【課題】 基板を回転させながら該基板を洗浄処理する際に、基板を汚染させることなく良好に洗浄処理することのできる基板処理装置を提供する。
【解決手段】 保持ピンの当接部１０２の高さ位置を第２高さ位置Ｐ２に位置決めして、保持ピンにより未処理基板Ｗの表面Ｗｆを下方に向けたフェースダウン姿勢で保持しながら、基板Ｗの裏面Ｗｂを上面洗浄ブラシ３１で基板Ｗを回転させながら洗浄処理する。続いて、保持ピンの当接部１０２の高さ位置を第３高さ位置Ｐ３に位置決めして、基板Ｗを第１高さ位置Ｐ１で支持ピン６により支持するとともに、遮断板５を処理位置ＰＬに位置決めして遮断板５の対向面５ａと基板Ｗとの間に形成される空間ＳＰに窒素ガスを供給することで基板Ｗを支持ピン６に押圧保持させる。このように基板Ｗを保持した状態で基板Ｗを回転させて基板Ｗの端面を端面洗浄ブラシ４１で洗浄処理する。 （もっと読む）

【課題】交換を要することなく洗浄範囲を変更することができ、洗浄強さの設定も容易な基板洗浄ブラシ、ならびにこれを用いた基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板洗浄ブラシ１０ａは、基板Ｗの端面８に押し当てられる端面洗浄面１５を含む端面洗浄部１６と、この端面洗浄部１６に結合され、基板Ｗの主面１７の周縁部９に押し当てられる周縁洗浄面１８を含む周縁洗浄部１９とを備える。周縁洗浄部１９は、端面洗浄面１５から第１の距離Ｄ１だけ張り出した第１周縁洗浄面２１を有する第１部分２２と、端面洗浄面１５から第１の距離Ｄ１とは異なる第２の距離Ｄ２だけ張り出した第２周縁洗浄面２３を有する第２部分２４とを含む。
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【課題】基材の外周部に被膜された不要物に反応性ガスを接触させて除去する際、反応性ガスの利用効率及び反応効率を高め、所要ガス量を低減できる基材外周処理装置を提供する。
【解決手段】基材外周処理装置にオゾン等の反応性ガスの供給路４２を形成し、この供給路４２に柄杓型ノズル６０の導入部６２を連ね、この導入部６２の先端に柄杓型ノズル６０の筒部６１を設ける。この筒部６１を基材Ｗの被処理位置に被さるように配置する。筒部６１の内部は、導入部６２より拡開しており、反応性ガスを一時滞留させる一時滞留空間となる。好ましくは、筒部６１の下端部に切欠きなどの逃がし口を設ける。 （もっと読む）

【課題】 簡単な機構で押圧荷重を精密に制御可能な基板洗浄装置の実現。
【解決手段】 基板を保持して回転する基板保持・回転機構11-18と、洗浄ブラシ21を保持して回転するブラシ保持・回転機構22-26と、ブラシ保持・回転機構を、基板保持・回転機構に保持された基板に押圧すると共に垂直な方向に変位させる押圧機構27-32とを備える基板洗浄装置において、押圧機構はエアバッグ31を備え、エアバッグを介して押圧する。 （もっと読む）

【課題】 露光装置において基板に付着した液体による動作不良が防止された基板処理装置および基板処理方法を提供することである。
【解決手段】 基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、乾燥／現像処理ブロック１２およびインターフェースブロック１３を備える。インターフェースブロック１３に隣接するように露光装置１４が配置される。乾燥／現像処理ブロック１２は乾燥処理部９５を備える。インターフェースブロック１３はインターフェース用搬送機構ＩＦＲを備える。露光装置１４において基板Ｗに露光処理が施された後、基板Ｗはインターフェース用搬送機構ＩＦＲにより乾燥処理部９５に搬送される。乾燥処理部９５において基板Ｗの洗浄および乾燥が行われる。 （もっと読む）

【課題】低温エーロゾルの製造および制御による基材の処理。
【解決手段】１種以上の寒剤の液体流または液体／気体流を第１の圧力でノズルから、該ノズルに対して下流側に固体のエーロゾル粒子を有する低温エーロゾルスプレーを形成するように、第１の圧力より低い第２の圧力に維持されているチャンバー中に注入することからなる、低温エーロゾルスプレーを該チャンバー中に配置された基材に衝突させることにより該基材を処理するための方法であって、上記液体流または液体／気体流は注入されて、内部に気泡を有する液体粒子を含むスプレーを形成し、そして上記第２の圧力は１．６×１０⁴ パスカル以下であり、それにより、上記液体粒子は、上記スプレーの液体粒子中の上記気泡の成長により起沸して噴出し、そして上記固体のエーロゾル粒子が形成される際に、上記気泡は上記液体粒子を崩壊し、それにより該固体粒子が減少した粒度に形成される方法。 （もっと読む）

【課題】 曲面を含む表面の全体をドライ洗浄することができる表面洗浄方法および装置を提供する。
【解決手段】 本発明の表面洗浄方法は、被洗浄物２を回転させ、被洗浄物２の被洗浄表面４に対して斜めにエネルギー粒子１を照射し、洗浄工程には、前記回転および前記照射を同時に実行する時間帯及び／または前記回転および前記照射の一方のみを実行する時間帯が存在する。また、本発明の表面洗浄装置は、被洗浄物２を保持する保持部５と、被洗浄物２を回転させる回転機構３０と、被洗浄物２にエネルギー粒子１を照射するエネルギー粒子照射機構１６とを備え、エネルギー粒子１は、保持部５に保持された被洗浄物２の被洗浄表面４に対して斜めに照射される。 （もっと読む）

【課題】均一な洗浄が可能で洗浄液の使用量が少ないルツボ洗浄装置を提供する。
【解決手段】本ルツボ洗浄装置は洗浄されるルツボＲが底部を上にして載置される回転テーブル４と、この回転テーブル４の中心近傍に設けられ洗浄液をコーン状に噴射してルツボＲの内表面に噴きつける噴射ノズル５と、回転テーブル４の上方に設けられ、ルツボＲの外表側に洗浄液を流出させる１個の流出ノズル６を備える。 （もっと読む）

【課題】プラズマ処理後のポリマー残留物を基体、例えば電子装置から除去するために有用な組成物の提供。プラズマ処理後の残留物を除去する方法および組成物を用いた集積回路の製造法の提供。
【解決手段】本発明は、ａ）フッ化物イオン源；ｂ）水；ｃ）トリハロ酢酸、有機ポリカルボン酸化合物、有機ヒドロキシ−カルボン酸化合物およびアミノ酸から選択される有機酸化合物；ならびに任意にｄ）有機溶媒を含む組成物であって、４．５以下のｐＨを有する組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】基板の表裏両面の好適な洗浄を可能とする。
【解決手段】ベース部材２に設けられた保持部材６によってベース部材２と基板Ｗとが離間された状態で基板Ｗの周縁部が保持され、保持部材６に保持された基板Ｗの面のうち、ベース部材２に向く側の第１洗浄面ＷＦ１を洗浄するための第１洗浄ブラシ２１は、第１洗浄具支持アーム２２によって、基板Ｗとベース部材２との間に第１洗浄面ＷＦ１に沿って移動可能に配置支持される。回転モーター１１によってベース部材２に連結された中空状の回転軸９を介して基板保持機構１及びそれに保持された基板Ｗを回転させながら、回転モーター１６による移動動力によって、第１洗浄面ＷＦ１に沿って第１洗浄ブラシ２１を移動させ、第１洗浄ブラシ２１により基板Ｗの第１洗浄面ＷＦ１を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】シリコンウエハー、フォトマスク基板、フォトマスクブランクス等を含む表面から１００ｎｍ以下の微粒子を除去する装置及び方法を提供する。
【解決手段】紫外線洗浄器具は、処理チャンバーの中に設置された紫外線光源１０２を有し、表面１０４の上方に位置させ、処理チャンバー内の様々な処理中に使用してよい。ガラス基板、ガラス表面、シリコン基板、プレート、フォトマスク基板などの表面１０４と紫外線光源１０２との距離は、モータ１１０を使って回転チャック１０６を動かすことによって調節できる。あるいは、紫外線光源１０２を垂直に動かすことによっても距離を調節できる。紫外線光源１０２は、およそ１４０〜４００ｎｍの波長で１ｍＶ／ｃｍ^２以上の強さであって、高圧、低圧水銀ランプ等が用いられる。紫外線光源１０２は、微粒子と表面１０４との間の化学結合を切断するオゾンを発生させ、これが洗浄性能を高める。 （もっと読む）

【課題】 過冷却液体から氷の微粒子を含む処理液を製造する場合に、汚染物質が混入する心配が無く、生成された氷の微粒子が溶解することもない装置を提供する。
【解決手段】 下部に液体導入口１８および気体噴出口２４を有し上部に氷の微粒子を含む処理液の流出口２８を有する本体部１０を備え、液体導入口１８を通って本体部内１０へ導入された過冷却液体中に気体噴出口２４から気体を噴出して過冷却状態を解除し、生成された氷の微粒子を含む処理液を本体部１０内から流出口２８を通って流出させる。 （もっと読む）

【課題】 長時間の洗浄を可能とした洗浄装置を提供する。
【解決手段】 被洗浄物３を洗浄するためのガスと液体とからなる混合物を被洗浄物に向けて吐出するノズル６と、ノズル６に所定のガス吐出圧力でガスを供給するガス供給機構８と、ノズルに液体を供給する液体供給機構９と、を備えた洗浄装置１である。液体供給機構９は、液体を貯液する液体加圧タンク２０と、液体加圧タンク２０からノズル６へ、所定の液体吐出圧力で、ガスよりも時間当たりの流量が少ない液体を供給するための液体供給ライン２１と、液体加圧タンク２０に、液体吐出圧力以上の圧力で外部から液体を供給することで、液体の補充を行う液体補充機構２２と、を備える。液体供給機構９は、液体加圧タンク２０から液体供給ライン２１によりノズル６へ液体を供給しつつ、液体補充機構２２から液体加圧タンク２０への液体の補充が行えるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】 基板を非接触で水平姿勢に保持する場合において、簡易な構成により、基板を浮上させるために基板下面に向けて噴出される気体の流量を均一化することができる装置を提供する。
【解決手段】 空気通路となる微細孔が全体にわたって均一に形成された円環状の多孔質部材２０と、多孔質部材２０が一体的に固設されて上面に多孔質部材の平坦な表面が露呈し多孔質部材の一部に連通する気体供給路２６が内部に形設されたステージ１８と、ステージ１８の気体供給路２６を通して多孔質部材２０へ気体を供給する気体供給手段とを備え、多孔質部材２０へ気体を供給して多孔質部材の表面から上向きに気体を噴出させ、ステージ１８の直上に基板Ｗを浮上させて非接触で保持する。 （もっと読む）

【課題】 基板に接触して洗浄する洗浄部材の表面のみならず内部をも浄化させることができる部材洗浄機構を備えた基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】 ウエハ洗浄装置１０は、ウエハＷを保持するスピンチャック１１と、ウエハＷの表面に接触して洗浄する伸縮性のある洗浄部材３２を有するブラシ３０と、ブラシ３０を基板処理位置と待避位置との間で移動させるブラシ移動機構２０と、待避位置において洗浄部材３２を洗浄するためのブラシ洗浄機構５０を具備する。ブラシ洗浄機構５０は、洗浄部材３２を圧縮／自然膨張させるように洗浄部材３２と相対的に接離自在に設けられた円柱部材５２と、洗浄部材３２に純水を供給する第１の部材洗浄ノズル５４ａを有する。洗浄部材３２は、自然膨張した状態で純水を吸収し、圧縮される際に吸収した純水とともに洗浄部材３２の表面および内部の汚れを排出し、浄化される。 （もっと読む）

【課題】一方の主面がウェット洗浄に向かない基板の両側の主面を同時に洗浄する。
【解決手段】基板洗浄装置１は、基板９の外縁部を保持する円環状の基板保持部２、基板９の下面にドライ物理洗浄を行う第１洗浄機構３、および、基板９の上面に液体を用いるウェット洗浄を行う第２洗浄機構４を備える。第１洗浄機構３は、基板９の下面に向けて固形の二酸化炭素の微粒子を噴出する外部混合型の２流体ノズルである噴射ノズル３１を備える。第２洗浄機構４は、基板９の上面に洗浄液を供給する洗浄液供給部４２、洗浄液が供給された基板９の上面を洗浄する洗浄ブラシ４１を備える。基板洗浄装置１では、基板保持部２に保持された基板９の下面に対して第１洗浄機構３によりドライ物理洗浄が行われ、上面に対して第２洗浄機構４によりウェット洗浄が行われることにより、一方の主面がウェット洗浄に向かない基板の両側の主面を同時に洗浄することができる。 （もっと読む）

【課題】ワークの表面上に存在している異物をワークの表面から確実に除去することができ、更に異物のワーク表面への再付着を防止することができるスクラブ洗浄方法を提供すること。
【解決手段】スクラブ洗浄方法は、円筒状ワーク１の表面に連続気孔の多孔性軟質体からなるこすり部材11の表面を当接させ且つこすり部材11の表面を押圧部材18により押圧し
た状態で、洗浄液20をこすり部材１の内部から連続気孔を介して表面外側に滲出させなが
ら、こすり部材11を自軸回転させることにより、ワーク１の表面をスクラブ洗浄する。 （もっと読む）

【課題】適量の洗浄液で被洗浄ローラ保持シャフトへの汚れの再付着或は前記洗浄布の清潔な部分への汚れの再付着を防止し、効率良く洗浄することができるローラ保持シャフト洗浄装置を提供すること。
【解決手段】被洗浄ローラ保持シャフト１を洗浄する洗浄布２と、洗浄布２を張設するためのガイドローラ３と、同様に洗浄布２を張設し、且つ、洗浄布２に洗浄液を供給する洗浄液供給シャフト４と、被洗浄保持シャフトと洗浄布の接触圧を調整するテンション調整ローラ５と、前記テンション調整ローラ５を軸と垂直方向に引張る引張り機構６と、洗浄布２を送り出す洗浄布送り出し機構７と洗浄布２を巻き取る洗浄布巻き取り機構８と、洗浄布２に洗浄液を供給する洗浄液供給機構９とでできるローラ保持シャフト洗浄装置を構成する。 （もっと読む）

【課題】 表面形状が球面の光学物品を、研磨剤を用いることなく、効率良く洗浄する洗浄方法及び洗浄装置を提供する。
【解決手段】 成形型Ｍを保持し回転させるスピンドル２と、表面が凹凸付弾性体からなり成形型Ｍの回転軸方向と交差する方向に回転する洗浄ローラ５と、洗浄液を成形型Ｍまたは洗浄ローラ５に供給する洗浄液吐出ノズル６を備え、成形型Ｍをスピンドル２の回転軸の周方向に回転し、洗浄ローラ５を成形型Ｍに圧接させながら、洗浄ローラ５の回転接線方向と成形型Ｍの回転接線方向とが互いに同一方向とならない方向に回転し、洗浄液吐出ノズル６から洗浄液を成形型Ｍまたは洗浄ローラ５に供給しながら、洗浄ローラ５を成形型Ｍの回転中心から外周方向、または外周から回転中心方向へ移動させて成形型Ｍの表面を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】 口金部に付着した塵埃を効果的、かつ確実に清掃することができる。
【解決手段】 有底円筒状をなし、一端側に口金部が形成された缶の清掃装置１おいて、口金部に接触可能に支持された布２１と、口金部に対して布２１を相対移動させる移動機構２０とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）