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【課題】 従来の平面配置型光導波路を用いた波長合分波器では、サイズが大きくなるため、波長多重伝送方式を用いた光配線構造において、高密度光配線が困難であった。
【解決手段】 波長多重伝送方式をベースにした光配線において、積層配置方向性結合光導波路を用いた波長合分波器を用いることで、高密度に集積可能な波長合分波器を用いた光配線構造を提供する。 (もっと読む)


【課題】生産性の高いI字型光導波路を組み合わせてL字型光導波路を作製し、L字型光導波路を構成する2本のI字型光導波路の、X方向およびY方向の組立精度を高く保ち、光電変換素子が1個で済むようにする。
【解決手段】L字型光導波路デバイス10では、一方のI字型光導波路11の結合端部は凹部15を備え、他方のI字型光導波路12の結合端部は凸部16を備える。凹部15と凸部16がはめ合って凹凸継手17を形成してI字型光導波路11、12同士が結合する。凸部16を備えたI字型光導波路12に属するコア群18は、光電変換素子14の近傍でほぼ直角に折れ曲がって、光電変換素子14に光結合する。 (もっと読む)


【課題】 光学特性の優れた光伝送基板および光モジュールを提供する。
【解決手段】 発光モジュール10は、第1電気配線が形成されている基体と、基体の上に形成された、伝送方向D1,D2に沿って光を伝送する光導波路32aを有している光学層30と、光学層30を厚み方向に貫通して形成された、第1電気配線に接続されている第1貫通導体42と、光学層30の上に形成され且つ第1貫通導体42に接続された、光電変換を行う光素子に接続される第2電気配線43とを有しており、第2電気配線43は、第1貫通導体42に接続されている第1接続部43aと、光素子に接続される第2接続部43bと、第1接続部43aおよび第2接続部43bの間を接続している主配線43cとを有しており、第1接続部43aおよび第2接続部43bの幅に比べて主配線43cの幅が狭くなっている。 (もっと読む)


【課題】太陽光のような外乱光の照度が高い環境で使用しても、受光素子(光電変換素子)の誤作動を防止することができる光導波路デバイスおよびそのオーバークラッド層の形成に用いられる樹脂組成物を提供する。
【解決手段】光導波路Aの一端部に受光素子Bが光結合されている光導波路デバイスにおいて、光導波路Aのオーバークラッド層3の表面が外乱光の入射面となっている。オーバークラッド層3は、紫外線硬化性樹脂を主成分とし、外乱光を吸収する色素を含有する樹脂組成物の硬化体からなっているとともに、コア2の頂面からオーバークラッド層3の表面までの厚みが100μm以上に設定されている。上記樹脂組成物として、光信号透過率T850と外乱光透過率T500と紫外線透過率T365とが、T500<T365<T850の関係を満たしているものを用いる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、光導波路構造の全反射信号の伝送技術を利用し、より簡単な半導体製造工程により送信端モジュールまたは受信端モジュールを製造することができる。
【解決手段】本発明は、電気信号または光信号に対する変換および伝送に応用する、光導波路構造を有する信号伝送モジュールであって、半導体基板と、第1膜層と、電気信号伝送デバイスと、光電気信号変換デバイスと、第2膜層と、光導波路構造と、を含む信号伝送モジュールである。その中、光電気信号変換デバイスは、電気信号または光信号を対応光信号または対応電気信号に変換する。光導波路構造のリフレクタの位置は、光電気信号変換デバイスに対応する。また、対応光信号は、第1膜層と、半導体基板と、第2膜層とを通り抜け、光導波路構造に入って伝送され、または光信号は逆方向で伝送されて光電気信号変換デバイスにより受信され対応電気信号に変換される。 (もっと読む)


【課題】PLCに一体集積された光モジュールの受光面に入射するビーム位置を調整可能にするPLCおよび当該PLCを用いた受光デバイスを提供する。
【解決手段】PLCは、光が入力される入力導波路304と、光を分岐する方向性結合器306と、分岐された光が透過する導波路アーム308,310と、導波路アームを透過した光を合波する方向性結合器および出力導波路312,314とを有し、導波路アームに紫外線を照射するか薄膜ヒータによる熱により出力端面から出力される光の位置を可変とした。 (もっと読む)


【課題】受光装置や発光装置との組み付けが容易な高分子光導波路を提供する。
【解決手段】クラッド用フィルム基材と、高分子材料からなるコアとを備え、前記コアは、前記クラッド用フィルム基材の片面に形成された導光部と、当該導光部の両端部に形成された反射ミラー面と、少なくともいずれか一方の前記反射ミラー面の外方であって前記クラッド用フィルム基材の凹部に形成された拡張部と、前記拡張部を挟んで前記反射ミラー面に対向する第1の光学素子部とからなり、前記導光部を伝搬した光が前記反射ミラー面で反射して前記第1の光学素子部を通過可能とされた。 (もっと読む)


【課題】半導体製造工程と光導波路構造の全反射信号伝送の技術を利用し、簡単かつ容易に異なる平面での電子素子層と光子素子層が完成できる。
【解決手段】光学伝送モジュール3は、半導体基板30と、半導体基板30の第一表面301に形成される第一膜層31と、半導体基板30の第二表面302に形成され、第一電気信号E1を光信号01に変換した後に送信する電子素子層33と、第一膜層31に形成され、第一反射面363と、光導波路構造主体360と、第二反射面364とを含む光導波路構造36と、を含み、光信号01は半導体基板30と第一膜層31を通り抜け、光導波路構造36に入り、第一反射面363により反射されて光導波路構造主体360の中で伝送され、また第二反射面364により反射されて第一膜層31と半導体基板30とを通り抜け、電子素子層33によって受信され、さらに光信号01が第二電気信号E2に変換される。 (もっと読む)


【課題】高速、大容量通信を実現する光電変換装置を提供することを目的とする。
【解決手段】トランシーバモジュール1は、光通信路17が結合される複数の光コネクタ2a、2bと、バックプレーンへ結合される電気コネクタ3と、光コネクタ2a、2bで受信した光信号を電気コネクタ3へ送信する電気信号へ変換し、電気コネクタ3で受信した電気信号を光コネクタ2a、2bへ送信する光信号へ変換する受発光素子9、10、11、12が搭載された回路基板6と、光コネクタ2a、2bと受発光素子9、10、11、12とを光学的に結合する導波路を有する導波路アレイ7、8とを備える。 (もっと読む)


【課題】斜め導波路を有する光素子を集積する場合に、素子端面の位置がずれてしまっても、精度良く位置合わせを行なえるようにする。
【解決手段】光集積素子の製造方法を、第1斜め導波路5を有する第1光素子1に、その端面位置を検知しうる複数の端面位置検知マーカ11A、及び、複数の端面位置検知マーカのそれぞれに対応する複数の第1位置合わせマーカ12Aを形成し、第2斜め導波路8を有する第2光素子2に、第1斜め導波路の端面位置と第2斜め導波路の端面位置とが合った場合に複数の第1位置合わせマーカのいずれかにいずれかの位置が合う複数の第2位置合わせマーカ13Aを形成し、端面位置を検知した端面位置検知マーカに対応する第1位置合わせマーカとこれに対応する第2位置合わせマーカとを合わせて第1斜め導波路の端面と第2斜め導波路の端面とを位置合わせして、第2光素子上に第1光素子を実装するものとする。 (もっと読む)


【課題】不具合が発生することなく低コストで歩留りよく光路変換ミラーを備えた光導波路を形成できる光導波路装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板10の上に、第1クラッド層40、コア層42及び第2クラッド層44を順次形成して光導波路Lを得る工程と、光導波路Lの両端側に、光路変換傾斜面S1とそれに交差する側壁面S2とを備えて第2クラッド層44及びコア層42を分断する溝部50をそれぞれ形成する工程と、溝部50の内面に金属層60を選択的に形成する工程と、光導波路Lの上に金属層60を封止する保護絶縁層34を形成する工程と、保護絶縁層34及び光導波路Lを厚み方向に加工することによって、溝部50の側壁面S2に形成された金属層60を除去して凹部70を形成することにより、光路変換傾斜面S1に金属層60からなる光路変換ミラーMを得る工程とを含む。 (もっと読む)


【課題】接続パッドを備えた配線基板の上にコア層を十分なパターン精度で形成して光導波路を構成できる光電気複合基板の製造方法を提供する。
【解決手段】上面に接続パッドPを備えた配線基板10上の接続パッドPを除く領域に第1クラッド層40を形成する工程と、第1クラッド層40の上に帯状のコア層50を形成する工程と、コア層50を被覆する第2クラッド層60を形成することにより、コア層50が第1クラッド層40及び第2クラッド層60で囲まれた構造の光導波路Lを得る工程とを含む。第1クラッド層40の厚みは接続パッドPの厚みと同一に設定されて、接続パッドPの段差が解消される。 (もっと読む)


【課題】損失を小さくして光の伝送ロスを小さくすることができるとともに、コア材の流出を防止して歩留まりを向上させることができる光導波路付き配線基板を提供すること。
【解決手段】光導波路付き配線基板10は、配線層42と絶縁層33,34とを積層してなり、基板厚さ方向に沿って延びる孔80内に光導波路82を備える。光導波路82は、光信号が伝搬する光路となるコア83及びコア83を取り囲むクラッド84を有する。なお、クラッド84の屈折率はコア83の屈折率よりも小さく、コア83及びクラッド84の比屈折率差は1.4%以上である。また、コア83を形成するためのコア材及びクラッド84を形成するためのクラッド材は、クラッド材の硬化物からなるシート上にコア材を未硬化状態で滴下したときの接触角が35°以上となるような組み合わせとされている。 (もっと読む)


【課題】 本発明の目的は、反射部での光損失が小さい光導波路構造体および電子機器を提供することにある。
【解決手段】 本発明の光導波路構造体は、光を伝送するコア部および前記コア部の外周に接合されたクラッド部を有する光導波路と、前記コア部の光の伝送方向に対して傾斜した傾斜面を有する反射部と、を有する光導波路構造体であって、前記傾斜面の平滑度を向上する処理を施していることを特徴とする。また、本発明の電子機器は、上記に記載の光導波路構造体を用いることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】コストの上昇や特性の低下を招くことなく、実装が容易な状態で、LSIのチップ間やチップ内の信号伝送を、光配線で行えるようにする。
【解決手段】素子形成領域122のシリコン上にエピタキシャル成長により形成した半導体層を光吸収層として備えて素子形成領域122に形成された光素子123と、光導波領域121に形成された溝部101aと、溝部101aに充填されて形成された下部クラッド層102と、下部クラッド層102の上に形成されて光素子123に光接続するコア103と、コア103の上に形成された上部クラッド層104と、コア103よりなる光導波路の光導波方向に垂直な方向の素子形成領域122の側部の基板101上に形成されて、光素子123に電極引き出し部105を介して接続する電極パッド部106とを備える。 (もっと読む)


【課題】 光導波路の交差部分および出力端の少なくとも一方で生じる光信号の損失を抑制するとともに、光導波路の高密度配線に適した光導波路デバイスを提供する。
【解決手段】 光導波路デバイスの一態様は、光導波路が交差する光導波路配線と、光導波路の交差部分に配置され、光導波路のコアよりも屈折率が高い中継部とを備える。 (もっと読む)


【課題】半導体素子チップと、複数の光電変換モジュールと、複数の光電変換モジュールよりも少ない数の外部光接続部と、複数の光電変換モジュールと外部光接続部との間に形成された複数の光導波路とを備え、複数の光導波路における光学損失の絶対値を小さくでき、複数の光導波路間の光学損失のばらつきを小さくでき、複数の光導波路を小さい面積で配設可能な半導体パッケージを提供する。
【解決手段】複数の光導波路5が束ねられて光電変換モジュール3より少ない数の外部光接続部に接続されており、かつ、個々の光導波路5は、外部光接続部側から見て、第1の直線部14と、変曲点を持たない曲線部15と、第1の直線部14と線方向の異なる第2の直線部16とから構成されている。 (もっと読む)


【課題】パターン形状の設計の自由度が広く、寸法精度の高いコア部(光路)を簡単な方法で形成することができ、また、耐久性に優れる光導波路を備えた光導波路構造体および電子機器を提供すること。
【解決手段】光導波路構造体1は、コア層93の両面にクラッド層91、92を積層してなる光導波路9と、その両面にそれぞれ接合された導体層51、52と、光導波路9の光路をほぼ直角に屈曲させる光路変換部96と、発光素子10と電気素子12とを備えている。コア層93は、コア部94とクラッド部95とを有し、コア部94は、(A)環状オレフィン樹脂と、(B)前記(A)とは屈折率が異なり、かつ環状エーテル基を有するモノマーおよび環状エーテル基を有するオリゴマーのうちの少なくとも一方と、(C)光酸発生剤と、を含む組成物で構成された層に対し光を選択的に照射することにより所望の形状に形成されたものである。 (もっと読む)


【課題】光回路のパターン形状の設計の自由度が広く、寸法精度の高いコア部を容易に形成でき、電気素子との位置決めが容易な光導波路を備えた光導波路構造体および前記光導波路構造体を用いた電子機器を提供する。
【解決手段】光導波路構造体1は、基板2と、光導波路9と、光路変換部96と、電気素子と、電気素子の位置決めを行う位置決め手段33、34と、導体層5とを有する。光導波路9は、コア部94とクラッド部95とを有し、コア部94は、(A)環状オレフィン樹脂と、(B)前記(A)とは屈折率が異なり、かつ、環状エーテル基を有するモノマーおよび環状エーテル基を有するオリゴマーのうちの少なくとも一方と、(C)光酸発生剤と、を含む組成物で構成されたコア層に対し活性放射線を選択的に照射することにより所望の形状に形成されたものである。 (もっと読む)


【課題】パターン形状の設計の自由度が広く、寸法精度の高いコア部(光路)を簡単な方法で形成することができ、また、耐久性に優れるとともに高集積化が可能な光導波路を備えた光導波路構造体および電子機器を提供すること。
【解決手段】光導波路構造体1は、コア層93とクラッド層91、92とを積層してなる光導波路9を有している。コア層93は、その層内に伝送光の光路であるコア部94とクラッド部95とを有している。コア部94の平面視形状は、2つの線状体が交差部943において直交した形状をなしている。また、コア部94は、(A)環状オレフィン樹脂と、(B)前記(A)とは屈折率が異なり、かつ環状エーテル基を有するモノマーおよび環状エーテル基を有するオリゴマーのうちの少なくとも一方と、(C)光酸発生剤と、を含む組成物で構成されたコア層93に対し光を選択的に照射することにより形成されたものである。 (もっと読む)


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