【課題】成膜材料等に影響を与えることなく、大型の成膜用マスクに対して均一なクリーニングを高速且つ効率良く行うことができる技術を提供する。
【解決手段】クリーニングガス供給部８から供給されたクリーニングガスを放電させ、クリーニングガスのラジカルをマスク６に向って放出するためのラジカル放出器１０を真空槽内に備える。ラジカル放出器１０は、面状のシャワープレート１５と、面状のメッシュ状部材１６を有する。シャワープレート１５とメッシュ状部材１６とが電気的に絶縁されるとともに、シャワープレート１５に高周波電力を印加することにより、シャワープレート１５とメッシュ状部材１６の間のプラズマ形成室１８においてクリーニングガスのプラズマを生成し、メッシュ状部材１６からマスク６に向ってクリーニングガスのラジカルを放出する。 （もっと読む）

【課題】大型の処理対象物の表面に対して分布が均一な処理を安価に行うことができる技術を提供する。
【解決手段】真空槽１２の外部に設けられた処理ガス供給源８と、処理ガス供給源８から供給された処理ガスを放電させるラジカル放出器１０とを備える。ラジカル放出器１０の処理ガス導入室１４の基板側に、導電体からなる面状のシャワープレート１５と、シャワープレート１５に対応する大きさ及び形状の導電体からなる面状のメッシュ状部材１６が設けられる。シャワープレート１５とメッシュ状部材１６とは電気的に絶縁されている。メッシュ状部材１６に高周波電力を印加し、シャワープレート１５とメッシュ状部材１６の間のプラズマ形成室１８において処理ガスのプラズマを形成して、メッシュ状部材１６から基板５に向って処理ガスのラジカルを放出する。 （もっと読む）

【課題】プラズマ処理装置のステージの表面が損傷したとき、上記表面部分だけを容易に交換できるようにする。
【解決手段】ステージ２０を、ステージ本体２１とその上側の表面板２２とに分割する。ステージ２０を挟んで両側には、処理ヘッド１０の移動に用いる一対のレール６１が設けられている。このレール６１上にステージ保守用クレーン３０を設置する。クレーン３０のフレーム３１の一対の支え部３２の下端部にスライダ３４をそれぞれ設け、これをレール６１にスライド可能に嵌合する。フレーム３１の天井部３３に吊具５１を昇降可能に垂下し、これに連結部５２を設ける。好ましくは、連結部５２をボルト５５にて表面板２２の端面に連結する。 （もっと読む）

【課題】大型の処理対象物の表面に対して分布が均一な処理を安価に行うことができる技術を提供する。
【解決手段】基板５に対して相対移動可能に設けられ、処理ガス供給源８から供給された処理ガスを放電させ、当該処理ガスのラジカルを基板５に向って放出するためのラジカル放出器１０を備える。ラジカル放出器１０は、処理ガス供給源８から処理ガスのプラズマがそれぞれ供給され且つ互いの雰囲気が隔離された第１〜第４の拡散室１１〜４１と、第１〜第４の拡散室１１〜４１にて拡散された処理ガスのプラズマを混合するプラズマ形成室５１とを有する。プラズマ形成室５１には、基板５の相対移動方向に対し直交するスリット状のスリット５３が設けられている。 （もっと読む）

【課題】均一なプラズマを励起することが可能なプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】内部に被処理体を載置する真空容器１００と、２つの電極部を有し、真空容器の内部に隙間を設けて配列された複数の電極対２００と、真空容器の内部にプラズマを励起するための電磁波を供給する伝送路とを備え、複数の電極対のそれぞれは、２つの電極部間に形成され、前記伝送路に接続され、前記プラズマ空間に向けてスリット状に開口する導波路２０５と、導波路に挿入され、プラズマ空間に露出する誘電体板２１０とを有し、伝送路から供給された電磁波が、導波路を伝搬した後に誘電体板のプラズマ露出面から真空容器内に放出してプラズマを励起することを特徴とするプラズマ処理装置１０が提供される。 （もっと読む）

【目的】電極とワークとの間で放電が起き難くする。
【解決手段】放電空間４２Ｂとプラズマ出力口１６との間に設けられたプラズマ流出通路の構成要素である個別通路８１Ｂに関して、Ｘ部分８１ＢＸ、Ｚ部分８１ＢＺのＸ部分８１ＢＸＸの接続部Ｍより放電空間側の部分８１ＢＺO、Ｘ部分８１ＢＸＸ、拡散器８２Ｂ、スリット８６等により主通路が構成され、Ｚ方向部分８１ＢＺの接続部Ｍより放電空間とは反対側の部分８１ＢＺＰにより分岐通路が構成される。アース板９０は、分岐通路８１ＢＺＰを塞ぐ状態で設けられる。分岐通路８１ＢＺＰと主通路の部分８１ＢＺＯとは同一直線上に位置するため、アース板９０との間で放電が起き、ワークＷとの間では起き難くすることができる。 （もっと読む）

【目的】放電電極部を処理ガスから保護し、酸化を防止して、寿命を長くする。
【解決手段】電極２２〜２５を電極カバー２２Ｐ〜２５Ｐで覆い、放電開口２２ＨＬ，ＨＲ〜２５ＨＬ，ＨＲ（２２ＨＬ、２５ＨＲは閉塞されている）を設ける。また、放電開口２２ＨＬ，ＨＲ〜２５ＨＬ，ＨＲの上流側で、９０°位相がずれた位置に保護ガス流入口２２Ｑ〜２５Ｑを設ける。保護ガス流入口２２Ｑ〜２５Ｑから流入させられた保護ガスは、放電電極部２２Ｓ〜２５Ｓの周辺を流れて放電空間に流出させられる。放電電極部２２Ｓ〜２５Ｓに保護ガスが供給されるため、放電電極部２２Ｓ〜２５Ｓが処理ガスに接触し難くすることができる。そのため、放電電極部２２Ｓ〜２５Ｓの酸化を抑制し、寿命を長くすることができる。 （もっと読む）

【課題】乾式洗浄媒体の運動速度と清浄度とを高めることにより洗浄品質と洗浄効率とを向上させることができる洗浄媒体を提供する。
【解決手段】気流により飛翔することにより洗浄対象物に衝突して該洗浄対象物Ｗに付着している付着物ｄを除去するために用いられる洗浄媒体であって、上記洗浄媒体Ｍは、平坦面からなる基部から屈曲あるいは湾曲による立ち上がり部を有する可撓性薄片で構成され、基部Ｍの表裏各面と立ち上がり部との間の隙間に気流が進入できるようにすることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ＤＣバイアス電圧に応答した制御を含む、真空プラズマプロセッサ室においてワークピースを加工する方法を提供する。
【解決手段】十分な電力を有するＡＣ電気エネルギーを電極の少なくとも１つに供給することによって室内のガスをプラズマに励起して、電極の少なくとも１つを介してガスに供給されたＡＣ電気エネルギーにより（ａ）供給されたＡＣ電気エネルギーの周波数におけるプラズマ励起ＡＣ電場を第１電極アセンブリと第２電極アセンブリとの間に存在させ（ｂ）ＤＣバイアス電圧を室内のガスがプラズマに励起されるのに応答して電極の少なくとも１つに発生させ、ＤＣバイアス電圧の指示に応答してプラズマ励起ＡＣ電場を制御する。 （もっと読む）

【課題】輸送管内壁への酸化物の付着を低減できる洗浄装置を提供する。
【解決手段】対象物１１に水素ラジカルを供給することによって前記対象物１１を洗浄する洗浄装置２７であって、加熱された触媒１に気体を供給することによって水素ラジカルを生成する生成手段と、前記生成手段から前記対象物１１への気体の供給を制限可能な制限手段と、前記制限手段により気体の供給が制限された状態で、前記触媒１の周囲の気体を前記対象物１１を介さずに排気可能な排気手段と、を備える。 （もっと読む）

【課題】サポートプレートの洗浄後に廃溶液を発生させること無く、且つ安価に処理することが可能なサポートプレートの洗浄方法を実現する。
【解決手段】サポートプレート７にドライアイス粒子４を接触させて、サポートプレート７に付着した有機物および金属を除去する二酸化炭素ブラスト処理工程を含み、サポートプレート７は、基板が剥離された後のサポートプレートである。 （もっと読む）

【課題】供給管からの反応ガスを吹出方向と交差する方向に均一に分布させて吹き出す表面処理用ノズル装置を提供する。
【解決手段】ノズル本体１０の耐反応ガス材料製の部材１２内に導入流路２０を形成し、その両端に反応ガスの供給管３をそれぞれ連ねる。複数の分岐流路２１を導入通路２０から吹出方向の先端側に延ばし拡散室２２に連ねる。拡散室２２内に整流板３０を設け、拡散室２２を整流板３０より基端側の室部２３と先端側の室部２５とに仕切る。整流板３０の両側の連通路２４にて室部２３，２５を連通する。好ましくは、支持部材４０にて整流板３０を支持し、室部２３内にスペーサ５０を設ける。 （もっと読む）

【課題】被処理物から除去した塵埃を粘着捕集できるようにした除電除塵装置を提供すること。
【解決手段】内部に被処理物（ｗ）の作業処理空間（１）が形成されたボックス（２）と、このボックス（２）の作業処理空間（１）内に入れられた被処理物（ｗ）に付着の塵埃を除電、除去するイオン化エアを噴出するイオナイザー（６）と、除去された塵埃を捕集するために作業処理空間（１）内に配置された集塵粘着板（７Ａ，７Ｂ）とを備えており、この集塵粘着板（７Ａ，７Ｂ）には、粘着表面から背面へイオン化エアを流通させる貫通孔（７ａ）を多数形成している。 （もっと読む）

【課題】加速イオンを用いた低温プラズマ浸漬イオンにより様々な試片を加工処理する装置と方法を提供する。
【解決手段】本発明によるプラズマ浸漬イオンを用いた加工装置は、チャンバ内部に円筒形加工物が載置されると共に円筒形加工物の周囲を低温プラズマが囲むようになり、多重スロットを有する抽出電極を含む加工物蓋が円筒形加工物の周囲を覆ってプラズマから分離させ、スパッタリングを誘発するに十分な負電位が円筒形加工物と加工物蓋の抽出電極に付加されることにより、プラズマから出てきたイオンが抽出電極とプラズマとの間に形成されたシース内で加速され、抽出電極のスロットを通過して円筒形加工物に衝突して円筒形加工物の表面粗さを減少させる方式で行われ、本発明による加工装置及び方法は、大面積の円筒形基板、特に、マイクロまたはナノパターン転写技術のための基板表面を数ｎｍの表面粗さにする効果があり、単一または多重チャンバ内でプラズマ洗浄、表面活性、表面研磨、乾式エッチング、蒸着、プラズマ浸漬イオンの注入及び蒸着などの工程を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】被処理物をステージ兼接地電極の固体誘電体層として代用するプラズマ処理装置において、空気の処理空間への微量混入を防止する。
【解決手段】第１ステージ部２１の第１金属表面２１ａを被処理物９にて覆う。第２ステージ部２２の固体誘電体層２５の内側誘電部２６を被処理物９の外周部９ｅにて覆う。処理ヘッド１０をステージ２０に対し相対移動させながら、吹き出しノズル１５から処理ガスを吹き出し、電極１１とステージ２０との間に電界を印加する。ステージ２０には、内側誘電部２６の表面から延びてステージ２０の処理ヘッド１０と対向する側以外の面へ抜ける通気孔２９を設ける。好ましくは、第１ステージ部２１と第２ステージ部２２との対向面どうし間に間隙を形成し、これを通気孔２９とする。 （もっと読む）

プラズマ発生装置は、電力を供給される第１の電極と、第１の電極の前に位置付けされた第２の電極構造を備える。絶縁層が、第１の電極と第２の電極構造の間にはさまれている。第２の電極構造は、ギャップ部分をその間に画定する複数の第２の電極部分を有する。ギャップ部分の幅はｗである。第２の電極部分各々は前表面を有し、さらにギャップ部分各々は前表面を有し、各第２の電極部分の前表面と隣接するギャップ部分の前表面との間の高差はｈであり、さらに、ｈは最大でも１ｍｍで、比ｗ／ｈは少なくとも１である。したがって、第２の電極部分の前表面とギャップ部分の前表面は一緒に滑らかなトポグラフィを形成する。本装置によって発生されたプラズマ（空気または他の酸素含有気体中の）は、オゾンを形成し、そのオゾンは、例えば食品を処理するために使用可能である。滑らかなトポグラフィによって、全てのプラズマが実質的に包装容器の内部に発生するようになり、その包装容器の壁は第２の電極構造の方へ押されている。
（もっと読む）

【課題】減圧処理室内の部材表面から微粒子を飛散させて部材の清浄化を行う。
【解決手段】減圧処理内の部材に付着した微粒子を飛散させて部材を清浄化するために、（１）微粒子を帯電させてクーロン力を利用して飛散させる手段、（２）減圧処理室にガスを導入し、微粒子の付着した部材にガス衝撃波を到達させ、微粒子を飛散させる手段、（３）部材の温度を上昇させ、熱応力及び熱泳動力により微粒子を飛散させる手段、又は（４）部材に機械的振動を与えて微粒子を飛散させる手段を用いる。さらに、飛散させた微粒子を比較的高圧雰囲気でガス流に乗せて除去する。 （もっと読む）

【課題】被処理物の表面処理量を微小にする
【解決手段】拡散室画成部３０の拡散室３３を漏出口３５を介して処理空間１０ａに連ねる。好ましくは、隔壁１５で拡散室３３を処理空間１０ａから隔て、かつ隔壁１５に漏出口３５を設ける。処理ガスの導入路２９の導入口２５を拡散室３３内に開口させる。好ましくは、漏出口３５を、ガス導入方向２５に沿ってまっすぐ下流側の位置Ｐからずらし、より好ましくは、隔壁１５と交差する内壁１７の一箇所が上記位置Ｐになるようにする。す。排気路４９の排気口４１を拡散室３３内に開口させる。好ましくは、排気口４１を拡散室３３における漏出口３５の側とは反対側に設ける。 （もっと読む）

【課題】除塵機能と排気機能とをともに持たせたハンディタイプの除塵システムを提供する。
【解決手段】加圧エア供給源４０から供給される加圧エアに対し、高電圧を印加することによりイオン化してイオン化エアを噴射するイオナイザ１０を用いる除塵システム１であって、加圧エア供給源４０から供給される加圧エアにより真空を発生する真空発生器２２と、真空発生器２２の吸引口に接続される吸引部２３と、を有する真空発生ユニット２０を備える。真空発生ユニット２０は、イオナイザ１０から噴射されたイオン化エアが除塵対象物７０に噴射されて飛散した塵埃を含む排気エアを、真空発生ユニット２０の吸引部２３を通じて吸引する。 （もっと読む）

【課題】スリッター刃の外周端縁に付着するスリッター粉を除去可能な除塵装置を提供する。
【解決手段】スリッター刃１の外周端縁11が走行通過するスリット溝７を凹設し、このスリット溝７の内面７Ａに、噴出孔12及び吸入孔14を配設する。 （もっと読む）