【課題】電極を交換することなく、電極周辺に付着した反応生成物を簡単に除去することができるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】プラズマ処理装置１は、ワーク１０を介し対向して配置された１対の電極２、３と、１対の電極２、３間に電圧を印加する電源を備えた電源回路と、処理ガスを供給する処理ガス供給手段と、電極２、３間に処理ガスを噴出するノズルと、１対の電極２、３のうちの一方の電極の他方の電極と対向する面側に位置する被洗浄部９０をプラズマにより洗浄する洗浄手段９とを備え、電極２、３間に電圧を印加することにより、ノズルから噴出された処理ガスを活性化してプラズマを生成し、該プラズマによりワーク１０の被処理面１０１をプラズマ処理するよう構成され、洗浄手段９は、１対の電極２、３のうちの少なくとも一方を用いてプラズマを生成し、該プラズマによりプラズマ洗浄する。 （もっと読む）

【課題】幅広のワークに対して均等なプラズマ照射を行うことができるプラズマ発生装置およびそれを用いるワーク処理装置を提供すること。
【解決手段】同心状に配置される内側電極と外側電極との間にグロー放電を生じさせてプラズマを発生させ、それらの間に処理ガスを供給することで、環状の吹出し口から常圧下でプラズマ化したガスを放射するノズルを用いるにあたって、プラズマ発生ノズル３１の先端に、環状の吹出し口を長手状の吹出し口３８７に変換するアダプタ３８を装着する。アダプタ３８内ではプラズマが冷却されにくく、照射位置がノズル３１から離れていてもプラズマが消失する割合が小さくなる。また、アダプタ３８の温度がノズル消費エネルギーに対応するので、温度センサ３６を設けて点灯したかどうかを検出することができる。 （もっと読む）

【課題】狭小空間に面する構成部品を効率的且つ十分に洗浄することができる洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄装置１００は、本体１２０と、本体１２０内部から屈曲自在に延設された二重管ノズル１１０とを有する。二重管ノズル１１０は、噴出管１１４と、該噴出管１１４を取り囲む吸引管１１２とを有し、噴出管１１４の噴出口１１４ａは吸引管１１２の吸引口１１２ａ内において開口する。噴出管１１４はその噴出口１１４ａ近傍においてくびれ部１１４ｂを有しており、供給された所定のガスを当該くびれ部１１４ｂにおいて加速する。その結果、該ガスの一部がエアロゾル化され、且つ該ガスは加速によって衝撃波を形成する。これにより、噴出管１１４はガス及び該ガスと同一の物質からなるエアロゾルを含んだ衝撃波を構造物５０の表面に付着したパーティクルＰに向けて噴出する。 （もっと読む）

【課題】誘電面上に生じる電荷の中和効果を向上させ、平坦な面も曲線状の面もイオンビーム処理し得る、誘電面をイオンビーム処理する方法、および当該方法を実施するための装置を提供する。
【解決手段】カソード４の材料にグラファイトまたはボロンを使用し、かつ作動ガスとして酸素またはその混合物を使用することによって、スパッタリング生成物が被処理面１上に凝縮しなくなることで、被処理面１への汚染を最小限にする。また被処理面１へのイオン流の作用領域と、この面とトンネル状の磁界部分との交差領域とが、部分的重なるようにすることによって、被処理面１上の電荷の中和効果を向上させる。種々の形状のイオンビームを生成する加速器をイオン源２として使用することで、平坦な面も曲線状の面もイオンビーム処理できるようにする。 （もっと読む）

【課題】リードタイムを短くし、処理性能において従来よりも信頼性のある処理装置及び処理方法を提供する。
【解決手段】チャンバー１と、チャンバー内に設けられ、被処理物２を保持する保持手段３と、チャンバー内に活性原子を供給する活性原子供給手段４と、チャンバー内に薬液を供給する薬液供給手段５とを有し、被処理物の表面に対し、活性原子供給手段から供給される活性原子によるドライ処理及び薬液供給手段から供給される薬液によるウェット処理を行なう。 （もっと読む）

【課題】ウエハ等の板状部材を搬送する間に、当該板状部材の表面に付着した異物を除去することができるクリーニング装置及び方法を提供すること。
【解決手段】半導体ウエハＷを保持してこれを搬送する搬送装置１１と、前記半導体ウエハＷの表裏各面に付着した異物を除去するエアパージ装置１２とを備えてクリーニング装置が構成されている。エアパージ装置１２は、半導体ウエハＷを受容する空間ＳＰを備えたケース３０を含み、このケース３０は、半導体ウエハＷの表裏各面にエアを噴出して異物除去を行うエア噴出口３５を備えている。 （もっと読む）

【課題】 段ボール製造のプラテン出口の分割装置内で発生する紙粉を、紙粉が発生する分割と同時にその部分の紙粉を除去する装置を提供する。
【解決手段】 分割部を構成している分割コンベア５および６の間の上部に加圧空気のヘッダに開孔を設けたエアノズル１を設備し、分割のタイミングと分割数でどのエアノズル１に空気を供給するか開閉弁３を制御すべく制御盤２を設ける。 （もっと読む）

【課題】部品から除去した塵埃が、再び部品に付着することを確実に防止することができ
る除塵装置及び除塵方法を提供すること。
【解決手段】処理対象５０を保持する保持台３０を有する除塵室１２と、処理対象５０に
対して空気を吹き付ける空気噴射装置２２と、除塵室１２から塵埃を吸引する負圧発生装
置１８を有する除塵装置１０であって、負圧発生装置１８は、除塵終了後において、予め
規定した規定時間の間、作動を継続するように構成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ステージ面上に存在する異物が散乱しないように清掃することによって、製品不良をなくして製品の歩留まりの低下を防止する。
【解決手段】パネル２００をバックアップユニット６のステージ面１７上に載置した状態で加圧装置４を用いて電子部品２０２をパネル２００に圧着する部品圧着装置において、前記ステージ面１７上に存在する異物を前記ステージ面１７の延在方向に対して傾斜して設けられた清掃部２１を移動させて支持部６に対して、パネル２００の載置される側の反対側又は、パネル２００の搬入あるいは搬出側と反対側の方向に掃き出すように清掃することによって前記ステージ面１７を清掃する。 （もっと読む）

【課題】ステージ面上に存在する異物が散乱しないように清掃することによって、製品不良をなくして製品の歩留まりの低下を防止する。
【解決手段】パネル２００をバックアップユニット６のステージ面上に載置した状態で加圧装置４を用いて電子部品２０２をパネル２００に実装する部品圧着装置において、前記ステージ面上に存在する異物をパネル２００の載置される側の反対側又はパネル２００の搬入あるいは搬出側と反対側の方向に掃きだすように清掃部を駆動させることによって前記ステージ面１７を清掃する。 （もっと読む）

【課題】ステージ面上に存在する異物が散乱しないように清掃することによって、製品不良をなくして製品の歩留まりの低下を防止する。
【解決手段】パネル２００をバックアップユニット６のバックアップステージ１７上に載置した状態で加圧装置４を用いて電子部品２０２をパネル２００に実装した後に、パネル２００の載置される側の反対側又はパネル２００の搬入あるいは搬出側と反対側の方向に掃き出すように清掃部を駆動させることによって前記バックアップステージを清掃する。 （もっと読む）

【課題】対象物に付着する異物を自動的に除去し、かつ除去された異物が対象物に再付着したり、周囲に飛散したりしないようにできる異物除去装置を提供する。
【解決手段】本発明異物除去装置は、対象物に付着した異物を除去する異物除去装置である。この装置は、第一除電機構（除電機構1）と、第一流体噴射機構（エア噴出機構3）と、第一吸引機構（集塵機）とを有する。第一除電機構は、対象物の帯電を除去する。第一流体噴射機構は、除電された対象物（チューブA）に対して流体を噴射し、対象物に付着する異物を吹き飛ばす。第一吸引機構は、第一流体噴射機構で吹き飛ばされた異物を吸引する。 （もっと読む）

静電チャック（ESC）の洗浄方法であって、ESCのセラミック表面を誘電性流体に浸す工程と、ESCのセラミック表面を導電性表面から離して、誘電性流体がESCのセラミック表面と導電性表面との間に満たされる工程と、誘電性流体を超音波攪拌すると同時にESCに電圧を印加する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】レチクルに付着した異物を確実に除去する。
【解決手段】レチクルに付着した異物を確実に除去するレチクルクリーニング装置は、クリーニング室２２内においてレチクル姿勢変更装置５０によって垂直状態に保持されたレチクル１に窒素ガスを噴射する複数個の噴射ノズル７６と、レチクル１に噴射した窒素ガスを異物と共に吸引して排気する排気ダクト７８とを備えており、クリーニングに際して、噴射ノズル７６群と排気ダクト７８とは往復水平移動しながら下降する。垂直状態に保持されたレチクルに窒素ガスを噴射するとともに、レチクルに噴射した窒素ガスを異物と共に吸引するので、レチクルに付着した異物の飛散を防止しつつ確実に除去できる。噴射ノズル群と排気ダクトがレチクルの全面をスキャニングするので、レチクルの全面の異物を確実に除去できる。 （もっと読む）

【課題】フィルムロールから剥離させた異物が再付着することを防止でき、効率よくフィルムロール表面を除塵できるフィルムロールの除塵方法及びフィルムロール用除塵設備を提供する。
【解決手段】フィルムロール用除塵設備１０は、フィルムロール１２の上方でエアを吸引する吸引口３２Ａと、吸引されたエアに含まれる異物の粒子数を計測するパーティクルカウンタ３８と、吸込されたエアを除塵するエアフィルタ６２と、除塵した清浄エアをイオン化するイオナイザ装置６０と、イオン化した清浄エアを吸引口３２Ａの両側からフィルムロール１２に向けて吹き出すことによりフィルムロール１２から吸引口３２Ａに向かう気流を形成する吹出口３２Ｂ、３２Ｂと、フィルムロール１２表面から吹出口３２Ｂまでの距離に基づいて清浄エアの吹出風速及び吹出角度を制御する制御装置４４と、を備える。 （もっと読む）

【課題】放電ランプによる紫外光の照射エネルギを最大限に活用して、基板に対する親水化処理を効率的に行う。
【解決手段】搬送手段２により基板１を概略水平搬送する間に、処理チャンバ４内に設けた放電ランプ３により、その被処理面１Ａに対して３ｍｍ以下の距離から１７２ｎｍを主波長とする紫外光が照射され、かつ処理チャンバ４では供給配管５からガス貯留室７に５５％〜８０％の水蒸気を含む湿潤不活性ガスが供給されており、処理チャンバ４内に層流状態のダウンフローが形成され、被処理面１Ａに付着している有機物質が分解されて低分子化し、雰囲気中における水蒸気が分解されて、酸化性のラジカルと還元性のラジカルと分解物と反応して空気中に放出され、基板１の被処理面１Ａの親水化処理が行われる。 （もっと読む）

【課題】洗浄液を用いることなく、帯電した電荷の影響により基板に付着した異物を容易に除去する。
【解決手段】洗浄面３ａを下方に向けて配置された基板３に対し、軟Ｘ線を洗浄面に照射する軟Ｘ線照射装置８と、軟Ｘ線が照射されている基板３を振動させる複数の超音波振動子５と、軟Ｘ線照射装置８および超音波振動子５が配設され、低真空状態に設定された洗浄室２とを有し、各超音波振動子５はそれぞれ異なる振動周波数で発振させ、各超音波振動子５の振動周波数が一定周期で変化するように設定する。 （もっと読む）

【課題】固体撮像装置に組み込まれるスペーサ付カバーガラスを洗浄するにあたり、スペーサの剥がれ、接着剤残りの形成を防ぎ、ドライエッチング時の残渣、環境異物を除去することのできるスペーサ付カバーガラスの洗浄方法を提供すること。
【解決手段】ドライエッチング後に行うドライ洗浄工程と、ドライ洗浄工程の後に行う拭き取り洗浄工程と、拭き取り洗浄工程の後に行う第１ウェット洗浄工程と、第１ウェット洗浄工程の後に行う第２ウェット洗浄工程と、によってドライエッチング後のスペーサ付カバーガラス１２を洗浄するようにした。 （もっと読む）

【課題】エアーによってキャップの内面を浄化する浄化装置において、キャップを保持するための構成を単純化する。
【解決手段】浄化装置１００は、キャップ１０の内面を浄化するように構成される。浄化装置１００は、開口部２０ａが形成された支持面２０ｓを有する支持台２０と、開口部２０ａの中央部に向けてエアーを噴射するように配置されたノズル４０と、開口部２０ａを通してキャップ１０の内側空間のエアーを吸引する吸引装置５０とを備える。吸引装置５０によってキャップ１０の内側空間のエアーを吸引することによってキャップ１０が支持面２０ｓに吸い付けられて保持されるととともにノズル４０からエアーを噴射することによってキャップ１０の内面の異物が除去される。 （もっと読む）

【課題】 半導体ウェハの有機物汚染を軽減する有機物除去装置および除去方法を提供する。
【解決手段】 本発明の有機物除去方法は、減圧された処理室５内に配置される半導体ウェハＷに付着した有機物の除去を行う。半導体ウェハＷに波長２００ｎｍ以下の紫外線を照射し、半導体ウェハに付着した有機物を分解する。そして、処理室５内に、酸素マイナスイオンラジカルまたは酸化物イオンと酸素マイナスイオンラジカルを含む単原子イオンから成るマイナスイオンを供給して、マイナスイオンを紫外線により分解された有機物と反応させる。この酸化反応によって、有機物が半導体ウェハＷから、気体として放出され除去される。 （もっと読む）