【課題】出力電力を所望の値に精度よく制御し得る高周波増幅装置を提供する。
【解決手段】準マイクロ波帯およびマイクロ波帯などの高周波帯の高周波信号Ｓ１を増幅して出力ライン２１に出力する増幅器１３と、出力ライン２１に介装されて増幅器１３によって出力ライン２１に出力された高周波信号Ｓ２の進行波成分Ｓｔを検出する方向性結合器１５と、方向性結合器１５によって検出された進行波成分Ｓｔに基づいて増幅器１３の利得を制御する第１制御部１６とを備えた高周波増幅器１であって、出力ライン２１における増幅器１３と方向性結合器１５との間の部位にアイソレータ１４が配設されている。 （もっと読む）

【課題】プラズマの電気アークと異常な放電を抑制し、基板の表面処理の質を改善するジェットプラズマ銃とそれを用いたプラズマ装置を提供する。
【解決手段】ジェットプラズマ銃は、基板１３０の表面を処理するためのプラズマ１１０を噴出させる。前記ジェットプラズマ銃は、プラズマ生成部１７１と、プラズマノズル１７３と、障壁２７５とを有しており、プラズマ生成部１７１はプラズマを生成し、基板１３０とプラズマ生成部１７１の間に配設されたプラズマノズル１７３は、プラズマ生成部１７１に対向する第１の開口部と、基板１３０に対向する第２の開口部を備えている。プラズマノズル１７３と基板１３０との間に配される絶縁体とされる障壁２７５は、前記第２の開口部に連通する通孔を有する。プラズマ１１０は前記通孔とプラズマノズル１７３を介して基板１３０に到達する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、レジスト剥離後に、静電気で引き寄せられて再付着したゴミを洗浄するためのマスク洗浄装置及びマスク洗浄方法を提供することを目的とするものである。
【解決手段】本発明は、プラズマアッシャーでマスクからレジストを剥離するドライ洗浄機と、前記ドライ洗浄機でレジストを剥離した後、マスクにオゾン水をかけながら２２２ｎｍＵＶ光を照射してレジストを除去するオゾン水洗浄機と、前記オゾン水洗浄機で洗浄した後、薬剤とブラシによりパーティクルを除去するＳＣ−１洗浄機と、前記ＳＣ−１洗浄機で洗浄した後、１７２ｎｍＵＶ光を照射してレジスト残渣及びフッ素樹脂のパーティクルを除去するＵＶ洗浄機と、前記ＵＶ洗浄機で洗浄した後、オゾン水と純水でマスクを濯ぐ最終洗浄機と、前記最終洗浄機で洗浄した後、加温又は冷却することによりマスクを乾燥させる乾燥機とからなることを特徴とするマスク洗浄装置の構成とした。 （もっと読む）

【課題】基板の被洗浄表面を基板の一度の相対移動工程中に確実に洗浄することができる基板洗浄装置及び洗浄方法を提供する。
【解決手段】基板１の被洗浄表面を洗浄する複数の洗浄手段４、５、６が並列して配設されるとともに基板１の被洗浄表面を複数の洗浄手段４、５、６に対して相対移動させる移動手段３を備え、複数の洗浄手段４、５、６を構成する第１の洗浄手段は、大気圧プラズマを吹き出すプラズマ洗浄手段６であり、プラズマ洗浄手段６は、第１の不活性ガスの誘導結合型プラズマからなる一次プラズマ３６を吹き出す誘導結合型プラズマ発生部３３と、第２の不活性ガスと反応性ガスの混合ガス領域４０に一次プラズマ３６を衝突させてプラズマ化した混合ガスから成る二次プラズマ４１を発生するプラズマ展開部３７とを有している。 （もっと読む）

【課題】異物の再付着が少なく、光学部品の表面に付着してある異物を短時間で除去可能な光学部品清掃具を提供すること。
【解決手段】この光学部品清掃具３０は、光学部品２４の表面に付着している異物の一種である有機物６０の付着力を低下させる有機物除去容易化部材４７と、前記付着力を低下させた有機物を前記光学部品の表面から除去可能な除去部材４６と、を有する。 （もっと読む）

【課題】
接点材料の表面全面を洗浄することができ、しかも、多数個の接点材料を連続的に効率よく洗浄することができる接点材料の表面洗浄装置を提供する。
【解決手段】
絶縁材料で形成された複数の反応容器１の片側を吹き出し口２として開放する。希ガスと反応性ガスをプラズマ生成用ガスとして各反応容器１に導入すると共に大気圧近傍の圧力下で各反応容器１内にグロー放電を発生させる。これらのグロー放電により生成されるプラズマ５をプラズマジェットとして各反応容器１の吹き出し口２からそれぞれ吹き出して接点材料６の表面に供給することによって接点材料６の表面の汚染物を除去する。 （もっと読む）

【課題】スペース効率が良好でコンパクトな基板処理装置を提供する。
【解決手段】ウエハにスパッタリングを施すスパッタリング室１２と、スパッタリング室
１２内に収納されウエハ１を保持するウエハチャック２０と、ウエハ１を保持したウエハ
チャック２０を回転させる回転機構２１と、ウエハ１に向けてイオンビーム３６を照射す
るミリング用イオン源３０とを備えており、ミリング用イオン源３０のミリング用電極３
２を短辺側がウエハの外径より小さい矩形形状に形成し、このミリング用電極３２の開口部３３の開口率をウエハの中心側より周辺側が大きくなるように設定する。ミリング加工時にウエハを回転させつつイオンビームをウエハに照射すると、ミリング加工量をウエハ全面で均一化できる。ミリング用イオン源のサイズを小さくできるので、スペース効率を向上させてスパッタリング装置を小型化できる。 （もっと読む）

本発明は、大気圧のもとで生成されたプラズマで表面を処理するための装置および方法に関する。本発明の装置は、持ち運び可能な手持ち機器として構成されており、当該装置は、プラズマビーム（１８）を生成するプラズマノズル（１６）を有しており、当該プラズマノズルは、ノズル開口部（１７）と、当該ノズル開口部の上流側に配置された少なくとも１つの電極−対向電極対（２７、２８）を含んでおり、当該電極対の作用電極表面はそれぞれ誘電性コーティング（２９、３０）を有しており、ここで前記電極（２７）と前記対向電極（２８）の間には、作動空間（３４）が定められており、当該作動空間内では作動ガスが誘電体バリアガス放電によって、少なくとも部分的にイオン化され、当該装置は、前記電極−対向電極対（２７、２８）と電気的に接続されている高電圧発生器（１９、２０）を有しており、前記装置は圧送手段（１５）を有しており、当該圧送手段は、作動ガス源から前記作動空間（３４）内へ、および前記ノズル開口部（１７）を通るガスフローを形成し、ここで、前記作動ガス源は、周辺空気であり、前記装置は、前記高電圧発生器（１９、２０）および前記圧送手段（１９）を給電する、給電網に依存しないエネルギー源（１２）を有している。
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【課題】基板の被洗浄表面上に付着あるいは析出した種類の異なる異物を基板の一度の相対移動工程中に確実に除去して洗浄できる基板洗浄装置及び洗浄方法を提供する。
【解決手段】基板１の被洗浄表面に向けて大気圧プラズマの二次プラズマを吹き出すプラズマ洗浄手段５と、プラズマ洗浄手段５と並列して配設され、テープ状の洗浄クロス１２にて基板１の被洗浄表面を拭き取り洗浄する拭取洗浄手段４と、基板１の被洗浄表面をプラズマ洗浄手段５と拭取洗浄手段４の並列方向に相対移動させる移動手段３とを備え、拭取洗浄手段４は洗浄クロス１２にオゾン水を含浸させる手段を有している。 （もっと読む）

【課題】被処理物表面に対する親水化の処理効率を向上させる。
【解決手段】第１プラズマ生成部１１の第１電極１２，１２間に略大気圧の第１の放電空間１５を形成し、そこに第１処理ガスの窒素（Ｎ_２）を通してプラズマ化し、紫外領域の発光性を付与する。一方、第２空間形成部２１の第２空間２５で第２処理ガスの酸素（Ｏ_２）をオゾン化又はラジカル化して酸化能を付与又は強化する。第１放電空間１５を通過後の第１処理ガスを噴出部３０の第１噴出路３３から処理位置Ｐへ噴き付けるとともに、第２空間２５からの第２処理ガスを処理位置Ｐの近傍で前記第１処理ガスと合流させながら処理位置Ｐへ噴き付ける。第１放電空間１５を、第２空間２５より処理位置Ｐの近くに配置する。 （もっと読む）

【課題】大気圧下での多湿放電から発生する水酸基ラジカルを積極的に利用することで、高速処理が可能でかつ、環境にやさしい放電表面処理装置およびその方法を提供する。
【解決手段】 高電圧電極7と、前記高電圧電極に対向して配置され、前記高電圧電極との間にプラズマ生成領域18を形成する接地電極12A,12Bとを有し、前記高電圧電極と前記接地電極の少なくとも一方が誘電体で覆われた放電部10A,10Bと、前記高電圧電極と前記接地電極との間に高電圧を印加する高電圧電源5と、前記プラズマ生成領域にガスを供給するガス供給部3と、前記ガス供給部から供給されるガスに湿分を付与して多湿ガスとする多湿化装置2と、を具備し、前記高電圧電極7は、該高電圧電極7から前記接地電極12A,12Bまでの距離Ｃの５％以上の曲率半径で処理対象側の端部が凸曲面加工されている。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ表示装置の蒸着工程における蒸着マスクの洗浄蒸着装置とインラインで行い、蒸着マスクの使用回数を増大させる。
【解決手段】蒸着を終わったマスク２１０はクリーニング準備室２０１に移動し、その後、大気圧であるクリーニング室２０２に移動する。クリーニング室２０２において、マスクにレーザを照射し、これによって生じた衝撃波によってマスク２１０に付着した堆積物を剥離する。剥離した堆積物はクリーナ２０８によって除去される。その後、マスク２１０はフラッシング室２０３に移動し、クリーニング室２０２で除去しきれなかった剥離物をマスク２１０から除去する。その後マスク２１０はマスク排出室２０４に移動し、次の蒸着を行う。 （もっと読む）

【課題】マイクロ波を用いたプラズマ発生装置において、導波管内部における放電現象の発生を簡単且つ確実に防止する。
【解決手段】プラズマ発生装置ＰＵは、マイクロ波μを発生するマイクロ波発生装置１０、このマイクロ波発生装置１０に接続され前記マイクロ波μを伝搬させる導波管２０、及び、該導波管２０に設けられたプラズマ発生部３０を備える。プラズマ発生部３０は、マイクロ波μを受信する棒状のアンテナ４０を有する。アンテナ４０は、導波管２０の内部に導入される第１端部４１の側と、導波管２０の外部へ突出する第２端部４２の側とを含む。そして、第１端部４１が接地され、第２端部４２において処理ガスにマイクロ波μのエネルギーを与える。 （もっと読む）

【課題】紫外線透過窓の取り外しや、紫外線源の位置調整を行う必要を実質的に無くすような、連続的自動制御可能な紫外線樹脂硬化装置内部の乾式洗浄方法。
【解決手段】乾式洗浄機能付き紫外線樹脂硬化装置１００は、硬化用筐体１０内部に酸素ボンベ５０から酸素を供給しながら、紫外線透過窓２０を介して紫外線源３０から波長約１８５ｎｍ及び２５４ｎｍの紫外線を照射する。これにより、硬化用筐体１０内部の酸素分子から、オゾンや高エネルギー状態の¹Ｄ状態の酸素原子が生成し、紫外線透過窓２０の内面２０１に付着した有機物から成る汚れ７を低分子成分に分解する。汚れ７から生成した低分子成分は、酸素分子と共に排気手段６０に排出される。 （もっと読む）

【課題】オゾンにより床面の汚れを消臭除菌する汚れ分解装置において、汚れ分解を効率良く行う共に、安全性の向上を図る。
【解決手段】汚れ分解装置１は、筐体２と、筐体２の凹部１０内にオゾンを供給するオゾン発生部４と、凹部１０内の気圧を減圧する減圧部５と、凹部１０内の気圧を測る気圧センサ部６とを備え、使用状態において、筐体２の底面部８と汚れ７０を含む床面６０とを接触させることにより凹部１０が密閉した空間９を形成する。減圧部５は、オゾン発生部４がオゾンの供給を開始する前に、空間９内の気圧を外部の大気圧より低くなるように減圧する。これにより、筐体２の底面部８と床面６０とが強く密着されて空間９の密閉性が良くなるので、オゾン供給後の空間９内からのオゾンの漏出が抑制され、空間９内のオゾン濃度の低下が防止されて床面６０の汚れ分解を効率良く行うことができると共に、安全性が向上する。 （もっと読む）

本発明は、処理ゾーン２を有する真空チャンバを実質的に連続的に移動して通過する金属基板又は絶縁基板３をプラズマ処理するための方法及びデバイスに関し、プラズマは、無線周波発生器に接続されるインダクタ４による処理ゾーン２内での無線周波誘導結合によって維持され、インダクタ４は、プラズマとインダクタ４の間に配置されるファラデー・ケージ７によって、基板３の表面によって放出される物質によるあらゆる汚染から保護され、ファラデー・ケージ７は、平均すると、プラズマ中に存在する基板３に対して、或いは対電極に対して電気的に正にバイアスされる。
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【課題】 紫外線ランプが固定された基板が撓むことがなく、紫外線ランプと被処理物との離間距離を一定に保つことができ、被加熱物を均一に処理することができる紫外線照射装置を提供することにある。
【解決手段】 本発明の紫外線照射装置は、上方に開口を有する処理室９の上部に配置される管形の紫外線ランプ１を有する紫外線照射装置Ｄ１であって、この紫外線照射装置Ｄ１は、紫外線ランプ１を支持する基板２と、紫外線ランプ１を点灯させるための点灯手段４１，４２と、点灯手段４１，４２が載置された架設板５を有し、基板２の紫外線ランプ１の管軸方向の両端Ａが、処理室９に設けられた紫外線照射装置を支持する支持体９３上に載置され、架設板５の中央部分が基板２から離間しており、架設板５の自重が、支持体９３上にかかっていることを特徴とする。 （もっと読む）

この方法は、少なくとも一つの部品（１）が、個々のソース（２）の少なくとも一つの固定された線形行に関する少なくとも一つの回転運動を受けることよりなり、前記線形行または個々のソース（２）の行は、前記回転軸または前記部品の軸に平行となるように配置されている。
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【課題】ランプハウスの窓材の清掃作業が簡単に行える紫外線照射装置を提供する。
【解決手段】本発明の紫外線照射装置は、ランプ管の中心軸に沿い内部電極が設置され、ランプ管の外周の半周面に渡り、内部電極に対向するように外部電極１１が設置されている紫外線ランプ１と、下面側に窓材５を備え、紫外線ランプ１を収容するランプハウス１０と、ランプハウスを収納する装置筐体２０とを備え、ランプハウスを装置筐体に対して、ランプ軸方向の回転軸３１の周りに紫外線ランプの紫外線放出面が下方を向く姿勢と上方を向く姿勢との間で回転させ、かつ当該姿勢それぞれにて保持できる回転機構３０により支持させたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】装置外部への高周波（電磁波）の漏洩を低減し得るプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】準マイクロ波帯またはマイクロ波帯の高周波信号Ｓ１を生成して出力する高周波電源２と、グランド電位が付与されると共に一方の端部が開放端に形成され、内部に放電用ガスＧが供給される筒状の筐体１１と、筐体１１内にその筒長方向に沿って配設され、高周波信号Ｓ１を入力して放射することによって開放端側の先端近傍にプラズマＰを発生させると共にこの発生したプラズマＰを開放端から大気中に放射させる柱状の放射器１４と、開放端から高周波信号Ｓ１の波長の１／４未満の距離Ｌ３の位置に処理対象体８を供給する供給部４とを備えている。 （もっと読む）