブル２１の半径方向に沿うとともに、テーブル２１の回転方向に沿った複数の加工跡を形成する。そして、テーブル２１の半径方向に沿って形成される複数の加工跡の間隔、テーブル２１の回転方向に沿って形成される複数の加工跡の間隔、及び形成される複数の加工跡の大きさのうちの少なくとも１つの要素を、ランダムに変化させる。 （もっと読む）

基材上に完成パターンを像形成させるレーザーアブレーションプロセスで用いられるための分散したパターンを有するマスク。このマスクは、光を透過するための複数の開口と、この開口の周囲の非透過区域とを有する。分散したパターンのための開口が基材上に繰り返し像形成される場合に、分散したパターン内の構造は、像形成されたパターンの様々な領域内で合併し、レーザーアブレーションにおけるスティッチング効果を軽減又は除去するために、分散したスティッチ線を使用して完成パターンを生成する。まばらでかつ分散したパターンもまた形成し得るマスクは、完成パターンの合併部分を個別に形成し、かつ分散したパターンを総じて形成する開口を含む。
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【課題】正のパワーを有するレンズ部を構成する光硬化性樹脂を均一的に硬化させる。
【解決手段】ガラス基板２の表裏両面に対しそれぞれ光硬化性樹脂製のレンズ部４ａ，６ａが形成されたウエハレンズ１の製造方法が開示されている。当該製造方法では、前記光硬化性樹脂に光照射して一方の面に凹レンズ部６ａを形成する工程と、前記光硬化性樹脂に光照射して他方の面に凸レンズ部４ａを形成する工程と、を備え、凸レンズ部４ａが入射光を集束させる正のパワーを有し、その正のパワーを有する凸レンズ部４ａを形成する工程では、それを構成する前記光硬化性樹脂に対し平行光を入射させる。 （もっと読む）

本発明は、膜状の物質（２）をナノ構造化する方法に関する。本方法は、該物質（２）を水溶液（３）に浸漬させている間に、照明領域（６ｂ）および暗領域（６ａ）を有する干渉模様（６）を該物質（２）の少なくとも１つの面につけるステップを含む。本発明の方法によれば、上記物質は、光吸収作用によって水溶液に溶解可能になる無機半導体物質または無機酸化物である。上記物質（２）のナノ構造化を、水溶液（３）に接触する該物質（２）の表面で、該照明領域（６ａ）での光分解によって、および／または、該干渉模様（６）の暗領域（６ｂ）での成長によって行う。本発明は、このような形成方法によって得られる、ナノ構造化された被覆膜（５）、さらに、ナノ構造化された３Ｄ膜にも関する。
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【課題】優れた防眩性能を示しながら、白ちゃけによる視認性の低下が防止され、高精細の画像表示装置の表面に配置したときに、ギラツキを発生せずに高いコントラストを発現する防眩フィルムの製造方法、ならびに、防眩フィルムを得るための金属金型の製造方法を提供する。
【解決手段】ドット径の異なる複数種類のドットを多数ランダムに配置したパターンを用いた、透明支持体上に微細凹凸表面が形成されている防眩フィルムの製造方法であって、平均のドット径が６〜３０μｍであり、ドット径の変動係数が０．１〜０．５であり、かつ、パターンのエネルギースペクトルが０μｍ^-1より大きく０．０４μｍ^-1以下に極大値を持たないことを特徴とする防眩フィルムの製造方法、および防眩フィルム作製のための金型の製造方法。 （もっと読む）

【課題】パターンの解像度が高く、かつ、低露光の露光量を精密に制御することができる濃度分布マスクを得る。
【解決手段】微小網点図形の厚さが、透過光の位相を、１８０度を中心として１７０度以上１９０度以下位相シフトする厚さであり、前記微小網点図形の透過率が１％以上１０％以下であり、前記微小網点図形を透過する光量と前記微小網点図形間の微小間隙を通過する光量を同じ値にして光を相殺させた遮光領域を形成した濃度分布マスクを製造する。 （もっと読む）

【解決手段】 高スループット且つ低コストのサブミクロン３Ｄ構造製品を製造するための３Ｄ鋳型を製造するプロセスが開示される。このプロセスは、２光子レーザリソグラフィと３Ｄ書き込み技術との使用を統合して、３Ｄ構造製品の各層の３Ｄ鋳型を作り、次に、ナノインプリントを使用して、その層の上記３Ｄ鋳型から３Ｄ構造の各層のポリマー薄膜シートを形成する。次に、ポリマー薄膜シートの各層は、サブミクロン３Ｄ構造製品に製造される。高スループット且つ低コストのサブミクロン３Ｄ構造製品の各層の３Ｄ鋳型がさらに使用されて、マスタ鋳型が作られ、次に、マスタ鋳型を使用して、３Ｄ構造の各層のポリマー薄膜シートが形成されて、サブミクロン３Ｄ構造製品が製造される。このプロセスを使用する適用例も開示される。 （もっと読む）

【課題】鋸歯型パターンを安価かつ容易に製造するためのフォトマスク及びこのフォトマスクを用いた鋸歯型パターンの製造方法を提供する。
【解決手段】フォトマスク２７には、格子方向３３が一定の向きに順に傾斜するように、小領域４１ａ〜４１ｈが隣接して設けられている。小領域４１ａ〜４１ｈは、格子方向３３に平行な方向に電場が振動する直線偏光を透過し、格子方向３３に垂直な方向に電場が振動する直線偏光を反射するフォトニック結晶３１からなる。 （もっと読む）

【課題】感光性材料３次元形状の厚さを目的の形状に近づけるとともに、遮光パターンの数を少なくし描画に要するデータ量を少なくした濃度分布マスクを得る。
【解決手段】濃度分布マスクに、感光性材料３次元形状の厚さが最大値未満の領域に前記厚さを形成する透過光量を縮小投影する遮光パターンを設けた光透過率分布領域を形成し、前記光透過率分布領域と透過光量が０％の完全遮光領域の間の帯状の領域で、前記感光性材料層の露光光の波長の２分の１以上４倍以下の幅の領域に縮小投影する、透過光量が６％以下の完全遮光部緩衝領域を形成し、前記光透過率分布領域と透過光量が１００％の完全光透過領域の間の帯状の領域で、前記感光性材料層の露光光の波長の２分の１以上４倍以下の幅の領域に縮小投影する、前記感光性材料３次元形状の厚さを０にする１００％より少ない透過光量の完全光透過部緩衝領域を形成したパターンを描画する。 （もっと読む）